公开(公告)号：CA2330689A1

公开(公告)日：1999-11-04

申请号：CA2330689

申请日：1999-04-20

Applicant: BREWER SCIENCE INC

Inventor： BREWER TERRY LOWELL ,  SHAO XIE ,  MEADOR JIM D

IPC: G03F7/11 ,  C08B15/06 ,  C08L1/10 ,  C08L1/26 ,  C08L61/32 ,  C09D5/00 ,  C09D101/08 ,  C09D101/14 ,  C09D161/20 ,  G02B1/11 ,  G03F7/09 ,  C08L1/12 ,  C08L1/14

Abstract: Anti-reflective compostions are prepared from cellulosic binders and alkylat ed aminoplast cross-linking agents derived from melamine, urea, benzoguanamine or glycoluril. These compositions are used to form bottom anti-reflective layer s with high plasma etch selectivity when used in multilayer photoresist processes.

公开(公告)号：DE3788440T2

公开(公告)日：1994-05-11

申请号：DE3788440

申请日：1987-02-04

Applicant: BREWER SCIENCE INC

Inventor： HUNNINGHAKE JEFFREY ,  BREWER TERRY LOWELL ,  LATHAM WILLIAM JOSEPH

IPC: G03F1/00 ,  C08G73/06 ,  C09D5/00 ,  C09D5/32 ,  C09D179/08 ,  G02F1/1335 ,  G03F1/08 ,  G03F1/10 ,  G03F7/09 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  G02B5/22 ,  G02F1/13

公开(公告)号：DE3788440D1

公开(公告)日：1994-01-27

申请号：DE3788440

申请日：1987-02-04

Applicant: BREWER SCIENCE INC

Inventor： HUNNINGHAKE JEFFREY ,  BREWER TERRY LOWELL ,  LATHAM WILLIAM JOSEPH

IPC: G03F1/00 ,  C08G73/06 ,  C09D5/00 ,  C09D5/32 ,  C09D179/08 ,  G02F1/1335 ,  G03F1/08 ,  G03F1/10 ,  G03F7/09 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  G02B5/22 ,  G02F1/13

公开(公告)号：AT98789T

公开(公告)日：1994-01-15

申请号：AT87301002

申请日：1987-02-04

Applicant: BREWER SCIENCE INC

Inventor： HUNNINGHAKE JEFFREY ,  BREWER TERRY LOWELL ,  LATHAM WILLIAM JOSEPH

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/00 ,  G02B5/22 ,  G02F1/13 ,  G03F1/00

公开(公告)号：EP1090332A4

公开(公告)日：2001-08-29

申请号：EP99921436

申请日：1999-04-20

Applicant: BREWER SCIENCE INC

Inventor： SHAO XIE ,  MEADOR JIM D ,  BREWER TERRY LOWELL

IPC: G03F7/11 ,  C08B15/06 ,  C08L1/10 ,  C08L1/26 ,  C08L61/32 ,  C09D5/00 ,  C09D101/08 ,  C09D101/14 ,  C09D161/20 ,  G02B1/11 ,  G03F7/09 ,  C09D101/10

CPC classification number: C09D101/14 ,  G02B1/111 ,  G03F7/091

Abstract: Anti-reflective compostions are prepared from cellulosic binders and alkylated aminoplast cross-linking agents derived from melamine, urea, benzoguanamine or glycoluril. These compositions are used to form bottom anti-reflective layers with high plasma etch selectivity when used in multilayer photoresist processes.