Patent search ap:("IBM") AND inv:"SNYDER NANCY W" Page 1

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发明专利
PHOTORESIST COMPONENT 失效

公开(公告)号：JPS62135824A

公开(公告)日：1987-06-18

申请号：JP25714886

申请日：1986-10-30

Applicant: IBM

Inventor： MOREAU WAYNE M , CHIONG KAOLIN N , CHOW MING-FEA , SNYDER NANCY W

IPC: G03C1/72 , G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027

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