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公开(公告)号:CN119452124A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202380050111.0
申请日:2023-08-07
Applicant: JX金属株式会社
Abstract: 本发明涉及一种表面处理铜箔,其具有铜箔及形成于铜箔的至少一面的表面处理层。关于表面处理层,山部的实体部体积Vmp为0.010~0.080μm3/μm2,且Zn附着量为10~250μg/dm2。
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公开(公告)号:CN119452124A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202380050111.0
申请日:2023-08-07
Applicant: JX金属株式会社
Abstract: 本发明涉及一种表面处理铜箔,其具有铜箔及形成于铜箔的至少一面的表面处理层。关于表面处理层,山部的实体部体积Vmp为0.010~0.080μm3/μm2,且Zn附着量为10~250μg/dm2。