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公开(公告)号：DE102013210162A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：DE102013210162
申请日：2013-05-31
Applicant: IBM
Inventor： AVOURIS PHAEDON , GARCIA ALBERTO VALDES , SUNG CHUN-YUNG , XIA FENGNIAN , YAN HUGEN
Abstract: Strukturen zum Abschirmen elektromagnetischer Störungen und Verfahren zum Abschirmen eines Objekts vor elektromagnetischer Strahlung bei Frequenzen, die höher als ein Megahertz sind, beinhalten im Allgemeinen das Bereitstellen hoch dotierter dünner Lagen aus Graphen um das abzuschirmende Objekt herum. Die hoch dotierten dünnen Lagen aus Graphen können eine Dotierstoffkonzentration, die höher als > 1e1013 cm–2 ist, die dahingehend wirksam ist, dass die elektromagnetische Strahlung reflektiert wird, oder eine Dotierstoffkonzentration von 1e1013 cm–2 > n > 0 cm–2 aufweisen, die dahingehend wirksam ist, dass die elektromagnetische Strahlung absorbiert wird.
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公开(公告)号：DE102013210162B4
公开(公告)日：2020-01-23
申请号：DE102013210162
申请日：2013-05-31
Applicant: IBM
Inventor： AVOURIS PHAEDON , GARCIA ALBERTO VALDES , SUNG CHUN-YUNG , XIA FENGNIAN , YAN HUGEN
Abstract: Struktur zum Abschirmen elektromagnetischer Störungen, um elektromagnetische Strahlung abzuschirmen, die bei Frequenzen von einer Quelle emittiert wird, die höher als ein Megahertz sind, wobei diese aufweist:eine oder mehrere dünne Lagen aus Graphen, wobei wenigstens eine der dünnen Lagen aus Graphen mit einem Dotierstoff dotiert ist, der eine Dotierstoffkonzentration in einer Menge aufweist, die dahingehend wirksam ist, dass elektromagnetische Strahlung bei Frequenzen absorbiert wird, die höher als 1 Megahertz sind, wobei die Dotierstoffkonzentration (n) zwischen den Grenzen 10cm> n > 10cmoder 10cm> n > 0 cmliegt.
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公开(公告)号：DE102013210161A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：DE102013210161
申请日：2013-05-31
Applicant: IBM
Inventor： AVOURIS PHAEDON , GARCIA ALBERTO V , SUNG CHUN-YUNG , XIA FENGNIAN , YAN HUGEN
IPC: H01Q17/00
Abstract: Strukturen und Verfahren zum Verdecken eines Objekts vor elektromagnetischer Strahlung bei den Mikrowellen- und Terahertz-Frequenzen beinhalten das Aufbringen einer Vielzahl von dünnen Lagen aus Graphen um das Objekt herum. Zwischenschichten aus einem transparenten dielektrischen Material können zwischen den dünnen Lagen aus Graphen aufgebracht sein, um die Leistungsfähigkeit zu optimieren. In weiteren Ausführungsformen kann das Graphen in eine Anstrichformulierung oder ein Gewebe formuliert und an dem Objekt angebracht sein. Die Strukturen und Verfahren absorbieren wenigstens einen Anteil der elektromagnetischen Strahlung bei den Mikrowellen- und Terabyte-Frequenzen.
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