公开(公告)号：EP1535712B1

公开(公告)日：2009-01-14

申请号：EP03354086.5

申请日：2003-11-28

Applicant: Xenocs S.A.

Inventor： Hoghoj, Peter ,  Siebrecht, Ralf ,  Rodrigues, Sergio

IPC: B29C33/38 ,  B29C33/56 ,  B29L11/00 ,  G02B5/08 ,  C03B11/08

CPC classification number: B29C33/56 ,  B29C33/3878 ,  B29C33/58 ,  B29C33/62 ,  B29C39/126 ,  B29K2995/0073

公开(公告)号：EP1732087A2

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：EP06120020.0

申请日：2003-06-19

Applicant: Xenocs

Inventor： Hoghoj, Peter ,  Dariel, Aurélien ,  Rodrigues, Sergio

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: La présente invention concerne un ensemble optique réflectif multicouche (10) à gradient latéral dont la surface réfléchissante est destinée à réfléchir des rayons X incidents sous faible angle d'incidence en produisant un effet optique bidimensionnel, caractérisé par le fait que ladite surface réfléchissante est constituée d'une surface unique, ladite surface réfléchissante étant conformée selon deux courbures correspondant à deux directions différentes.
La présente invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique, caractérisé en ce que le procédé comprend le revêtement d'un substrat présentant déjà une courbure, et la courbure de ce substrat selon une deuxième direction différente.
L'invention concerne enfin un dispositif de génération et de conditionnement de rayons X pour des applications de réflectométrie RX dispersive en angle comprenant un ensemble optique tel que mentionné ci-dessus couplé à une source rayons X de telle sorte que les rayons X émis par la source sont conditionnés en deux dimensions afin d'adapter le faisceau émis par la source à destination d'un échantillon, les rayons X ayant des angles d'incidences différents sur l'échantillon considéré.

Abstract translation: 多层反射光学单元具有横向梯度，其反射表面用于反射以锐角入射的X射线并产生二维光学效应。 所述反射表面具有沿着两个不同方向上的两个曲线成形的单个表面。 本发明还涉及用于制造这样的光学单元的相应方法，其中沿着不同方向涂覆已经弯曲的基底，以及用于处理X射线的装置，用于RX角色散反射测量，其用于调节光束入射 在样品上，使其包含具有不同入射角的光线。

公开(公告)号：EP2075569B1

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：EP07291646.3

申请日：2007-12-31

Applicant: Xenocs S.A.

Inventor： Lantz, Blandine ,  Hoghoj, Peter

IPC: G01N23/20

CPC classification number: G01N23/20008 ,  G21K2201/062

公开(公告)号：EP1535712A1

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：EP03354086.5

申请日：2003-11-28

Applicant: Xenocs S.A.

Inventor： Hoghoj, Peter ,  Siebrecht, Ralf ,  Rodrigues, Sergio

IPC: B29C33/38 ,  B29C33/56 ,  B29L11/00 ,  G02B5/08 ,  C03B11/08

CPC classification number: B29C33/56 ,  B29C33/3878 ,  B29C33/58 ,  B29C33/62 ,  B29C39/126 ,  B29K2995/0073

Abstract: In a method for producing a replication master (10) having a surface with low roughness, comprising the steps of forming said master (10) such as to have a desired external surface shape corresponding to a counterform of a surface of an object (18, 20) to be produced by replication and treating said external surface of said master (10) to obtain a predetermined surface roughness value, it is proposed that said method furthermore comprises the step of coating at least a part of said master (10) with a smoothening layer (16). The invention further relates to a replication master (10) for producing a smooth object (18, 20) having a low surface roughness, wherein at least a part of said master (10) is coated with a smoothening layer (16).

Abstract translation: 在用于制造具有低粗糙度表面的复制母版（10）的方法中，包括以下步骤：形成所述母版（10）以具有与对象（18）的表面的对应形状相对应的期望外表面形状， 20）通过复制和处理所述母模（10）的所述外表面以获得预定的表面粗糙度值而生产，建议所述方法还包括以下步骤：在所述母模（10）的至少一部分上涂覆 平滑层（16）。 本发明还涉及一种用于产生具有低表面粗糙度的光滑物体（18,20）的复制母盘（10），其中所述母盘（10）的至少一部分涂覆有平滑层（16）。

公开(公告)号：EP2075569A1

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：EP07291646.3

申请日：2007-12-31

Applicant: Xenocs S.A.

Inventor： Lantz, Blandine ,  Hoghoj, Peter

IPC: G01N23/20

CPC classification number: G01N23/20008 ,  G21K2201/062

Abstract: The invention refers to an X-ray beam device for X-ray analytical applications, comprising an X-ray source designed such as to emit a divergent beam of X-rays; and an optical assembly designed such as to focus said beam onto a focal spot, wherein said optical assembly comprises a first reflecting optical element, a monochromator device and a second reflecting optical element sequentially arranged between said source and said focal spot, wherein said first optical element is designed such as to collimate said beam in two dimensions towards said monochromator device, and wherein said second optical element is designed such as to focus the beam coming from said monochromator device in two dimensions onto said focal spot.

Abstract translation: 本发明涉及用于X射线分析应用的X射线束装置，其包括设计成发射X射线发散束的X射线源; 以及设计成将所述光束聚焦到焦斑上的光学组件，其中所述光学组件包括顺序地布置在所述光源和所述焦点之间的第一反射光学元件，单色器装置和第二反射光学元件，其中所述第一光学 元件被设计成使得所述光束在二维上朝向所述单色仪装置校准，并且其中所述第二光学元件被设计成将来自所述单色仪装置的光束二维聚焦在所述焦斑上。

公开(公告)号：EP1732087A3

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：EP06120020.0

申请日：2003-06-19

Applicant: Xenocs

Inventor： Hoghoj, Peter ,  Dariel, Aurélien ,  Rodrigues, Sergio

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: La présente invention concerne un ensemble optique réflectif multicouche (10) à gradient latéral dont la surface réfléchissante est destinée à réfléchir des rayons X incidents sous faible angle d'incidence en produisant un effet optique bidimensionnel, caractérisé par le fait que ladite surface réfléchissante est constituée d'une surface unique, ladite surface réfléchissante étant conformée selon deux courbures correspondant à deux directions différentes caractérisé en ce que la surface réfléchissante a un rayon de courbure saggitale inférieur à 20 mm.
La présente invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique, caractérisé en ce que le procédé comprend le revêtement d'un substrat présentant déjà une courbure, et la courbure de ce substrat selon une deuxième direction différente.
L'invention concerne enfin un dispositif de génération et de conditionnement de rayons X pour des applications de réflectométrie RX dispersive en angle comprenant un ensemble optique tel que mentionné ci-dessus couplé à une source rayons X de telle sorte que les rayons X émis par la source sont conditionnés en deux dimensions afin d'adapter le faisceau émis par la source à destination d'un échantillon, les rayons X ayant des angles d'incidences différents sur l'échantillon considéré.