Abstract:
A structure and a method for reduction of soft error rates in integrated circuits. The structure including: a semiconductor substrate; and a stack of one or more wiring levels stacked from a lowermost wiring level to an uppermost wiring level, the lowermost wiring level nearer the semiconductor substrate than the uppermost wiring level; and an alpha particle blocking layer on a top surface of the uppermost wiring level of the one or more wiring levels, the blocking layer comprising metal wires and a dielectric material, the blocking layer having a combination of a thickness of the blocking layer and a volume percent of metal wires in the blocking layer sufficient to stop a predetermined percentage of alpha particles of a selected energy or less striking the blocking layer from penetrating into the stack of one or more wiring levels or the substrate.
Abstract:
Ein Verfahren zum Bilden einer Halbleitereinheit umfasst das Bilden einer Implantationsmaske auf einem Substrat, so dass sich ein erster Abschnitt des Substrats unter der Implantationsmaske befindet und ein zweiter Abschnitt frei liegt; das Durchführen einer Sauerstoffionenimplantation an dem Substrat; das Entfernen der Implantationsmaske; und das Bilden eines ersten Feldeffekttransistors (FET) auf dem ersten Abschnitt des Substrats und das Bilden eines zweiten FET auf dem zweiten Abschnitt des Substrats, wobei der zweite FET eine höhere Strahlungsempfindlichkeit als der erste FET aufweist.
Abstract:
A signal representing a sound can be received. A machine learning model can be run to identify that the sound triggers a reaction in a user hearing the sound. A preventive action can be automatically activated to mitigate the reaction. The user's reactions can be monitored. Responsive to determining that the user's reaction has been mitigated or suppressed, the preventive action can be deactivated. The machine learning model can be retrained using at least the signal as new training data.
Abstract:
Ein integrierter Strahlungssensor für ein Erfassen des Vorhandenseins eines Umgebungsmaterials und/oder einer Umgebungsbedingung beinhaltet eine Messstruktur sowie einen ersten und einen zweiten lateralen Bipolartransistor (BJT), die entgegengesetzte Polaritäten aufweisen. Der erste laterale BJT weist eine Basis auf, die mit der Messstruktur elektrisch gekoppelt ist, und ist so konfiguriert, dass er ein Ausgangssignal erzeugt, das indikativ für eine Änderung einer gespeicherten Ladung in der Messstruktur ist. Der zweite laterale BJT ist so konfiguriert, dass er das Ausgangssignal des ersten Bipolartransistors verstärkt. Der erste und der zweite laterale BJT, die Messstruktur sowie das Substrat, auf dem diese ausgebildet sind, weisen eine monolithische Struktur auf.
Abstract:
Integrierter Strahlungssensor (20; 60; 100; 120; 200; 260), der aufweist:eine Messstruktur;einen ersten lateralen Bipolartransistor (30; 62; 62; 122; 211; 264) mit einer Basis (33; 74; 74; 130; 213; 286), die mit der Messstruktur elektrisch gekoppelt ist, wobei der erste laterale Bipolartransistor so konfiguriert ist, dass er ein Ausgangssignal erzeugt, das indikativ für eine Änderung einer gespeicherten Ladung in der Messstruktur ist, die aus dem Vorhandensein einer Umgebungseigenschaft resultiert;einen zweiten lateralen Bipolartransistor (24; 64; 102; 124; 201; 262), der benachbart zu dem ersten lateralen Bipolartransistor und mit diesem elektrisch verbunden ist, wobei der zweite laterale Bipolartransistor so konfiguriert ist, dass er das Ausgangssignal des ersten lateralen Bipolartransistors verstärkt, wobei der erste laterale Bipolartransistor und der zweite laterale Bipolartransistor entgegengesetzte Polaritäten aufweisen, undein Substrat, wobei der erste laterale Bipolartransistor, der zweite laterale Bipolartransistor und das Substrat eine monolithische Struktur bilden.