-
公开(公告)号：CN104681383A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201410660475.3
申请日：2014-11-19
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/26 , H01J37/153
CPC classification number: H01J37/263 , B08B7/00 , H01J37/26 , H01J2237/022 , H01J2237/2614 , H01J37/153 , H01J37/261
Abstract: 本发明涉及一种用于清洁用于透射式电子显微镜的相位板（1）的方法，其中，在第一次在TEM中照射之前对所述相位板进行蚀刻，并且然后保持在超高纯保持气氛中直至TEM中的照射为止。
Search Results
1
records
(took 0.022 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
