公开(公告)号：FR3153659A1

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：FR2310472

申请日：2023-09-29

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE ,  PHAM PASCALE

IPC: G01N21/17 ,  G01N29/036 ,  G01N29/22 ,  G01N29/24

Abstract: Dispositif de détection d’un gaz d’intérêt émis par un objet, destiné à être disposé sur un objet, le gaz d’intérêt absorbant la lumière dans une bande spectrale d’absorption, le dispositif comportant : une face de contact, configurée pour être disposée contre l’objet, et configurée pour permettre un passage du gaz d'intérêt émis par l’objet; une chambre de collecte, débouchant sur la face de contact, et délimitée par une paroi latérale, la paroi latérale s’étendant autour d’un axe transversal, perpendiculaire à la face de contact ; une ouverture d’admission, formant une admission d'air, ménagée à travers la paroi latérale, configurée pour admettre de l'air ambiant dans la chambre de collecte ; un capteur de gaz photoacoustique. Figure 1A.

公开(公告)号：FR3041118A1

公开(公告)日：2017-03-17

申请号：FR1558623

申请日：2015-09-15

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE ,  LANDIS STEPHAN

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/02

Abstract: Selon un mode de réalisation l'invention porte sur un moule (100) de lithographie pour impression nanométrique, comprenant une face avant (111) présentant au moins un motif (120) destiné à être transféré par pressage dans une couche (150) imprimable, caractérisé en ce qu'il comprend: au moins une membrane flexible (110) en matériau inorganique formant ladite face avant (111) et portant l'au moins un motif (120), la membrane (110) présentant également une face arrière (112) opposée à ladite face avant (111); un cadre (130) solidaire d'une périphérie de la membrane (110) et configuré pour former avec ladite face arrière (112) au moins une cavité (115); le moule (100) étant configuré de manière à ce qu'une mise sous pression (140) de l'au moins une cavité (115) provoque une déformation de la membrane (110) générant un déplacement de l'au moins un motif (120) dans un sens d'impression éloignant l'au moins un motif (120) du cadre (130). L'invention porte également sur un procédé d'utilisation et sur un procédé de fabrication d'un tel moule.

公开(公告)号：FR3006499B1

公开(公告)日：2016-11-25

申请号：FR1354992

申请日：2013-05-31

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE

IPC: H01J37/12

公开(公告)号：FR2953991B1

公开(公告)日：2012-01-06

申请号：FR0905975

申请日：2009-12-10

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： WACQUEZ ROMAIN ,  CONSTANCIAS CHRISTOPHE ,  CORONEL PHILIPPE

IPC: H01L21/56 ,  B05D3/06 ,  B05D7/22 ,  B32B27/16

公开(公告)号：FR2953991A1

公开(公告)日：2011-06-17

申请号：FR0905975

申请日：2009-12-10

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： WACQUEZ ROMAIN ,  CONSTANCIAS CHRISTOPHE ,  CORONEL PHILIPPE

IPC: B05D3/06 ,  H01L21/56 ,  B05D7/22 ,  B32B27/16

Abstract: La cavité a des première (3a) et seconde (3b) parois principales recouvertes par une résine. La résine est soumise à un rayonnement électronique ou électromagnétique de longueur d'onde comprise entre 12,5 et 15nm. Une première épaisseur de la résine est insolée pour former une première zone en matériau sacrificiel et une seconde zone de nature différente définissant le revêtement de surface (9). Le matériau sacrificiel (7) est éliminé, le revêtement de surface (9) est formé et a une face contre une des parois principales (3) et une face opposée libre. Les dimensions latérales du revêtement de surface (9) sont définies dans la cavité (1) par le rayonnement à travers la première paroi principale (3a).

公开(公告)号：FR2951288A1

公开(公告)日：2011-04-15

申请号：FR0904848

申请日：2009-10-09

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： IMBERT JEAN LOUIS ,  CONSTANCIAS CHRISTOPHE

IPC: G03F1/24 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: L'invention concerne les masque de photolithographie en extrême ultraviolet. Le masque selon l'invention fonctionne en transmission et il comporte un cadre rigide (10), de préférence en silicium, percé d'une ou plusieurs ouvertures (121 à 124), recouvertes chacune d'une membrane très mince en silicium d'une épaisseur de 300 nanomètres au maximum. La membrane de silicium porte une couche de masquage gravée selon un motif désiré. L'exposition d'une couche photosensible se fait successivement à travers trois ou quatre masques dont les ouvertures se complètent pour exposer toute la surface photosensible, y compris là où elle est masquée par le cadre de silicium de l'un ou l'autre masque.

公开(公告)号：FR2899697B1

公开(公告)日：2009-11-27

申请号：FR0603108

申请日：2006-04-07

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20

公开(公告)号：FR2894346A1

公开(公告)日：2007-06-08

申请号：FR0512255

申请日：2005-12-02

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE

IPC: G02B5/00 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  H01S3/101

Abstract: L'invention concerne les masque de photolithographie en extrême ultraviolet, fonctionnant en réflexion.Ces masques comportent un miroir inférieur (22) recouvrant un substrat 20, et des zones absorbantes formées sur le miroir inférieur selon un motif gravé définissant le motif à reproduire.Selon l'invention, les zones absorbantes sont formées par des cavités de Fabry-Pérot, résonantes et présentant un pic d'absorption fort pour la longueur d'onde d'utilisation. Les cavités sont formées par le miroir inférieur (22), un miroir supérieur (24), et, entre les miroirs, un milieu transparent dont l'épaisseur est calculée pour produire un pic d'absorption à la longueur d'onde d'utilisation. Le milieu peut être constitué par du silicium (27) ou par une superposition d'une couche mince d'oxyde de silicium (formant couche tampon pour faciliter la gravure) et une couche de silicium.

公开(公告)号：FR3105843A1

公开(公告)日：2021-07-02

申请号：FR1915636

申请日：2019-12-26

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE

IPC: G03H1/04 ,  G01N15/14 ,  G03H1/08

Abstract: Titre Dispositif pour réaliser une image d’un objet par holographie Dispositif de détection d’au moins un objet (21) par exemple présent dans un échantillon (20), le dispositif comportant :- une source de lumière (10) configurée pour émettre au moins une onde incidente (11) à une longueur d'onde λ,- un volume de détection destiné à recevoir l’objet (21), et à recevoir l’au moins une onde incidente (11),- un capteur d'image (40), positionné pour recevoir au moins une onde lumineuse diffusée (13) obtenue par diffraction de l’onde incidente (11) sur l’objet (21) et une onde de référence (12) issue de la source (10) et n’ayant pas diffracté sur l’objet (21) et pour générer une image holographique (41), un dispositif informatique (61) de traitement de données configuré pour reconstruire numériquement l’objet en fonction au moins de l’image holographique (41) et de la longueur d'onde λ. Le dispositif comprend également un support (30), comprenant des motifs (31) organisés pour former au moins un réseau (32) de diffraction, le réseau (32) étant périodique et présentant un pas P, tel que λ/2≤ P ≤2λ. Figure pour l’abrégé : Fig 4.

公开(公告)号：FR3052910B1

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：FR1655610

申请日：2016-06-16

Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE

Inventor： CONSTANCIAS CHRISTOPHE

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/317