公开(公告)号：KR20180030197A

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：KR20187004719

申请日：2016-07-05

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VAN DER POST SIETSE THIJMEN ,  ZIJP FERRY ,  ROOBOL SANDER BAS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625

Abstract: 타겟으로부터의갭에서광학구성요소를이용하여측정되는타겟에대한방사선세기분포를수반하는방법이개시되며, 상기방법은: 측정된방사선세기분포및 타겟을설명하는수학적모델을이용하여관심파라미터의값을결정하는단계를포함하고, 상기모델은광학구성요소의표면또는그 일부분의거칠기에대한유효매질근사를포함한다.

Abstract translation: 公开了一种方法，该方法涉及使用在距目标的间隙中的光学部件测量的目标的辐射强度分布，该方法包括：使用描述测量的辐射强度分布和目标的数学模型， 其中该模型包括对光学部件或其一部分的表面的粗糙度的有效介质近似。

公开(公告)号：KR20200127045A

公开(公告)日：2020-11-09

申请号：KR20207030858

申请日：2017-04-11

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： TINNEMANS PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS ,  MATHIJSSEN SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  ROOBOL SANDER BAS ,  LIN NAN

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/47 ,  G01N21/88 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/66

Abstract: 관심구조체(T)는예컨대 x-선또는 EUV 파장대역에서방사선으로조사되고, 산란된방사선은검출기(19, 274, 908, 1012)에의해검출된다. 프로세서(PU)는예컨대방사선과구조체간의상호작용을시뮬레이션하는단계(S16) 및상기검출된방사선과상기시뮬레이션된 상호작용을비교하는단계(S17)에의해라인폭(CD) 또는오버레이(OV)와같은특성을계산한다. 이방법은검사방사선에의해야기된상기구조체의변화들을고려하여수정된다(S14a, S15a, S19a). 이러한변화들은예컨대재료의수축또는광학특성들의변화일수 있다. 상기변화들은현재관측또는이전관측에서검사방사선에의해야기될수 있다.