Integrierter Temperatursensor für diskrete Halbleiterbauelemente

    公开(公告)号:DE102015111085A1

    公开(公告)日:2016-01-14

    申请号:DE102015111085

    申请日:2015-07-09

    Abstract: Ein Halbleiter-Die enthält ein diskretes Halbleiterbauelement und wenigstens eine Diode. Die Temperatur des diskreten Halbleiterbauelements wird bestimmt durch Messen eines ersten Durchlassspannungsabfalls der wenigstens einen Diode unter einer ersten Testbedingung, Messen eines zweiten Durchlassspannungsabfalls der wenigstens einen Diode unter einer zweiten Testbedingung und Schätzen der Temperatur des diskreten Halbleiterbauelements auf der Basis der Differenz zwischen der ersten und zweiten Durchlassspannungsabfallmessung.

    Diskreter Halbleitertransistor
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102015109528B4

    公开(公告)日:2022-11-10

    申请号:DE102015109528

    申请日:2015-06-15

    Abstract: Diskreter Halbleitertransistor, umfassend:einen Gatewiderstand (105), der elektrisch zwischen einem Gateanschluss (110) und einem Gateelektrodenanschluss (111) des diskreten Halbleitertransistors (100) gekoppelt ist, wobei:ein Widerstandswert R des Gatewiderstandes (105) bei einer Temperatur von -40°C größer ist als bei der Temperatur von 150°C, und der Gatewiderstand (105) eine Parallelverbindung von einer Vielzahl von Gate-Unterwiderständen (1055, 1056, 1057) ist, wobei jeder Gate-Unterwiderstand elektrisch mit einer verschiedenen Gruppe von Transistorzellen des diskreten Halbleitertransistors (100) gekoppelt ist, und ein Widerstandswert von wenigstens zwei der Gate-Unterwiderstände verschieden ist, um einer ungleichmäßigen Temperaturverteilung über einem Chipgebiet während eines Transistorbetriebs entgegenzuwirken.

    Diskreter Halbleitertransistor
    7.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102015109528A1

    公开(公告)日:2015-12-17

    申请号:DE102015109528

    申请日:2015-06-15

    Abstract: Ein diskreter Halbleitertransistor (100) umfasst einen Gatewiderstand (105), der elektrisch zwischen einem Gateelektrodenanschluss (111) und einer Gateelektrode (110) des diskreten Halbleitertransistors (100) gekoppelt ist. Ein Widerstandswert R des Gatewiderstandes (105) bei einer Temperatur von –40°C ist größer als bei der Temperatur von 150°C.

    9.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10103144A1

    公开(公告)日:2002-08-01

    申请号:DE10103144

    申请日:2001-01-24

    Abstract: A half-bridge circuit includes: a vertically designed n-conducting first MOS transistor that is integrated in a first semiconductor body having a front side and a rear side; and a vertically designed p-conducting second MOS transistor that is integrated in a second semiconductor body having a front side and a rear side. The first and second transistors are connected in series between a first connection terminal and a second connection terminal. The half-bridge circuit also includes a drive circuit for driving the first and second transistors. The first and second transistors are applied to a common connection plate.

    Erfassungselement für Halbleiter
    10.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102014008894B4

    公开(公告)日:2019-05-02

    申请号:DE102014008894

    申请日:2014-06-12

    Abstract: Vorrichtung, umfassend- einen High-Side-Halbleiter (Q1),- einen Low-Side-Halbleiter (Q2),- ein erstes Erfassungselement (TS1), das angrenzend an dem High-Side-Halbleiter (Q1) angeordnet ist, wobei das erste Erfassungselement (TS1) von dem High-Side-Halbleiter (Q1) isoliert ist;- ein zweites Erfassungselement (TS2), das angrenzend an dem Low-Side-Halbleiter (Q2) angeordnet ist,- wobei das erste Erfassungselement (TS1) mit einer Verarbeitungseinheit (101) direkt verbunden ist,- wobei das zweite Erfassungselement (TS2) von dem Low-Side-Halbleiter (Q2) isoliert ist und- wobei das zweite Erfassungselement (TS2) mit der Verarbeitungseinheit (101) direkt verbunden ist,- wobei das erste Erfassungselement (TS1) und das zweite Erfassungselement (TS2) über mindestens eine laterale Isolation (202) und über mindestens eine vertikale Isolation (203) von dem High-Side-Halbleiter (Q1) und von dem Low-Side-Halbleiter (Q2) isoliert sind,- wobei die vertikale Isolation (203) eine Isolation im Bereich von 1,5 µm bis 2 µm umfasst.

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