公开(公告)号：KR20180008756A

公开(公告)日：2018-01-24

申请号：KR20177036449

申请日：2016-05-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SOETHOUDT ABRAHAM ALEXANDER ,  POIESZ THOMAS

IPC: G03F7/20 ,  B01D53/34 ,  B01D53/56 ,  B01D53/79 ,  B05B5/08 ,  B05B13/02 ,  B05B13/04 ,  B05B13/06 ,  F23J15/00

CPC classification number: B01D53/56 ,  B01D53/346 ,  B01D53/79 ,  B01D2251/2062 ,  B01D2251/2067 ,  B01D2257/402 ,  B01D2257/404 ,  B01D2258/0283 ,  B01D2259/124 ,  B05B13/0278 ,  B05B13/041 ,  B05B13/0627 ,  B05B15/656 ,  B05B15/68 ,  F23J15/003 ,  F23J2219/20 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783 ,  Y02C20/10

Abstract: 리소그래피장치는지지테이블및 가스추출시스템을포함한다. 가스추출시스템은, 기판이지지테이블상에하강되고있을때 지지테이블의베이스면과기판사이의갭으로부터적어도하나의가스추출구를통해가스를추출하도록구성된다. 리소그래피장치는, 기판과지지평면사이의거리가임계거리보다긴 경우가스가갭으로부터제 1 로딩유량으로추출되고, 기판과지지평면사이의거리가임계거리보다짧은경우가스가갭으로부터제 2 로딩유량으로추출되도록구성되는데, 제 2 로딩유량은제 1 로딩유량보다적다.

Abstract translation: 光刻设备包括支撑台和气体抽取系统。 气体排出系统被配置为通过从所述底表面之间的间隙的气体排出口，当该表被降低到支撑台和基片以提取至少基板支撑气体。 的光刻设备，该基板与支撑，当平面大于临界距离时，和气体之间的距离与从所述缝隙的第一装载流速萃取，当所述基板和所述支承面之间的距离是从该气体间隙第二装载流动速率大于阈值距离更短的 其中第二加载流量小于第一加载流量。

公开(公告)号：JP2009170874A

公开(公告)日：2009-07-30

申请号：JP2008264460

申请日：2008-10-10

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： ALBERTI JOZEF AUGUSTINUS MARIA ,  VAN NUNEN GERARDUS PETRUS MATT ,  GROENSMIT FRANS ERIK ,  COMPEN RENE THEODORUS PETRUS ,  SOETHOUDT ABRAHAM ALEXANDER

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G03F7/70633

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate arranging method having improved arrangement accuracy relative to known ones until now; a substrate transferring method; and a transferring system. SOLUTION: This invention is related to a method of arranging a substrate on a surface of a substrate holder provided with a plurality of bars. In this method, substrate arrangement data for allowing the substrate to be arranged at a specific position with respect to the positions of the plurality of bars located on a surface of the substrate holder are first calculated. Then, the substrate is arranged at the specific position in accordance with the substrate arrangement data. The specific position is based on an arrangement position to minimize an overlay error or based on an arrangement position to minimize deformation of the substrate. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种相对于迄今已知的布置精度提高的基片布置方法; 基板转印方法; 和转移系统。 解决方案：本发明涉及将衬底布置在设置有多个条的衬底保持器的表面上的方法。 在该方法中，首先计算用于使基板相对于位于基板保持件的表面上的多个条的位置的特定位置配置的基板布置数据。 然后，基板根据基板布置数据布置在特定位置。 具体位置基于布置位置，以最小化覆盖误差或者基于布置位置以最小化基板的变形。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：NL1036040A1

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：NL1036040

申请日：2008-10-09

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： ALBERTI JOZEF AUGUSTINUS MARIA ,  NUNEN GERARDUS PETRUS MATTHIJS ,  GROENSMIT FRANS ERIK ,  COMPEN RENE THEODORUS PETRUS ,  SOETHOUDT ABRAHAM ALEXANDER

IPC: H01L21/68 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00