Procédé de fabrication d'un transistor bipolaire

    公开(公告)号:FR3153928A1

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:FR2310679

    申请日:2023-10-05

    Abstract: Procédé de fabrication d'un transistor bipolaire La présente description concerne un procédé de fabrication d’un transistor bipolaire (201) comprenant :- la formation d’une première partie (213A, 213B) d’un collecteur (213) dopé d’un premier type de conductivité dans une couche de semiconducteur (210);- la formation d’une première région isolante (231, 232), comprenant un premier matériau isolant, sur la première partie du collecteur ;- la formation d’une couche de conduction sur la première région isolante, ladite couche de conduction étant destinée à former une première partie (214C) d’une base (214) dopée du deuxième type de conductivité ;- la formation d’une ouverture dans la couche de conduction, ladite ouverture débouchant sur la première région isolante et ayant une première largeur ;- la formation d’une couche isolante sur la couche de conduction et dans l’ouverture ;- la formation d’une cavité dans la couche isolante et dans la première région isolante, ladite cavité débouchant sur une portion de la première partie du collecteur en traversant l’ouverture, la cavité présentant au niveau de l’ouverture une deuxième largeur inférieure à la première largeur ;- la formation d’une deuxième partie (213C) du collecteur dans la cavité sur la portion de la première partie du collecteur. Figure pour l'abrégé : Fig. 2L

    Transistor bipolaire
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:FR3149429A1

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:FR2305435

    申请日:2023-05-31

    Inventor: CHEVALIER PASCAL

    Abstract: Transistor bipolaire La présente description concerne un dispositif comprenant un transistor bipolaire (66), le transistor bipolaire (66) comprenant : - une région de collecteur (30, 32, 32a, 32b, 34), une région de base (40, 40a, 40b), et une région d'émetteur (44) ; - une première métallisation (54) en contact avec la région d'émetteur ; et - un élément de connexion (72) relié avec la première métallisation (54) et ayant des dimensions, dans le plan de l'interface entre la première métallisation (54) et l'élément de connexion (72), supérieures aux dimensions de la première métallisation (54). Figure pour l'abrégé : Fig. 2

    Transistor bipolaire
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:FR3148117B1

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:FR2304036

    申请日:2023-04-21

    Abstract: Transistor bipolaire La présente description concerne un dispositif électronique (10) comprenant un transistor bipolaire (12), le collecteur (30, 32, 34) du transistor bipolaire comprenant des première (30, 32) et deuxième (34) régions, la deuxième région (34) étant entre la première région (30, 32) et la base (40, 40a, 40b) du transistor bipolaire, le transistor bipolaire comprenant un élément conducteur (36) entourant au moins partiellement la deuxième partie (34) et étant situé entre la première partie (30, 32) et la base (40, 40a, 40b). Figure pour l'abrégé : Fig. 1

Patent Agency Ranking