Abstract:
An image sensor for short-wavelength light includes a semiconductor membrane, circuit elements formed on one surface of the semiconductor membrane, and a pure boron layer on the other surface of the semiconductor membrane. An anti-reflection or protective layer is formed on top of the pure boron layer. This image sensor has high efficiency and good stability even under continuous use at high flux for multiple years. The image sensor may be fabricated using CCD (charge coupled device) or CMOS (complementary metal oxide semiconductor) technology. The image sensor may be a two-dimensional area sensor, or a one-dimensional array sensor.
Abstract:
Ein Bildsensor für Licht mit kurzer Wellenlänge umfasst eine Halbleitermembran, Schaltungselemente, die auf einer Oberfläche der Halbleitermembran ausgebildet sind, und eine reine Borschicht auf der anderen Oberfläche der Halbleitermembran. Eine antireflektierende oder schützende Schicht ist auf der Oberseite der reinen Borschicht ausgebildet. Dieser Bildsensor hat eine hohe Effizienz und hohe Stabilität selbst bei kontinuierlicher Nutzung mit hohem Fluss über mehrere Jahre hinweg. Der Bildsensor kann unter Anwendung einer CCD-(ladungsgekoppeltes Bauelement) oder CMOS-(komplementärer Metall-Oxid-Halbleiter)Technik hergestellt werden. Der Bildsensor kann ein zweidimensionaler Flächensensor oder ein eindimensionaler Array-Sensor sein.