ENSEMBLE OPTIQUE ET PROCEDE ASSOCIE
    2.
    发明申请
    ENSEMBLE OPTIQUE ET PROCEDE ASSOCIE 审中-公开
    光学单元及相关方法

    公开(公告)号:WO2004001770A1

    公开(公告)日:2003-12-31

    申请号:PCT/FR2003/001896

    申请日:2003-06-19

    Abstract: La présente invention concerne un ensemble optique réflectif multicouche (10) à gradient latéral dont la surface réfléchissante est destinée à réfléchir des rayons X incidents sous faible angle d'incidence en produisant un effet optique bidimensionnel, caractérisé par le fait que ladite surface réfléchissante est constituée d'une surface unique, ladite surface réfléchissante étant conformée selon deux courbures correspondant à deux directions différentes. La présente invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique, caractérisé en ce que le procédé comprend le revêtement d'un substrat présentant déjà une courbure, et la courbure de ce substrat selon une deuxième direction différente. L'invention concerne enfin un dispositif de génération et de conditionnement de rayons X pour des applications de réflectométrie RX dispersive en angle comprenant un ensemble optique tel que mentionné ci-dessus couplé à une source rayons X de telle sorte que les rayons X émis par la source sont conditionnés en deux dimensions afin d'adapter le faisceau émis par la source à destination d'un échantillon, les rayons X ayant des angles d'incidences différents sur l'échantillon considéré.

    Abstract translation: 本发明涉及具有横向梯度的多层反射光学单元(10),其反射表面用于反射以锐角入射的X射线并产生二维光学效应,其特征在于所述 反射表面由单个表面组成,并且所述反射表面在两个不同方向上成形为两条曲线。 本发明还涉及一种用于生产这种光学单元的方法,其特征在于该方法包括在第二不同方向涂覆已经具有曲线的基板和基板的弯曲。 还公开了一种用于生成和处理用于RX角色散反射测量的X射线的装置,包括如上所述的光学单元,其耦合到X射线源,使得由源发射的X射线在二维处理 为了使源发射的光束适应于样品,X射线具有在考虑的样品上不同的入射角。

    DISPOSITIF OPTIQUE POUR APPLICATIONS RAYONS X
    3.
    发明申请
    DISPOSITIF OPTIQUE POUR APPLICATIONS RAYONS X 审中-公开
    用于X射线应用的光学装置

    公开(公告)号:WO2004001769A1

    公开(公告)日:2003-12-31

    申请号:PCT/FR2003/001879

    申请日:2003-06-19

    Abstract: L'invention concerne un dispositif optique destiné à traiter un faisceau incident de rayons X, ledit dispositif comprenant : un monochromateur et un élément optique de conditionnement du faisceau incident dont la surface réfléchissante est apte à produire un effet optique bidimensionnel pour adapter un faisceau à destination du monochromateur, ledit élément optique comprenant une surface réfléchissante aux rayons X de type structure multicouche,caractérisé par le fait que ladite surface réfléchissante est constituée d'une surface unique, ladite surface réfléchissante étant conformée selon deux courbures correspondant à deux directions différentes.

    Abstract translation: 本发明涉及一种旨在处理入射的X射线束的光学装置。 本发明的装置包括:单色仪; 以及具有能够产生二维光学效果的反射面的光入射光束调节元件,以适应朝向单色仪的光束,上述光学元件包括多层的X射线反射表面。 本发明的特征在于,反射表面包括单个表面,所述反射表面在两个不同的方向上弯曲。

    METHOD OF DEPOSITION WITH REDUCTION OF CONTAMINANTS IN AN ION ASSIST BEAM AND ASSOCIATED APPARATUS
    4.
    发明申请
    METHOD OF DEPOSITION WITH REDUCTION OF CONTAMINANTS IN AN ION ASSIST BEAM AND ASSOCIATED APPARATUS 审中-公开
    在离子辅助束和相关装置中减少污染物沉积的方法

    公开(公告)号:WO2006040613A1

    公开(公告)日:2006-04-20

    申请号:PCT/IB2004/003574

    申请日:2004-10-13

    CPC classification number: C23C14/46 B82Y10/00 B82Y40/00 G03F1/24 G03F1/68

    Abstract: The invention relates to a dual Ion Beam Sputtering method for depositing onto a substrate (S) material generated by the sputtering of a target (121-123) by a sputtering ion beam (110), said method comprising the operation of an assistance ion beam (130) directed onto said substrate in order to assist the deposition of material, said method being characterized in that during the operation of said assistance beam said sputtering beam is also operated in association with said assistance beam, and during said operation of the sputtering beam in association with the assistance beam the sputtering beam crosses a desired part of the assistance beam in order to transport contaminants associated to said desired part of the assistance beam away from said substrate.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于沉积到通过溅射离子束(110)溅射靶(121-123)而产生的衬底(S)上的双离子束溅射方法,所述方法包括辅助离子束 (130),以便辅助沉积材料,所述方法的特征在于,在所述辅助束的操作期间,所述溅射束还与所述辅助光束相关联地操作,并且在溅射束的所述操作期间 与辅助束相关联,溅射束与辅助光束的期望部分交叉,以便将与所述辅助光束的所需部分相关联的污染物输送离开所述衬底。

    ENSEMBLE OPTIQUE DE COQUES RÉFLECTIVES ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
    5.
    发明申请
    ENSEMBLE OPTIQUE DE COQUES RÉFLECTIVES ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ 审中-公开
    反射镜的光学组件及相关方法

    公开(公告)号:WO2007135183A1

    公开(公告)日:2007-11-29

    申请号:PCT/EP2007/055034

    申请日:2007-05-24

    CPC classification number: G21K1/06 G21K2201/067

    Abstract: L'invention concerne un ensemble optique comprenant un empilement d'une pluralité de coques réflectives (10;20), chaque coque réflective comprenant un substrat (11) ayant une face arrière (111) comprenant une pluralité de nervures (111 ) formant entretoise et une face avant (112), et un revêtement réflecteur (12) pour rayons X déposé sur la face avant (112) du substrat (11), caractérisé en ce que chaque coque réflective (10) comprend en outre une couche d'adhésion (13) déposée sur le revêtement réflecteur (12), la couche d'adhésion (13) étant une couche mince formée dans un matériau inorganique permettant une adhésion moléculaire avec la face arrière du substrat (21) de la coque réflective adjacente (20). L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique.

