VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG IN SITU GEBAUTER KONTAKTSTIFT-RASTERFELDER FÜR KERNLOSE SUBSTRATE

    公开(公告)号:DE112012002736B4

    公开(公告)日:2018-05-09

    申请号:DE112012002736

    申请日:2012-06-28

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Prozess zum Bilden eines kernlosen Kontaktstift-Rasterfeldsubstrats umfassend:das Bilden einer Saatschicht auf einer Kontaktstift-Rasterfeld-Kontaktstiftform;das Bilden eines PGA-Vorläuferfilms auf der Saatschicht;das Strukturieren des PGA-Vorläuferfilms, um mehrere beabstandete PGA-Kontaktstifte zu erreichen; unddas Bilden eines kernlosen PGA-Substrats, das die PGA-Kontaktstifte integriert, enthaltend:das Bilden einer ersten Zwischenschicht zum Festlegen einer Anschlussseite des kernlosen PGA-Substrats, wobei die erste Zwischenschicht mit den PGA-Kontaktstiften an deren Kontaktstiftköpfen in Kontakt steht;das Füllen einer Durchkontaktierung in die erste Zwischenschicht, wobei die Durchkontaktierung einen direkten Kontakt mit einem Kontaktstiftkopf der PGA-Kontaktstifte herstellt; unddas Bilden einer nachfolgenden Zwischenschicht, um eine nahe Chipseite des kernlosen PGA-Substrats festzulegen.

    MIKROPROZESSORGEHÄUSE MIT MASSEISOLATIONSGEWEBESTRUKTUR MIT KONTAKTHÖCKERN AUF ERSTER EBENE

    公开(公告)号:DE112015007233T5

    公开(公告)日:2018-10-04

    申请号:DE112015007233

    申请日:2015-12-26

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Ein Masseisolationsgewebestrukturgehäuse umfasst eine oberste Ebene mit einer oberen Zwischenverbindungsschicht mit oberen Massekontakten, oberen Datensignalkontakten und einer Masseisolationsgewebestruktur aus leitfähigem Material, die mit den oberen Massekontakten verbunden ist und die oberen Datensignalkontakte umgibt. Die oberen Kontakte können über einer unteren Schicht derselben Zwischenverbindungsebene ausgebildet sein und über Kontakte oder Bahnen mit dieser verbunden sein. Die Durchkontakte der unteren Schicht können mit oberen Kontakten einer zweiten Zwischenverbindungsebene verbunden sein, die auch ein solches Gewebe aufweisen kann. Es kann auch zumindest eine dritte Zwischenverbindungsebene mit einem solchen Gewebe vorliegen. Die Gewebestruktur bewirkt elektrische Isolation und reduziert Übersprechen zwischen den Signalkontakten, wodurch eine höherfrequente und präzisere Datensignalübertragung zwischen Vorrichtungen wie integrierten Schaltungschips (IC-Chips), die an einem Gehäuse angebracht sind, bereitgestellt wird.

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