SEMICONDUCTOR DEVICE
    1.
    发明申请
    SEMICONDUCTOR DEVICE 审中-公开
    半导体器件

    公开(公告)号:WO2014068511A2

    公开(公告)日:2014-05-08

    申请号:PCT/IB2013059814

    申请日:2013-10-31

    Abstract: The present invention relates to a semiconductor device (1) for use in at least an optical application comprising: at least an optically passive aspect (2) that is operable in substantially an optically passive mode, and at least an optically active material (3) comprising at least a material that is operable in substantially an optically active mode, wherein: the optically passive aspect (2) further comprises at least a crystalline seed layer (4), the optically active material (3) being epitaxially grown in at least a predefined structure (5) provided in the optically passive aspect (2) that extends to at least an upper surface (4') of the crystalline seed layer (4), and the optically passive aspect (2) is structured to comprise at least a passive photonic structure (6), wherein the crystalline seed layer (4) comprises a crystalline wafer and wherein the optically active material (3) comprises at least one of: a III-V material and a II-VI material.

    Abstract translation: 本发明涉及至少在光学应用中使用的半导体器件(1),其包括:至少可以基本上为光学无源模式操作的光学无源器件(2)和至少一种光学活性材料(3) 至少包括可以基本上为光学活性模式操作的材料,其中:所述光学被动方面(2)还包括至少晶体种子层(4),所述光学活性材料(3)至少外延生长 提供在光学无源方面(2)中的延伸到晶种(4)的至少上表面(4')的预定结构(5),并且光学无源方面(2)被构造成包括至少一个 无源光子结构(6),其中所述结晶晶种层(4)包括晶体晶片,并且其中所述光学活性材料(3)包括III-V族材料和II-VI材料中的至少一种。

    Thermoelektrische Einheit
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102014117584B4

    公开(公告)日:2018-10-18

    申请号:DE102014117584

    申请日:2014-12-01

    Applicant: IBM

    Abstract: Thermoelektrische Einheit (1) zum Transferieren von Wärme von einer Wärmequelle (2) zu einer Wärmesenke (3), die aufweist:wenigstens ein thermoelektrisches Schenkelpaar (10) mit einem ersten Schenkel (4), der ein Halbleitermaterial vom n-Typ beinhaltet, und einem zweiten Schenkel (5), der ein Halbleitermaterial vom p-Typ beinhaltet, wobei der erste Schenkel (4) und der zweite Schenkel (5) elektrisch in Serie gekoppelt sind;ein resistives Element (9), das den ersten Schenkel (4) und den zweiten Schenkel (5) zwischen der Wärmequelle (2) und der Wärmesenke (3) elektrisch koppelt,wobei die thermoelektrische Einheit (1) eine Mehrzahl von resistiven Elementen (9, 12, 13, 14) aufweist, die den ersten Schenkel (4) und den zweiten Schenkel (5) zwischen der Wärmequelle (2) und der Wärmesenke (3) elektrisch koppeln, wobei jedes resistive Element (9, 12, 13, 14) eine vorgegebene Konduktanz derart aufweist, dass die Konduktanz der resistiven Elemente (9, 12, 13, 14) in Richtung zu der Seite der Wärmequelle (2) zunimmt.

    Halbleiter-Nanodraht-Herstellung
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:DE112014004901T5

    公开(公告)日:2016-07-28

    申请号:DE112014004901

    申请日:2014-12-08

    Applicant: IBM

    Abstract: Es werden Verfahren für ein Herstellen von Halbleiter-Nanodrähten 12, 40, 41, 45, 57 auf einem Substrat 1, 20, 50 bereitgestellt. Auf dem Substrat wird ein Nanodraht-Templat 3, 6; 22, 24; 31, 32 gebildet. Das Nanodraht-Templat definiert einen langgestreckten Tunnel 8, 26, 33, der sich lateral über dem Substrat zwischen einer Öffnung 7, 25 in dem Templat und einer Kristallkeim-Oberfläche 10, 27, 34 erstreckt. Die Kristallkeim-Oberfläche 10, 27, 34 ist zu dem Tunnel hin freigelegt und weist eine Fläche von bis zu etwa 2 × 104 nm2 auf. Der Halbleiter-Nanodraht wird über die Öffnung selektiv von der Kristallkeim-Oberfläche aus in dem Templat aufgewachsen. Die Fläche der Kristallkeim-Oberfläche 10, 27, 34 ist bevorzugt derart, dass sich das Aufwachsen des Nanodrahts von einem einzigen Nukleationspunkt auf der Kristallkeim-Oberfläche aus fortsetzt.

    Verfahren und Einheit zur Herstellung eines monokristallinen Blatts

    公开(公告)号:DE112011100856B4

    公开(公告)日:2015-08-06

    申请号:DE112011100856

    申请日:2011-05-23

    Applicant: IBM

    Abstract: Verfahren zur Herstellung eines monokristallinen Blatts (11) eines Halbleitermaterials, wobei das Halbleitermaterial ein elementares Halbleitermaterial ist, welches das Folgende umfasst: Bereitstellen von mindestens zwei Öffnungselementen (1, 2), welche zwischen sich eine Lücke (3) bilden; Bereitstellen einer geschmolzenen Legierung (4), welche das Halbleitermaterial umfasst, in der Lücke (3) zwischen den mindestens zwei Öffnungselementen (1, 2); Bereitstellen eines gasförmigen Vorstufenmediums (5), welches das Halbleitermaterial liefert, in Nachbarschaft der geschmolzenen Legierung (4); Bereitstellen eines Keimkristalls (6) des Halbleitermaterials in Nachbarschaft der geschmolzenen Legierung (4); In-Kontakt-Bringen des Keimkristalls (6) mit der geschmolzenen Legierung (4); Anordnen der Öffnungselemente (1, 2) und der geschmolzenen Legierung (4) derart, dass die geschmolzene Legierung (4) durch die Oberflächenspannung zwischen den Öffnungselementen (1, 2) gehalten wird; allmähliches Zurückziehen des Keimkristalls (6) aus der geschmolzenen Legierung (4), wobei das Halbleitermaterial aus dem gasförmigen Vorstufenmedium (5), welches das Halbleitermaterial umfasst, in die geschmolzene Legierung (4) freigesetzt wird, wodurch die geschmolzene Legierung (4) mit dem Halbleitermaterial übersättigt wird.

    Thermoelektrische Einheit
    10.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102014117584A1

    公开(公告)日:2015-06-18

    申请号:DE102014117584

    申请日:2014-12-01

    Applicant: IBM

    Abstract: Eine thermoelektrische Einheit (1) zum Transferieren von Wärme von einer Wärmequelle (2) zu einer Wärmesenke (3) weist wenigstens ein thermoelektrisches Schenkelpaar (10) mit einem ersten Schenkel (4), der ein Halbleitermaterial vom n-Typ beinhaltet, und einem zweiten Schenkel (5) auf, der ein Halbleitermaterial vom p-Typ beinhaltet. Der erste Schenkel (4) und der zweite Schenkel (5) sind elektrisch in Serie gekoppelt. Und ein resistives Element (9) koppelt den ersten Schenkel (4) und den zweiten Schenkel (5) zwischen der Wärmequelle (2) und der Wärmesenke (3) elektrisch.

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