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    COMPOSANT OPTIQUE HYBRIDE POUR APPLICATIONS RAYONS X, ET PROCEDE ASSOCIE
    2.
    发明申请
    COMPOSANT OPTIQUE HYBRIDE POUR APPLICATIONS RAYONS X, ET PROCEDE ASSOCIE 审中-公开
    用于X射线应用的混合光学组件及其相关方法

    公开(公告)号：WO2002097486A2

    公开(公告)日：2002-12-05

    申请号：PCT/FR2002/001831

    申请日：2002-05-31

    Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter

    Inventor： HOGHOJ, Peter

    IPC: G02B5/26

    CPC classification number: G02B5/0883 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/26 ,  G02B5/283 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/06

    Abstract: L'invention concerne selon un premier aspect un ensemble optique réflectif multicouche destiné à réfléchir des rayons X sous faible angle d'incidence en produisant un effet optique bidimensionnel, l'ensemble optique comportant: . un composant présentant une surface réféchissante conformée de manière à produire un premier effet optique selon une première direction de l'espace, . ansi que des moyens permettant de produire un deuxième effet optique selon une deuxième direction de l'espace, différente de la première direction, caractérisé en ce que lesdits moyens permettant de produire un deuxième effet optique sont portés par ladite surface réfléchissante. L'invention propose selon un second aspect un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique.

    Abstract translation: 本发明的一个方面涉及一种用于以低入射角反射X射线的多层反射光学系统，产生二维光学效应。 本发明的光学系统包括：具有反射的表面的部件，使得根据空间中的第一方向产生第一光学效应; 以及用于根据与第一方向不同的空间中的第二方向产生第二光学效果的装置，其特征在于，所述用于产生第二光学效果的装置由反射表面承担。 本发明的第二方面涉及一种用于生产所述光学系统的方法。

    4.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE60308645T2

    公开(公告)日：2007-10-18

    申请号：DE60308645

    申请日：2003-06-19

    Applicant: XENOCS

    Inventor： HOGHOJ PETER ,  DARIEL AURELIEN ,  RODRIGUES SERGIO

    IPC: G01N23/20 ,  G21K1/06 ,  G21K3/00

    Abstract: Multilayer reflective optical unit has a lateral gradient, the reflective surface of which serves to reflect X-rays which are incident at an acute angle of incidence and produce a 2-dimensional optical effect. Said reflective surface has a single surface that is shaped along two curves in two different directions. The invention also relates to a corresponding method for manufacturing such an optical unit in which a substrate that is already curved is coated along a different direction and a device for processing X-rays for use in RX angle dispersive reflectometry that serves to condition a beam incident on a sample such that it contains rays with different incidence angles.

    OPTICAL UNIT AND ASSOCIATED METHOD
    6.
    发明专利
    OPTICAL UNIT AND ASSOCIATED METHOD 未知

    公开(公告)号：AU2003260613A1

    公开(公告)日：2004-01-06

    申请号：AU2003260613

    申请日：2003-06-19

    Applicant: XENOCS

    Inventor： HOGHOJ PETER ,  DARIEL AURELIEN ,  RODRIGUES SERGIO

    IPC: G01N23/20 ,  G21K1/06 ,  G21K3/00

    Abstract: Multilayer reflective optical unit has a lateral gradient, the reflective surface of which serves to reflect X-rays which are incident at an acute angle of incidence and produce a 2-dimensional optical effect. Said reflective surface has a single surface that is shaped along two curves in two different directions. The invention also relates to a corresponding method for manufacturing such an optical unit in which a substrate that is already curved is coated along a different direction and a device for processing X-rays for use in RX angle dispersive reflectometry that serves to condition a beam incident on a sample such that it contains rays with different incidence angles.

