公开(公告)号：DE102020113646A1

公开(公告)日：2021-01-21

申请号：DE102020113646

申请日：2020-05-20

Applicant: INTEL CORP

Inventor： HECK JOHN ,  FRISH HAREL ,  KAU DERCHANG ,  DENNISON CHARLES ,  RONG HAISHENG ,  DRISCOLL JEFFREY ,  DOYLEND JONATHAN K ,  GHIURCAN GEORGE A ,  FAVARO MICHAEL

IPC: G02B6/12 ,  G02B6/13 ,  G02B6/132 ,  H01L25/16

Abstract: Ausführungsformen enthalten Einrichtungen, Verfahren und Systeme, die eine Halbleiterphotonikvorrichtung enthalten, die ein Substrat, einen Wellenleiter, der oberhalb des Substrats angeordnet ist, eine Phasenänderungsschicht, die oberhalb des Wellenleiters angeordnet ist, und ein Heizelement, das oberhalb der Phasenänderungsschicht angeordnet ist, aufweist. Der Wellenleiter weist einen Brechungsindex auf, der basierend wenigstens teilweise auf einem Zustand eines Phasenänderungsmaterials, das in der Phasenänderungsschicht enthalten ist, modifiziert werden kann. Das Phasenänderungsmaterial der Phasenänderungsschicht ist in einem ersten Zustand aus einer Menge von Zuständen, und der Wellenleiter weist einen ersten Brechungsindex auf, der basierend auf dem ersten Zustand des Phasenänderungsmaterials bestimmt ist. Das Heizelement dient zum Erzeugen von Wärme, um das Phasenänderungsmaterial in einen zweiten Zustand aus der Menge von Zuständen zu transformieren, und der Wellenleiter weist einen zweiten Brechungsindex auf, der basierend auf dem zweiten Zustand des Phasenänderungsmaterials bestimmt ist. Andere Ausführungsformen können ebenfalls beschrieben und beansprucht sein.