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公开(公告)号:WO2012121938A3
公开(公告)日:2012-11-22
申请号:PCT/US2012027052
申请日:2012-02-29
Applicant: IBM , XIN YONGCHUN , OUYANG XU , SONG YUNSHENG , TING TSO-HUI
Inventor: XIN YONGCHUN , OUYANG XU , SONG YUNSHENG , TING TSO-HUI
CPC classification number: H01L21/681 , G01B9/02091 , H01L23/544 , H01L24/75 , H01L24/81 , H01L24/94 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2224/75753 , H01L2224/8113 , H01L2224/81132 , H01L2224/81191 , H01L2224/94 , H01L2224/81
Abstract: A system for performing alignment of two wafers is disclosed. The system comprises an optical coherence tomography system and a wafer alignment system. The wafer alignment system is configured and disposed to control the relative position of a first wafer and a second wafer. The optical coherence tomography system is configured and disposed to compute coordinate data for a plurality of alignment marks on the first wafer and second wafer, and send that coordinate data to the wafer alignment system.
Abstract translation: 公开了一种用于执行两个晶片的对准的系统。 该系统包括光学相干断层扫描系统和晶片对准系统。 晶片对准系统被配置和设置成控制第一晶片和第二晶片的相对位置。 光学相干断层扫描系统被配置和设置为计算第一晶圆和第二晶圆上的多个对准标记的坐标数据,并且将该坐标数据发送到晶圆对准系统。
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公开(公告)号:WO2011034803A3
公开(公告)日:2011-09-29
申请号:PCT/US2010048571
申请日:2010-09-13
Applicant: IBM , WANG PING-CHUAN , TING TSO-HUI , YOUNUS MOHAMMAD I
Inventor: WANG PING-CHUAN , TING TSO-HUI , YOUNUS MOHAMMAD I
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01R31/2875
Abstract: An apparatus is provided and includes a thermally isolated device under test to which first and second voltages are sequentially applied, a local heating element to impart first and second temperatures to the device under test substantially simultaneously while the first and second voltages are sequentially applied, respectively and a temperature-sensing unit to measure the temperature of the device under test.
Abstract translation: 提供了一种设备,其包括被测试的热隔离器件,依次施加第一和第二电压,局部加热元件分别基本上同时向被测器件施加第一和第二温度,同时分别依次施加第一和第二电压 以及用于测量被测设备温度的温度感测单元。
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公开(公告)号:DE112012001136B4
公开(公告)日:2018-05-24
申请号:DE112012001136
申请日:2012-02-29
Applicant: IBM
Inventor: XIN YONGCHUN , OUYANG XU , SONG YUNSHENG , TING TSO-HUI
IPC: H01L21/68 , G01B9/02 , G01B11/00 , H01L23/544
Abstract: System zum Durchführen einer Justierung von zwei Wafern, das aufweist:ein optisches Kohärenz-Tomographie-System [102]; undein Waferjustiersystem [104];wobei das Waferjustiersystem [104] so konfiguriert und angeordnet ist, dass es die relative Position eines ersten Wafers und eines zweiten Wafers steuert, und wobei das optische Kohärenz-Tomographie-System [102] so konfiguriert und angeordnet ist, dass es dreidimensionale Koordinatendaten für eine Vielzahl von Justiermarkierungen auf dem ersten Wafer und dem zweiten Wafer berechnet; und die Koordinatendaten zu dem Waferjustiersystem sendet.
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公开(公告)号:DE112010003726B4
公开(公告)日:2016-11-03
申请号:DE112010003726
申请日:2010-09-13
Applicant: IBM
Inventor: WANG PING-CHUAN , TING TSO-HUI , YOUNUS MOHAMMAD I
IPC: H01L21/66
Abstract: Verfahren zur Durchführung einer Inline-Prüfung einer zu prüfenden Einheit (61), wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Wärmeisolieren der zu prüfenden Einheit (61); Anlegen einer ersten bzw. zweiten Spannung an die zu prüfende Einheit (61), wenn die zu prüfende Einheit (61) wärmeisoliert ist; und Erwärmen der zu prüfenden Einheit (61) auf eine erste bzw. zweite Temperatur während des Anlegens der Spannungen, jedoch unabhängig von dem Anlegen der Spannungen, und Messen eines Kennwerts der zu prüfenden Einheit (61), und Messen eines Kennwerts einer Bezugseinheit (65); und Vergleichen eines Ergebnisses der Messung der zu prüfenden Einheit (61) mit einem Ergebnis der Messung des Kennwerts der Bezugseinheit (65), und Verstärken einer Differenz zwischen dem Ergebnis der Messung der zu prüfenden Einheit (61) und dem Ergebnis der Messung des Kennwerts der Bezugseinheit (65).
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公开(公告)号:GB2486158B
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:GB201206520
申请日:2010-09-13
Applicant: IBM
Inventor: WANG PING-CHUAN , TING TSO-HUI , YOUNUS MOHAMMAD I
IPC: G01R31/28
Abstract: An apparatus is provided and includes a thermally isolated device under test to which first and second voltages are sequentially applied, a local heating element to impart first and second temperatures to the device under test substantially simultaneously while the first and second voltages are sequentially applied, respectively and a temperature-sensing unit to measure the temperature of the device under test.
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公开(公告)号:DE112012001136T5
公开(公告)日:2014-01-16
申请号:DE112012001136
申请日:2012-02-29
Applicant: IBM
Inventor: XIN YONGCHUN , OUYANG XU , SONG YUNSHENG , TING TSO-HUI
Abstract: Es wird ein System zum Durchführen einer Justierung von zwei Wafern offenbart. Das System weist ein optisches Kohärenz-Tomographie-System und ein Waferjustiersystem auf. Das Waferjustiersystem ist so konfiguriert und angeordnet, dass es die relative Position eines ersten Wafers und eines zweiten Wafers steuert. Das optische Kohärenz-Tomographie-System ist so konfiguriert und angeordnet, dass es Koordinatendaten für eine Vielzahl von Justiermarkierungen auf dem ersten Wafer und auf dem zweiten Wafer berechnet und jene Koordinatendaten zu dem Waferjustiersystem sendet.
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公开(公告)号:DE112010003726T5
公开(公告)日:2012-08-23
申请号:DE112010003726
申请日:2010-09-13
Applicant: IBM
Inventor: WANG PING-CHUAN , TING TSO-HUI , YOUNUS MOHAMMAD I
IPC: H01L21/66
Abstract: Es wird eine Vorrichtung bereitgestellt, die eine wärmeisolierte zu prüfende Einheit enthält, an die nacheinander eine erste bzw. zweite Spannung angelegt wird, ein lokales Heizelement, um die zu prüfende Einheit auf eine erste bzw. zweite Temperatur im Wesentlichen gleichzeitig zu erwärmen, währendegt wird, und eine Temperaturmesseinheit zum Messen der Temperatur der zu prüfenden Einheit.
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公开(公告)号:GB2486158A
公开(公告)日:2012-06-06
申请号:GB201206520
申请日:2010-09-13
Applicant: IBM
Inventor: WANG PING-CHUAN , TING TSO-HUI , YOUNUS MOHAMMAD I
IPC: G01R31/28
Abstract: An apparatus is provided and includes a thermally isolated device under test to which first and second voltages are sequentially applied, a local heating element to impart first and second temperatures to the device under test substantially simultaneously while the first and second voltages are sequentially applied, respectively and a temperature-sensing unit to measure the temperature of the device under test.
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