Abstract:
본 발명은 휴대용 열전 충전장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일예와 관련된 열전 충전장치는 열에너지를 전기 에너지로 변환하는 열전부; 및 상기 열전부의 일측에 위치하고, 상기 열전부와 전기적으로 연결되어 상기 전기 에너지를 출력하는 출력부;를 포함하되, 상기 열전부는, 복수의 제 1 열전부재가 증착된 제 1 기판 및 상기 복수의 제 1 열전부재와 열전쌍을 이루는 복수의 제 2 열전부재가 증착된 제 2 기판을 포함하되, 상기 복수의 제 1 열전부재가 증착된 면과 상기 복수의 제 2 열전부재가 증착된 면이 접하도록 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판은 융착되고, 상기 복수의 제 1 열전부재는 상기 제 1 기판의 일단으로부터 타단을 향한 방향으로 증착되고, 상기 복수의 제 2 열전부재는 상기 제 2 기판의 일단으로부터 타단을 향한 방향으로 증착되며, 상기 복수의 제 1 열전부재 및 상기 복수의 제 2 열전부재는, 교대로 직렬 연결되되, 상기 복수의 제 1 열전부재 중 n번째 열전부재의 일단과 n+1번째 열전부재의 타단을 상기 제 2 열전부재가 연결하도록 증착되고, 상기 출력부는, 상기 직렬연결된 제 1 열전부재 및 제 2 열전부재의 일단과 타단에 전기적으로 연결되며, 상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판은 유연성 기판일 수 있다.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung stellt eine halbleiterbasierte Photovoltaikvorrichtung und ein Herstellungsverfahren dafür bereit. Die halbleiterbasierte Photovoltaikvorrichtung ist in der Lage, Licht mit einer breitbandigen Wellenlänge zu absorbieren und hat eine hohe photoelektrische Konversionseffizienz, weil sie eine hohe Separationseffizienz für Elektron-Loch-Paare aufweist. Spezieller umfasst das verfahren zur Herstellung der Photovoltaikvorrichtung die Schritte a) Ausbilden einer Halbleiterquantenpunktdünnschicht auf einem Halbleitersubstrat vom p- oder n-Typ, wobei die Halbleiterquantenpunktdünnschicht innerhalb eines Mediums, bei welchem derselbe Typ von Störstellen wie das Halbleitersubstrat dotiert sind, Halbleiterquantenpunkte beinhaltet; b) Ausbilden einer Porenanordnung durch Teilätzung, wobei die Porenanordnung die Halbleiterquantenpunktdünnschicht durchdringt; c) Abscheiden eines Halbleiters, in welchem zu dem Halbleitersubstrat komplementäre Störstellen dotiert sind, auf der Halbleiterquantenpunktdünnschicht, bei welcher die Porenanordnung ausgebildet ist; und d) nacheinander Ausbilden einer transparenten leitfähigen Schicht und einer oberen Elektrode auf dem Halbleiter, in welchem die komplementären Störstellen dotiert sind, und Ausbilden einer unteren Elektrode an einem unteren Abschnitt des Halbleitersubstrats.
Abstract:
The present invention provides a semiconductor based photovoltaic device and a manufacturing method thereof. The semiconductor based photovoltaic device is able to absorb light with a wide band wavelength, and has high photoelectric conversion efficiency since it has high electron-hole pair separation efficiency. More specifically, the method for manufacturing the photovoltaic device comprises the steps of: a) forming a thin semiconductor quantum dot film on a p or n-type semiconductor substrate, wherein the thin semiconductor quantum dot film includes semiconductor quantum dots inside a medium at which the same type of impurities as the semiconductor substrate are doped; b) forming a pore array through partial etching, wherein the pore array penetrates the thin semiconductor quantum dot film; c) depositing a semiconductor in which complementary impurities to the semiconductor substrate are doped on the thin semiconductor quantum dot film at which the pore array is formed; and d) forming sequentially a transparent conductive film and an upper electrode on the semiconductor in which the complementary impurities are doped and forming a lower electrode at a lower portion of the semiconductor substrate.