公开(公告)号：WO2012084457A2

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：PCT/EP2011071610

申请日：2011-12-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  MULCKHUYSE WOUTER ,  DE JAGER PIETER ,  VAN ZWET ERWIN

Inventor： MULCKHUYSE WOUTER ,  DE JAGER PIETER ,  VAN ZWET ERWIN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70508 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558

Abstract: A system for controlling a patterning device in a lithographic apparatus using a patterning device having individually controllable elements that may only be set to two states. The method includes converting a representation of a pattern to be formed on the substrate into a plurality of area intensity signals, each corresponding to a radiation intensity level required to be set in a respective area of the patterning device in order to provide the desired pattern on the substrate and a separate step of converting each of the area intensity signals into control signals for a plurality of individually controllable elements that each correspond to the area of the patterning device.

Abstract translation: 一种用于使用具有单独可控元件的图案形成装置来控制光刻设备中的图案形成装置的系统，该单独可控元件仅可设置为两种状态。 该方法包括将要形成在衬底上的图案的表示转换成多个区域强度信号，每个区域强度信号对应于需要设置在图案形成装置的相应区域中的辐射强度水平，以便提供期望的图案 基板和单独的步骤，将每个区域强度信号转换成多个独立可控元件的控制信号，每个对应于图案形成装置的区域。

公开(公告)号：NL2007918A

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：NL2007918

申请日：2011-12-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MULCKHUYSE WOUTER ,  ZWET ERWIN ,  JAGER PIETER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2009817A

公开(公告)日：2013-06-10

申请号：NL2009817

申请日：2012-11-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： TINNEMANS PATRICIUS ,  MULCKHUYSE WOUTER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2006259A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：NL2006259

申请日：2011-02-18

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MULCKHUYSE WOUTER ,  JAGER PIETER ,  ONVLEE JOHANNES ,  ZWET ERWIN

IPC: G03F7/20