    SYSTEME COMPACT D'ANALYSE PAR RAYONS-X
    7.
    发明专利
    SYSTEME COMPACT D'ANALYSE PAR RAYONS-X 未知

    公开(公告)号：FR2955391A1

    公开(公告)日：2011-07-22

    申请号：FR1050301

    申请日：2010-01-18

    Applicant: XENOCS

    Inventor： PANINE PIERRE ,  HOGHOJ PETER

    IPC: G01N23/201

    Abstract: L'invention concerne un dispositif de délivrance d'un faisceau de rayons-X pour l'analyse d'un échantillon (50), comprenant : - un bloc source (100) comprenant des moyens d'émission de rayons-X ; - un bloc optique (200) placé en aval du bloc source (100), ledit bloc optique (200) comprenant un composant optique monochromateur (210) ayant une surface réfléchissante (212) prévue pour conditionner des rayons-X émis par le bloc source (100) selon un effet optique monodimensionnel ou bidimensionnel ; et des moyens de définition (300) des rayons-X comprenant : o un organe (310) anti-diffusant de délimitation spatiale des rayons-X conditionnés par le composant optique monochromateur (210), placé en aval du composant optique monochromateur (210) et comprenant une ou plusieurs plaques (311) ayant des portions (313) agencées pour former un orifice de délimitation (312), lesdites portions (313) étant revêtues d'un matériau monocristallin limitant la diffusion de rayons-X ; o un organe (320) de coupure des rayons-X émis par le bloc source (100), comprenant des moyens d'absorption de rayons-X agencés dans le dispositif de délivrance pour couper les faisceaux directs de rayons-X susceptibles d'atteindre l'organe (310) anti-diffusant de délimitation spatiale sans conditionnement par le composant optique monochromateur (210).

    8.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT421152T

    公开(公告)日：2009-01-15

    申请号：AT03760747

    申请日：2003-06-19

    Applicant: XENOCS

    Inventor： HOGHOJ PETER ,  DARIEL AURELIEN ,  RODRIGUES SERGIO

    IPC: G01N23/20 ,  G21K1/06 ,  G21K3/00

    Abstract: Multilayer reflective optical unit has a lateral gradient, the reflective surface of which serves to reflect X-rays which are incident at an acute angle of incidence and produce a 2-dimensional optical effect. Said reflective surface has a single surface that is shaped along two curves in two different directions. The invention also relates to a corresponding method for manufacturing such an optical unit in which a substrate that is already curved is coated along a different direction and a device for processing X-rays for use in RX angle dispersive reflectometry that serves to condition a beam incident on a sample such that it contains rays with different incidence angles.

    ENSEMBLE OPTIQUE DE COQUES REFLECTIVES ET PROCEDE ASSOCIE
    9.
    发明专利
    ENSEMBLE OPTIQUE DE COQUES REFLECTIVES ET PROCEDE ASSOCIE 未知

    公开(公告)号：FR2901628A1

    公开(公告)日：2007-11-30

    申请号：FR0604666

    申请日：2006-05-24

    Applicant: XENOCS SOC PAR ACTIONS SIMPLIF

    Inventor： HOGHOJ PETER ,  RODRIGUES SERGIO

    IPC: G21K1/06 ,  G02B5/08

    Abstract: L'invention concerne un ensemble optique comprenant un empilement d'une pluralité de coques réflectives (10;20), chaque coque réflective comprenant un substrat (11) ayant une face arrière (111) comprenant une pluralité de nervures (111) formant entretoise et une face avant (112), et un revêtement réflecteur (12) pour rayons X déposé sur la face avant (112) du substrat (11), caractérisé en ce que chaque coque réflective (10) comprend en outre une couche d'adhésion (13) déposée sur le revêtement réflecteur (12), la couche d'adhésion (13) étant une couche mince formée dans un matériau inorganique permettant une adhésion moléculaire avec la face arrière du substrat (21) de la coque réflective adjacente (20).L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique.

    Controlled alteration of reflective properties of a multilayer used, e.g., as a mask for extreme ultraviolet lithography involves exposing desired regions to particle beam to shift reflectivity peak
    10.
    发明专利
    Controlled alteration of reflective properties of a multilayer used, e.g., as a mask for extreme ultraviolet lithography involves exposing desired regions to particle beam to shift reflectivity peak 未知

    公开(公告)号：FR2825473A1

    公开(公告)日：2002-12-06

    申请号：FR0107228

    申请日：2001-06-01

    Applicant: XENOCS

    Inventor： HOGHOJ PETER

    IPC: G02B5/08 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B1/10 ,  G03F7/26

    Abstract: Alteration of the reflective properties of desired regions of a multilayer structure (30) intended for exposure to and desired modification of radiation of a given wavelength involves exposure to a beam (20) of energetic particles. Control of exposure is performed in such a way that the reflectivity peak of each region is shifted in a desired manner within the wavelength spectrum. The multilayer structure (30) represents a reflective mask for lithography, and is intended for exposure to extreme ultraviolet (EUV) radiation. Preferably, the multilayer structure (30) comprises a diffractive pattern. Control of exposure of the structure (30) to the energy beam (20) is performed by adjusting the time of exposure of each individual region of the structure (30) to the beam (20), or by temporary and controlled modification of the energy beam (20). Alteration of the reflective properties of the region is achieved by modification of the period of the region, and constitutes treatment of the desired region to render it non-reflective or reflective. Independent claims are given for: (a) a reflective mask for lithography produced by the above process; (b) a mirror produced by the above process; and (c) use of the above process to adjust the optical properties of a multilayer structure comprising a mirror for EUV lithography. Preferred Use: The process is used for adjusting the optical properties of a multilayer structure.

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