Schaltungsanordnung und Verfahren zum Herstellen einer Schaltungsanordnung

    公开(公告)号:DE102008047865B4

    公开(公告)日:2012-06-06

    申请号:DE102008047865

    申请日:2008-09-18

    Abstract: Schaltungsanordnung (500) mit – einer Mehrzahl von Metallisierungsebenen (102, 104, 106, 108, 110, 112, 202, 204, 206, 208, 302, 304, 306, 308, 402, 404, 406, 408), die sich parallel zu einer Hauptoberfläche eines Halbleitersubstrats erstrecken, – mit einer Kapazitätsstruktur (502), die in mindestens zwei der Mehrzahl von Metallisierungsebenen ausgebildet ist, wobei die Kapazitätsstruktur (502) in einer ersten Metallisierungsebene (104, 202, 304, 404) eine Mehrzahl von ersten leitfähigen Elementen (104_10, 202_10, 304_10, 404_10) und eine Mehrzahl von zweiten leitfähigen Elementen (104_20, 202_20, 304_20, 404_20) umfasst, wobei die Kapazitätsstruktur (502) in einer zweiten Metallisierungsebene (102, 204, 302, 402) eine Mehrzahl von ersten leitfähigen Elementen (102_10, 204_10, 302_10, 402_10) und eine Mehrzahl von zweiten leitfähigen Elementen (102_20, 204_20, 302_20, 402_20) umfasst, wobei die ersten leitfähigen Elemente (104_10, 202_10, 304_10, 404_10) der ersten Metallisierungsebene (104, 202, 304, 404) und die ersten leitfähigen Elemente (102_10, 204_10, 302_10, 402_10) der zweiten...

    Halbleiterbauelement mit verschiedenen Finnen-Breiten und Verfahren

    公开(公告)号:DE102009025271B4

    公开(公告)日:2018-07-26

    申请号:DE102009025271

    申请日:2009-06-17

    Abstract: Halbleiterbauelement, aufweisend:mindestens einen Sourcebereich (1006) und mindestens einen Drainbereich (1004);mehrere sich zwischen dem Sourcebereich (1006) und dem Drainbereich (1004) erstreckende Finnen (1010, 1013, 1016), wobei von diesen Finnen (1010, 1013, 1016) mindestens eine Finne eine andere Breite als eine andere Finne aufweist; undmindestens zwei Gates (1017, 1018) zur Steuerung des Stromflusses durch die mehreren Finnen (1010, 1013, 1016),wobei mindestens ein Gate eine Gatelänge aufweist, die von einem anderen Gate verschieden ist, undwobei mindestens zwei der Finnen (1010, 1013, 1016) zwischen dem Sourcebereich (1006) und dem Drainbereich (1004) parallel geschaltet sind.

    Feldeffekttransistor und Verfahren zu dessen Herstellung

    公开(公告)号:DE102007056741B4

    公开(公告)日:2011-07-07

    申请号:DE102007056741

    申请日:2007-11-26

    Abstract: Feldeffekttransistor (3), der Folgendes aufweist: einen Source-Bereich (30); einen Drain-Bereich (31); und einen zwischen dem Source-Bereich (30) und dem Drain-Bereich (31) angeordneten Kanalbereich (32), wobei der Kanalbereich (32) eine Breite hat, dadurch gekennzeichnet, dass der Kanalbereich (32) eine in Breitenrichtung variable Länge hat, sodass eine Schwellenspannung für den Stromfluss durch den Kanalbereich (32) an unterschiedlichen Punkten entlang der Breitenrichtung des Feldeffekttransistors (3) variiert.

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