公开(公告)号：SG11201807161RA

公开(公告)日：2018-09-27

申请号：SG11201807161R

申请日：2017-02-17

Applicant: CANON KK

Inventor： MATSUOKA YOICHI ,  YAMAMOTO KIYOHITO ,  AZUMA HISANOBU ,  TERASHIMA SHIGERU ,  MAEDA TOSHIHIRO ,  YONEKAWA MASAMI ,  EMOTO KEIJI ,  NAKAGAWA KAZUKI

IPC: H01L21/027 ,  B29C33/72 ,  B29C59/02 ,  H01L21/304

Abstract: An imprint apparatus forms a pattern on a substrate (101) by curing an imprint material on the substrate while the imprint material is in contact with a mold. The imprint apparatus includes a substrate chuck (102) having a substrate holding region for holding the substrate, a peripheral member (113) arranged to 5 surround the side surface of the substrate held by the substrate chuck, and a control unit configured to control a cleaning process for cleaning at least a partial region of the peripheral member by using a cleaning member (170) including a charging unit. The cleaning process includes an operation for attracting a particle in the partial region to the charging unit by moving the cleaning member 10 relative to the peripheral member while the charging unit faces at least the partial region of the peripheral member.

公开(公告)号：JP2015179771A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2014057111

申请日：2014-03-19

Applicant: CANON KK

Inventor： MAEDA TOSHIHIRO ,  MATSUOKA YOICHI

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

Abstract: 【課題】インプリント材を基板上の目標領域内に正確に供給するために有利な技術を提供する。【解決手段】パターンが形成されたモールドを用いて、基板上のインプリント材を成形するインプリント装置は、前記基板上に前記インプリント材が供給されるように前記インプリント材を吐出する吐出部と、前記吐出部から吐出された前記インプリント材の動きが調整されるように、前記吐出部と前記基板との間の空間における気体の流れを制御する気体制御部と、前記吐出部から吐出された前記インプリント材が前記基板上の目標領域内に供給されるように前記気体制御部を制御する制御部とを含む。【選択図】図1