    Abstract translation: 本发明涉及一种光学组件,其包括多个反射壳体(10; 20)的叠层,其中每个反射壳体包括具有多个间隔肋(111)的背面(111)和 前表面(112)和沉积在基板(11)的前表面(112)上的X射线反射涂层(12),其特征在于,每个反射壳体(10)还包括粘附层(13) 所述反射涂层(21),所述粘合剂层(13)是由能够与所述相邻反射壳体(20)的所述基板(21)的背面分子粘合的无机材料制成的薄层。 本发明还涉及制造这种光学组件的方法。

    A METHOD FOR PRODUCING A REPLICATION MASTER, REPLICATION METHOD AND REPLICATION MASTER
    6.
    发明申请
    A METHOD FOR PRODUCING A REPLICATION MASTER, REPLICATION METHOD AND REPLICATION MASTER 审中-公开
    一种生产复制主体,复制方法和复制主体的方法

    公开(公告)号:WO2005051626A1

    公开(公告)日:2005-06-09

    申请号:PCT/EP2004/053158

    申请日:2004-11-29

    Abstract: In a method for producing a replication master (10) having a surface with low roughness, comprising the steps of forming said master (10) such as to have a desired external surface shape corresponding to a counterform of a surface of an object (18, 20) to be produced by replication and treating said external surface of said master (10) to obtain a predetermined surface roughness value, it is proposed that said method furthermore comprises the step of coating at least a part of said master (10) with a soluble smoothening layer (16). The invention further relates to a replication master (10) for producing a smooth object (18, 20) having a low surface roughness, wherein at least a part of said master (10) is coated with a soluble smoothening layer (16).

    Abstract translation: 在制造具有低粗糙度的表面的复制主体(10)的方法中,包括以下步骤:形成所述主体(10),以便具有对应于物体表面(18,18)的反面形状的期望的外表面形状, 20)通过复制和处理所述母盘(10)的所述外表面以获得预定的表面粗糙度值来产生,所以提出所述方法还包括以下步骤:将所述母版(10)的至少一部分涂覆到所述母版 可溶性平滑层(16)。 本发明还涉及一种用于生产具有低表面粗糙度的光滑物体(18,20)的复制主体(10),其中所述主体(10)的至少一部分涂覆有可溶平滑层(16)。

    DISPOSITIF OPTIQUE POUR APPLICATIONS RAYONS X
    7.
    发明授权
    DISPOSITIF OPTIQUE POUR APPLICATIONS RAYONS X 有权
    光学装置用于X射线应用

    公开(公告)号:EP1514279B1

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:EP03760747.0

    申请日:2003-06-19

    Applicant: Xenocs

    Abstract: The invention relates to an optical device which is intended to process an incident X-ray beam. The inventive device comprises: a monochromator; and an optical incident beam-conditioning element with a reflecting surface which can produce a bi-dimensional optical effect in order to adapt a beam directed towards the monochromator, the aforementioned optical element comprising a multi-layered, X-ray-reflecting surface. The invention is characterised in that the reflecting surface comprises a single surface, said reflecting surface being curved in two different directions.

    DISPOSITIF OPTIQUE POUR APPLICATIONS RAYONS X
    8.
    发明公开
    DISPOSITIF OPTIQUE POUR APPLICATIONS RAYONS X 有权
    光学装置用于X射线应用

    公开(公告)号:EP1514279A1

    公开(公告)日:2005-03-16

    申请号:EP03760747.0

    申请日:2003-06-19

    Applicant: Xenocs

    Abstract: The invention relates to an optical device which is intended to process an incident X-ray beam. The inventive device comprises: a monochromator; and an optical incident beam-conditioning element with a reflecting surface which can produce a bi-dimensional optical effect in order to adapt a beam directed towards the monochromator, the aforementioned optical element comprising a multi-layered, X-ray-reflecting surface. The invention is characterised in that the reflecting surface comprises a single surface, said reflecting surface being curved in two different directions.

    ENSEMBLE OPTIQUE ET PROCEDE ASSOCIE
    10.
    发明公开
    ENSEMBLE OPTIQUE ET PROCEDE ASSOCIE 有权
    光学装置和方法

    公开(公告)号:EP1468428A1

    公开(公告)日:2004-10-20

    申请号:EP03760756.1

    申请日:2003-06-19

    Applicant: Xenocs

    Abstract: The invention relates to a multilayer reflective optical unit (10) with a lateral gradient, the reflective surface of which serves to reflect X-rays which are incident at an acute angle of incidence and produce a two-dimensional optical effect, characterised in that said reflective surface is comprised of a single surface and said reflecting surface is shaped with two curves in two different directions. The invention further relates to a method for production of such an optical unit, characterised in that the method comprises coating a substrate already having a curve and a curving of the substrate in a second different direction. Also disclosed is a device for generation and processing of X-rays for application in RX angle dispersive reflectometry, comprising an optical unit as above, coupled to an X-ray source such that the X-rays emitted by the source are processed in two dimensions to adapt the beam emitted by the source for a sample, the X-rays having incident angles which are different on the sample under consideration.

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