KOMPLEMENTÄRE FELDEFFEKTTRANSISTOREN INTEGRIERENDE STRUKTUREN UND SRAM-BITZELLEN

    公开(公告)号:DE102020201378A1

    公开(公告)日:2020-09-10

    申请号:DE102020201378

    申请日:2020-02-05

    Abstract: Strukturen und statische RAM-Bitzellen, einschließlich komplementärer Feldeffekttransistoren, und Verfahren zum Bilden solcher Strukturen und Bitzellen. Ein erster komplementärer Feldeffekttransistor weist einen ersten Nanosheet-Speichertransistor, einen zweiten Nanosheet-Speichertransistor, der über den ersten Nanosheet-Speichertransistor gestapelt ist, und eine erste Gate-Elektrode auf, die von dem ersten Nanosheet-Speichertransistor und dem zweiten Nanosheet-Speichertransistor gemeinsam genutzt wird. Ein zweiter komplementärer Feldeffekttransistor weist einen dritten Nanosheet-Speichertransistor, einen vierten Nanosheet-Speichertransistor, der über den dritten Nanosheet-Speichertransistor gestapelt ist, und eine zweite Gate-Elektrode auf, die sich der dritte Nanosheet-Speichertransistor und der vierte Nanosheet-Speichertransistor teilen. Die erste Gate-Elektrode und die zweite Gate-Elektrode sind in einer beabstandeten Anordnung entlang einer Längsachse angeordnet. Alle Gate-Elektroden der SRAM-Bitzelle können in einem 1CPP-Layout angeordnet sein.

    Magnetoresistive Speicherstrukturen mit verbesserter Erfassung und entsprechende Erfassungsverfahren

    公开(公告)号:DE102018206813B4

    公开(公告)日:2020-03-05

    申请号:DE102018206813

    申请日:2018-05-03

    Abstract: Magnetoresistive Speicher (MRM) -Struktur, umfassend:eine Sourceleitung;einen ersten Transistor mit einem Sourcegebiet und einem Draingebiet, wobei die Sourceleitung mit dem Sourcegebiet des ersten Transistors elektrisch verbunden ist;einen magnetischen Tunnelkontakt (MTJ) als Bezug, der zu dem ersten Transistor elektrisch in Reihe geschaltet ist, wobei der Bezugs-MTJ mit dem Draingebiet des ersten Transistors elektrisch verbunden ist;eine MRM-Zelle, die einen MRM-Transistor umfasst, der zu einem MRM-MTJ elektrisch in Reihe geschaltet ist, wobei der MRM-Transistor mit dem Bezugs-MTJ elektrisch verbunden ist, so dass die MRM-Zelle zu dem ersten Transistor und dem Bezugs-MTJ elektrisch in Reihe geschaltet ist;einen Spannungsverstärker, der mit einem Mittelpunktknoten des ersten Transistors und des MRM-Transistors elektrisch verbunden ist;einen Erfassungsverstärker, der mit dem Spannungsverstärker elektrisch verbunden ist; undeine Bitleitung, die mit dem MRM-MTJ der MRM-Zelle elektrisch verbunden ist.

    Magnetoresistive Speicherstrukturen mit verbesserter Erfassung und entsprechende Erfassungsverfahren

    公开(公告)号:DE102018206813A1

    公开(公告)日:2019-08-08

    申请号:DE102018206813

    申请日:2018-05-03

    Abstract: Eine magnetoresistive Speicher (MRM) -Struktur umfasst eine Sourceleitung und einen ersten Transistor, der ein Sourcegebiet und ein Draingebiet umfasst. Die Sourceleitung ist mit dem Sourcegebiet des ersten Transistors elektrisch verbunden. Die MRM-Struktur umfasst ferner eine MRM-Zelle, die einen MRM-Transistor umfasst, der mit einem magnetischen Tunnelkontakt (MTJ) des MRM elektrisch in Reihe geschaltet ist. Der MRM-Transistor ist mit dem Draingebiet des ersten Transistors elektrisch verbunden, so dass die MRM-Zelle mit dem ersten Transistor elektrisch in Reihe geschaltet ist. Weiterhin umfasst die MRM-Struktur ferner einen Spannungsverstärker, der mit einem Mittelpunktknoten des ersten Transistors und des MRM-Transistors elektrisch verbunden ist, einen Erfassungsverstärker, der mit dem Spannungsverstärker elektrisch verbunden ist, und eine Bitleitung, die mit dem MRM-MTJ der MRM-Zelle elektrisch verbunden ist.

    Schaltungen basierend auf komplementären Feldeffekttransistoren

    公开(公告)号:DE102019200120A1

    公开(公告)日:2019-07-11

    申请号:DE102019200120

    申请日:2019-01-08

    Abstract: Strukturen und Schaltungen mit mehreren Nanosheet-Transistoren und Verfahren zum Bilden solcher Strukturen und Schaltungen. Ein komplementärer Feldeffekttransistor umfasst einen ersten Nanosheet-Transistor mit einem Source/Drain-Bereich und einen zweiten Nanosheet-Transistor mit einem Source/Drain-Bereich, der über dem Source/Drain-Bereich des ersten Nanosheet-Transistors gestapelt ist. Ein Kontakt erstreckt sich vertikal zur Verbindung des Source/Drain-Bereichs des ersten Nanosheet-Transistors des komplementären Feldeffekttransistors und dem Source/Drain-Bereich des zweiten Nanosheet-Transistors des komplementären Feldeffekttransistors.

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