公开(公告)号：JPS61223837A

公开(公告)日：1986-10-04

申请号：JP28953985

申请日：1985-12-24

Applicant: IBM

Inventor： CLECAK NICHOLAS J ,  GRANT BARBARA D ,  MILLER ROBERT D ,  TOMPKINS TERRY C ,  WILLSON CARLTON G

IPC: C08L101/00 ,  C08K5/00 ,  C08K5/53 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  C08L61/10 ,  G03C1/72 ,  G03C5/16 ,  G03F7/016 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

公开(公告)号：CA1221864A

公开(公告)日：1987-05-19

申请号：CA499173

申请日：1986-01-08

Applicant: IBM

Inventor： CLECAK NICHOLAS J ,  GRANT BARBARA D ,  MILLER ROBERT D ,  TOMPKINS TERRY C ,  WILLSON C GRANT

IPC: C08L101/00 ,  C08K5/00 ,  C08K5/53 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  C08L61/10 ,  G03C1/72 ,  G03C5/16 ,  G03F7/016 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03C1/54

Abstract: HIGH-CONTRAST, HIGH RESOLUTION DEEP ULTRAVIOLET LITHOGRAPHIC RESISTS A lithographic resin for use with deep ultraviolet radiation comprises a weakly acidic resin and an alpha phosphoryl substituted diazo carbonyl compound as a sensitizer.