公开(公告)号：KR20180071397A

公开(公告)日：2018-06-27

申请号：KR20187016887

申请日：2016-11-16

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： KURITSYN ALEXEY ,  AHR BRIAN ,  GARCIA RUDY ,  CHILESE FRANK ,  KHODYKIN OLEG

IPC: H05G2/00

CPC classification number: H05G2/008

Abstract: 본개시는, 드럼의외부표면상에코팅되는, 크세논(Xenon)과같은타겟재료를갖는레이저생성플라즈마광원에관한것이다. 실시형태는 LPP 챔버로의오염물질및/또는베어링가스의누출을감소시키기위한구조체를구비하는드럼을회전시키기위한베어링시스템을포함한다. 드럼상의타겟재료를코팅하고보충하기위한주입시스템이개시된다. 드럼상에타겟재료표면을준비하기위한, 예를들면, 타겟재료표면의평활화를위한와이퍼시스템이개시된다. 드럼의온도를냉각및 유지하기위한시스템및 드럼위에놓이는하우징이또한개시된다.

公开(公告)号：DE112018000672T5

公开(公告)日：2019-12-12

申请号：DE112018000672

申请日：2018-02-03

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： HAYNES ROBERT ,  CHILESE FRANK ,  PREIL MOSHE

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: Eine Mehrsäulenanordnung für ein Rasterelektronenmikroskopiesystem (REM-System) ist offenbart. Die Mehrsäulenanordnung enthält eine Vielzahl elektronenoptischer Säulen, die in einem Array angeordnet sind, das durch einen oder mehrere Abstände definiert ist. Jede elektronenoptische Säule enthält ein oder mehrere elektronenoptische Elemente. Die Vielzahl von elektronenoptischen Säulen ist konfiguriert, um einen oder mehrere Feldbereiche auf einer Oberfläche einer Probe zu charakterisieren, die auf einem Tisch befestigt ist. Die Anzahl der elektronenoptischen Säulen in der Vielzahl der elektronenoptischen Säulen ist gleich einer ganzzahligen Anzahl von Inspektionsbereichen in einem Feldbereich des einen oder der mehreren Feldbereiche. Der eine oder die mehreren Abstände der Vielzahl elektronenoptischer Säulen entsprechen einer oder mehreren Dimensionen der Inspektionsbereiche.

公开(公告)号：EP2836817A4

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：EP13776111

申请日：2013-04-08

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： CHILESE FRANK ,  WACK DANIEL ,  FOWLER DOUGLAS

IPC: G01N21/33 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/20 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/22 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891

公开(公告)号：EP3025565A4

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：EP14829857

申请日：2014-07-21

Applicant: KLA-TENCOR CORP

Inventor： BYKANOV ALEXANDER ,  KHODYKIN OLEG ,  WACK DANIEL ,  TSIGUTKIN KONSTANTIN ,  HALE LAYTON ,  WALSH JOSEPH ,  CHILESE FRANK

IPC: G03F7/20 ,  G01J1/16 ,  G01N21/956 ,  G03F1/84 ,  G21B1/23 ,  G21K5/00 ,  H01L21/027 ,  H05G2/00

CPC classification number: H05G2/008 ,  G01J1/16 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G01N2201/061 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70891 ,  H05H2240/00

Abstract: An EUV light source includes a rotatable, cylindrically-symmetric element having a surface coated with a plasma-forming target material, a drive laser source configured to generate one or more laser pulses sufficient to generate EUV light via formation of a plasma by excitation of the plasma-forming target material, a set of focusing optics configured to focus the one or more laser pulses onto the surface of the rotatable, cylindrically-symmetric element, a set of collection optics configured to receive EUV light emanated from the generated plasma and further configured to direct the illumination to an intermediate focal point, and a gas management system including a gas supply subsystem configured to supply plasma-forming target material to the surface of the rotatable, cylindrically-symmetric element.

Abstract translation: EUV光源包括具有用等离子体形成靶材涂覆的表面的可旋转圆柱对称元件，配置成产生一个或多个激光脉冲的驱动激光源，该激光脉冲足以通过激励 等离子体形成靶材料，一组聚焦光学器件，其被配置为将所述一个或多个激光脉冲聚焦到所述可旋转圆柱对称元件的表面上;一组收集光学器件，其被配置为接收从所产生的等离子体发出的EUV光并且被进一步配置 以将照明引导至中间焦点;以及气体管理系统，其包括气体供应子系统，所述气体供应子系统被配置为将等离子体形成目标材料供应至所述可旋转圆柱对称元件的表面。

公开(公告)号：EP2956714A4

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：EP14751032

申请日：2014-02-11

Applicant: KLA-TENCOR CORP ,  SANDIA CORP

Inventor： CHILESE FRANK ,  TORCZYNSKI JOHN R ,  GARCIA RUDY ,  KLEBANOFF LEONARD E ,  DELGADO GILDARDO R ,  RADER DANIEL S ,  GELLER ANTHONY S ,  GALLIS MICHAIL A

IPC: G03F7/20 ,  F21V14/00

CPC classification number: G01N21/59 ,  G03F7/70933 ,  G03F7/70983