Abstract:
The present invention relates to a semiconductor device (1) for use in at least an optical application comprising: at least an optically passive aspect (2) that is operable in substantially an optically passive mode, and at least an optically active material (3) comprising at least a material that is operable in substantially an optically active mode, wherein: the optically passive aspect (2) further comprises at least a crystalline seed layer (4), the optically active material (3) being epitaxially grown in at least a predefined structure (5) provided in the optically passive aspect (2) that extends to at least an upper surface (4') of the crystalline seed layer (4), and the optically passive aspect (2) is structured to comprise at least a passive photonic structure (6), wherein the crystalline seed layer (4) comprises a crystalline wafer and wherein the optically active material (3) comprises at least one of: a III-V material and a II-VI material.
Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescence device with a reduced deterioration rate and an enhanced efficiency. SOLUTION: An electroluminescene device comprises a positive electrode, a hole-injection layer, an emission layer including an emitting material, an electron-injection layer, and a negative electrode which are formed sequentially. Furthermore, the emission layer comprises a stabilizing material having an energy-bandgap greater than energy-bandgap of the emitting material. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an electronic device having a pattern formed on the surface by deposition materials. SOLUTION: This is related to the method of forming an FET, especially, a high definition color (RGB) display. The forming method of the organic electronic device includes a process in which the deposition materials are heated and pressurized in order to form molten products and a process in which the molten deposition materials are layered on the surface using a phase-change printing technology or spraying technology. The molten deposition materials are coagulated on the surface. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
Abstract:
A method of forming a semiconductor is provided and includes patterning a pad and a nanowire onto a wafer, the nanowire being substantially perpendicular with a pad sidewall and substantially parallel with a wafer surface and epitaxially growing on an outer surface of the nanowire a secondary layer of semiconductor material, which is lattice mismatched with respect to a material of the nanowire and substantially free of defects.
Abstract:
Thermoelektrische Einheit (1) zum Transferieren von Wärme von einer Wärmequelle (2) zu einer Wärmesenke (3), die aufweist:wenigstens ein thermoelektrisches Schenkelpaar (10) mit einem ersten Schenkel (4), der ein Halbleitermaterial vom n-Typ beinhaltet, und einem zweiten Schenkel (5), der ein Halbleitermaterial vom p-Typ beinhaltet, wobei der erste Schenkel (4) und der zweite Schenkel (5) elektrisch in Serie gekoppelt sind;ein resistives Element (9), das den ersten Schenkel (4) und den zweiten Schenkel (5) zwischen der Wärmequelle (2) und der Wärmesenke (3) elektrisch koppelt,wobei die thermoelektrische Einheit (1) eine Mehrzahl von resistiven Elementen (9, 12, 13, 14) aufweist, die den ersten Schenkel (4) und den zweiten Schenkel (5) zwischen der Wärmequelle (2) und der Wärmesenke (3) elektrisch koppeln, wobei jedes resistive Element (9, 12, 13, 14) eine vorgegebene Konduktanz derart aufweist, dass die Konduktanz der resistiven Elemente (9, 12, 13, 14) in Richtung zu der Seite der Wärmequelle (2) zunimmt.
Abstract:
Es werden Verfahren für ein Herstellen von Halbleiter-Nanodrähten 12, 40, 41, 45, 57 auf einem Substrat 1, 20, 50 bereitgestellt. Auf dem Substrat wird ein Nanodraht-Templat 3, 6; 22, 24; 31, 32 gebildet. Das Nanodraht-Templat definiert einen langgestreckten Tunnel 8, 26, 33, der sich lateral über dem Substrat zwischen einer Öffnung 7, 25 in dem Templat und einer Kristallkeim-Oberfläche 10, 27, 34 erstreckt. Die Kristallkeim-Oberfläche 10, 27, 34 ist zu dem Tunnel hin freigelegt und weist eine Fläche von bis zu etwa 2 × 104 nm2 auf. Der Halbleiter-Nanodraht wird über die Öffnung selektiv von der Kristallkeim-Oberfläche aus in dem Templat aufgewachsen. Die Fläche der Kristallkeim-Oberfläche 10, 27, 34 ist bevorzugt derart, dass sich das Aufwachsen des Nanodrahts von einem einzigen Nukleationspunkt auf der Kristallkeim-Oberfläche aus fortsetzt.
Abstract:
Verfahren zur Herstellung eines monokristallinen Blatts (11) eines Halbleitermaterials, wobei das Halbleitermaterial ein elementares Halbleitermaterial ist, welches das Folgende umfasst: Bereitstellen von mindestens zwei Öffnungselementen (1, 2), welche zwischen sich eine Lücke (3) bilden; Bereitstellen einer geschmolzenen Legierung (4), welche das Halbleitermaterial umfasst, in der Lücke (3) zwischen den mindestens zwei Öffnungselementen (1, 2); Bereitstellen eines gasförmigen Vorstufenmediums (5), welches das Halbleitermaterial liefert, in Nachbarschaft der geschmolzenen Legierung (4); Bereitstellen eines Keimkristalls (6) des Halbleitermaterials in Nachbarschaft der geschmolzenen Legierung (4); In-Kontakt-Bringen des Keimkristalls (6) mit der geschmolzenen Legierung (4); Anordnen der Öffnungselemente (1, 2) und der geschmolzenen Legierung (4) derart, dass die geschmolzene Legierung (4) durch die Oberflächenspannung zwischen den Öffnungselementen (1, 2) gehalten wird; allmähliches Zurückziehen des Keimkristalls (6) aus der geschmolzenen Legierung (4), wobei das Halbleitermaterial aus dem gasförmigen Vorstufenmedium (5), welches das Halbleitermaterial umfasst, in die geschmolzene Legierung (4) freigesetzt wird, wodurch die geschmolzene Legierung (4) mit dem Halbleitermaterial übersättigt wird.
Abstract:
Eine thermoelektrische Einheit (1) zum Transferieren von Wärme von einer Wärmequelle (2) zu einer Wärmesenke (3) weist wenigstens ein thermoelektrisches Schenkelpaar (10) mit einem ersten Schenkel (4), der ein Halbleitermaterial vom n-Typ beinhaltet, und einem zweiten Schenkel (5) auf, der ein Halbleitermaterial vom p-Typ beinhaltet. Der erste Schenkel (4) und der zweite Schenkel (5) sind elektrisch in Serie gekoppelt. Und ein resistives Element (9) koppelt den ersten Schenkel (4) und den zweiten Schenkel (5) zwischen der Wärmequelle (2) und der Wärmesenke (3) elektrisch.