Abstract:
There are provided a glass substrate for mounting optical parts capable of mounting a plurality of optical parts having different diameters by positioning the optical parts precisely, comprising: a groove for securing a first optical part having a relatively small diameter among a plurality of optical parts, V-shaped grooves formed on either side of the groove for securing a first optical part, and a groove for securing a second optical part formed so that outer tapered sections of the V-shaped grooves become outer grooves for securing an optical part having a relatively large diameter among a plurality of optical parts; a method for producing the same, and an assembly using the substrate.
Abstract:
Ein Verbindungssubstrat umfasst ein Keramiksubstrat mit einem Durchgangsloch darin und einen Durchgangsleiter 11, der in dem Durchgangsloch bereitgestellt ist und eine erste Hauptoberfläche 11a und eine zweite Hauptoberfläche 11b umfasst. Der Durchgangsleiter 11 umfasst einen porösen Metallkörper 20, der erste offene Poren 16A, 16D, die mit der ersten Hauptoberfläche 11a in Verbindung stehen, und zweite offene Poren 16B, die mit der zweiten Hauptoberfläche 11b in Verbindung stehen, umfasst, erste Glasphasen 17, 19, die jeweils in den ersten offenen Poren 16A, 16D bereitgestellt sind, zweite Glasphasen 17B, die jeweils in den zweiten offenen Poren 16B bereitgestellt sind, erste Räume 30, die jeweils in den ersten offenen Poren bereitgestellt sind, und zweite Räume 32, die jeweils in den zweiten offenen Poren 16B bereitgestellt sind. Die ersten Räume 30 sind geschlossene Räume, die nicht mit der ersten Hauptoberfläche in Verbindung stehen. Die zweiten Räume 32 sind offene Räume, die mit der zweiten Hauptoberfläche 11b in Verbindung stehen.
Abstract:
A SiO2-Al2O3-Li2O component-based glass material, which comprises, as basic components, SiO2: 60-63 wt%; Al2O3: 23-25 wt%; and Li2O: 4-5 wt% and, as modifying components, ZrO2 : 1.5-2.5 wt%; TiO2: 0.5-2.5 wt%; MgO: 0.5-1.5 wt%; ZnO: 0.5-1.2 wt%; Na2O: 0.5-2.0 wt%; and K2O: 0.5-2.0 wt%, and further comprises any one of BaO: 0.5-1.0 wt, CaO: 1.0-2.0 wt%, and B2O3: 0.01-1.0 wt%. This can be reheat-formed in a glass state and has a low thermal expansion coefficient.
Abstract:
Eine Metallpaste wird in ein Durchgangsloch eines Keramiksubstrats zugeführt und zum Erzeugen eines porösen Metallkörpers erwärmt. Eine Glaspaste wird auf eine Hauptoberfläche des porösen Metallkörpers aufgebracht, während die Glaspaste in offene Poren des porösen Metallkörpers imprägniert wird. Die Glaspaste wird durch Erwärmen ausgehärtet, so dass eine Glasschicht auf der Hauptoberfläche des porösen Metallkörpers gebildet wird, und so dass die Glaspaste, die in die offenen Poren imprägniert worden ist, zu Glasphasen gemacht wird. Die Glasschicht wird entfernt, so dass ein Verbindungssubstrat 10 erhalten wird, das ein Keramiksubstrat 11A und Durchgangsleiter 11 aufweist, die jeweils in Durchgangslöchern 2A bereitgestellt sind. Der Durchgangsleiter 11 umfasst den porösen Metallkörper und Glasphasen.
Abstract:
Ein Durchgangsleiter 11, der in einem Durchgangsloch eines Keramiksubstrats bereitgestellt ist, umfasst einen porösen Metallkörper 20, Glasphasen 17 und 19, die in Poren 16A bis 16D des porösen Metallkörpers 20 ausgebildet sind, und Räume 30 und 31 in den Poren. Der Anteil einer Fläche der Poren beträgt 5 bis 50 Prozent in einem Querschnitt des Durchgangsleiters 11. Der Durchgangsleiter 11 ist in einen ersten Teil 11A auf einer Seite der ersten Hauptoberfläche 11a und einen zweiten Teil 11B auf einer Seite der zweiten Hauptoberfläche 11b in einer Richtung B der Dicke des Keramiksubstrats getrennt, wobei der Anteil einer Fläche von Glasphasen, welche die Poren in dem ersten Teil 11A belegen, höher ist als der Anteil einer Fläche von Glasphasen, welche die Poren in dem zweiten Teil 11B belegen. Der Anteil einer Fläche von Räumen, welche die Poren in dem ersten Teil 11A belegen, ist geringer als der Anteil einer Fläche der Poren, welche die Poren in dem zweiten Teil 11B belegen.
Abstract:
A SiO2-Al2O3-Li2O component-based glass material, which comprises, as basic components, SiO2: 60-63 wt%; Al2O3: 23-25 wt%; and Li2O: 4-5 wt% and, as modifying components, ZrO2 : 1.5-2.5 wt%; TiO2: 0.5-2.5 wt%; MgO: 0.5-1.5 wt%; ZnO: 0.5-1.2 wt%; Na2O: 0.5-2.0 wt%; and K2O: 0.5-2.0 wt%, and further comprises any one of BaO: 0.5-1.0 wt, CaO: 1.0-2.0 wt%, and B2O3: 0.01-1.0 wt%. This can be reheat-formed in a glass state and has a low thermal expansion coefficient.
Abstract:
It is provided an insulating substrate including through holes for conductors arranged in the insulating substrate. A thickness of the insulating substrate is 25 to 100 µ m, and a diameter of the through hole is 20 to 100 µ m. The insulating substrate includes a main body part and exposed regions exposed to the through holes and is composed an alumina sintered body. A relative density of the alumina sintered body is 99.5 percent or higher. The alumina sintered body has a purity of 99.9 percent or higher, and has an average grain size of 3 to 6 µ m in said main body part. Alumina grains are plate-shaped in the exposed region and the plate-shaped alumina grains have an average length of 8 to 25 µ m.
Abstract:
A handle substrate 11 or 11A is formed of an insulating polycrystalline material, the handle substrate has a surface 15 having a microscopic central line average surface roughness Ra of 5nm or smaller, and height differences 3 are provided between exposed faces 2a of crystal grains 2 exposing to said surface 15.