Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the mount of a substrate for processor, and an I/O configuration of the mount.SOLUTION: A high speed I/O trace is a part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate has an integrated heat spreader footprint on the die side, and the I/O trace to be coupled with an IC device provided in the integrated heat spreader footprint. The I/O trace has a pinout terminal provided on the outside of the integrated heat spreader footprint, and being coupled with an IC device provided on the outside of the integrated heat spreader footprint. The I/O trace can maintain the data flow rate from the processor within a range of 5-40 Gb/s.
Abstract:
An embodiment of the present invention is a technique to fabricate a package substrate. The package substrate includes top substrate layers, an array capacitor, and bottom substrate layers. The top substrate layers embed micro-vias. The micro-vias have a micro- via area and provide electrical connections between the top substrate layers. The array capacitor structure is placed in contact with the micro-via area. The array capacitor structure is electrically connected to the micro- vias. The bottom substrate layers are formed on the array capacitor structure.
Abstract:
A high-speed I/O trace is part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate includes an integrated heat spreader footprint on a die-side and the I/O trace to couple with an IC device to be disposed inside the IHS footprint. The I/O trace includes a pin-out terminal outside the IHS footprint to couple to an IC device to be disposed outside the IHS footprint. The high-speed I/O trace can sustain a data flow rate from a processor in a range from 5 gigabits per second (Gb/s) to 40 Gb/s.
Abstract:
Eine Gehäusevorrichtung mit geerdeten Isolationsübertragungsleitungen weist (1) geerdete Isolationsebenen zwischen horizontalen Datensignalübertragungsleitungen (z. B. Signalspuren aus Metall), die horizontal durch die Gehäusevorrichtung geführt sind, (2) geerdete Isolationsleitungen, die derartige horizontale Datensignalübertragungsleitungen umgeben, oder (3) derartige geerdeten Ebenen zwischen und derartige geerdeten Isolationsleitungen auf, die derartige horizontale Datensignalübertragungsleitungen umgeben. Die (1) geerdeten Isolationsebenen zwischen den horizontalen Datensignalübertragungsleitungen und/oder (2) die geerdeten Isolationsleitungen schirmen die in Signalleitungen gesendeten Datensignale elektrisch ab, wodurch ein Einstreuen zwischen den Datensignalübertragungsleitungen reduziert wird und eine elektrische Isolierung der Datensignalübertragungsleitungen erhöht wird. Darüber hinaus können die Datensignalübertragungsleitungen unter Verwendung von Augendiagrammen abgeglichen werden, um Signalleitungsbreiten und Breiten der geerdeten Isolationsleitungen auszuwählen, die eine optimale Datenübertragungsleistung bieten. Diese Gehäusevorrichtung bietet eine höhere Frequenz und einen genaueren Datensignaltransfer zwischen verschiedenen horizontalen Positionen der Datensignalübertragungsleitungen und deshalb auch zwischen Vorrichtungen wie integrierten Schaltkreischips (IC-Chips), die an der Gehäusevorrichtung angebracht sind.
Abstract:
Embodiments of the present disclosure are directed towards socket contact techniques and configurations. In one embodiment, an apparatus may include a socket substrate having a first side and a second side disposed opposite to the first side, an opening formed through the socket substrate, an electrical contact disposed in the opening and configured to route electrical signals between the first side and the second side of the socket substrate, the electrical contact having a cantilever portion that extends beyond the first side, wherein the first side and surfaces of the socket substrate in the opening are plated with a metal. Other embodiments may be described and/or claimed.
Abstract:
Halbleiter-Package (200, 320), umfassend:eine erste Aufbauschicht (102, 204) mit einer oberen Oberfläche und einer der oberen Oberfläche gegenüberliegenden unteren Oberfläche, wobei die erste Aufbauschicht (102, 204) einen Leistungskontakt (108; 206; 304) auf der oberen Oberfläche der ersten Aufbauschicht (102, 204) aufweist;eine zweite Aufbauschicht (110, 210), die über der ersten Aufbauschicht (102, 204) liegt, wobei die zweite Aufbauschicht (110, 210) einen Hohlraum definiert, der über dem Leistungskontakt (108; 206) liegt;einen Brücken-Die (118, 212, 324), der innerhalb des Hohlraums der zweiten Aufbauschicht (110, 210) angeordnet ist, wobei der Brücken-Die (118, 212, 324) eine Brücken-Die-Rückseite und eine Brücken-Die-Oberseite aufweist, wobei die Brücken-Die-Oberseite eine Mehrzahl von Brücken-Die-Oberseitenkontakten aufweist, wobei die Brücken-Die-Rückseite elektrisch mit dem Leistungskontakt (108, 206) gekoppelt ist; undeine dritte Aufbauschicht (130, 220), die über der Oberseite des Brücken-Dies (118, 212, 324) liegend und über der zweiten Aufbauschicht (110, 210) angeordnet ist, wobei die dritte Aufbauschicht (112, 220) eine Zwischenverbindungsleiterbahn aufweist (132; 224), wobei die Zwischenverbindungsleiterbahn elektrisch mit einem ersten Brücken-Die-Oberseitenkontakt (230) der Mehrzahl von Brücken-Die-Oberseitenkontakten gekoppelt ist,wobei der Brücken-Die einen Bulk-Teil (120; 214) umfasst, der elektrisch mit einem Rückseitenmetall gekoppelt ist, das auf der Brücken-Die-Rückseite bereitgestellt ist, und wobei wenigstens einer der Mehrzahl von Brücken-Die-Oberseitenkontakten elektrisch mit dem Bulk-Teil gekoppelt ist, um Leistung durch den Bulk-Teil des Brücken-Dies zu dem wenigstens einen der Mehrzahl von Brücken-Die-Oberseitenkontakten und zu einem oder mehreren Dies, die elektrisch mit dem wenigstens einen der Mehrzahl von Brücken-Die-Oberseitenkontakten verbunden sind, zu leiten.
Abstract:
A high-speed I/O trace is part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate includes an integrated heat spreader footprint on a die-side and the I/O trace to couple with an IC device to be disposed inside the IHS footprint. The I/O trace includes a pin-out terminal outside the IHS footprint to couple to an IC device to be disposed outside the IHS footprint. The high-speed I/O trace can sustain a data flow rate from a processor in a range from 5 gigabits per second (Gb/s) to 40 Gb/s.
Abstract:
Es ist eine Vorrichtung vorgesehen, die Folgendes umfasst: ein Substrat, wobei das Substrat kristallines Material umfasst, einen ersten Satz von einem oder mehreren Kontakten auf einer ersten Substratoberfläche, einen zweiten Satz von einem oder mehreren Kontakten auf einer zweiten Substratoberfläche, wobei die zweite Substratoberfläche der ersten Substratoberfläche gegenüberliegt, eine erste Durchkontaktierung durch das Substrat, gekoppelt mit einem ersten des ersten Kontaktsatzes und mit einem ersten des zweiten Kontaktsatzes; eine zweite Durchkontaktierung durch das Substrat, gekoppelt mit einem zweiten des ersten Kontaktsatzes und mit einem zweiten des zweiten Kontaktsatzes, einen Graben im Substrat von der ersten Substratoberfläche zur zweiten Substratoberfläche, wobei der Graben von der ersten Durchkontaktierung und der zweiten Durchkontaktierung beabstandet ist und zwischen diesen liegt, und dielektrisches Material, das den Graben füllt. Andere Ausführungsformen werden ebenfalls offenbart und beansprucht.