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公开(公告)号：AT13564U1
公开(公告)日：2014-03-15
申请号：AT262013
申请日：2013-01-31
Applicant: PLANSEE SE
Inventor： LINKE CHRISTIAN , LI JIEHUA , SCHUMACHER PETER , KNABL WOLFRAM , LEICHTFRIED GERHARD
Abstract: Die Erfindung beschreibt ein Sputtertarget aus einer Legierung die aus 5 bis 70at% mindestens eines Elements der Gruppe (Ga, In), sowie 0,1 bis 15at% Na, dem Rest Cu sowie üblichen Verunreinigungen besteht, dadurch gekennzeichnet, dass das Sputtertarget mindestens eine intermetallische Na-enthaltende Phase beinhaltet.
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