用于防止在微阵列扫描中的过分曝光和光泄漏的掩模

    公开(公告)号:CN101507256A

    公开(公告)日:2009-08-12

    申请号:CN200680045923.2

    申请日:2006-12-04

    Inventor: D·Y·楚

    CPC classification number: G01N21/253 G01N2201/0446 G01N2201/1042

    Abstract: 微阵列的扫描是通过能够曝光微阵列上的多个但不是所有位置的掩模来实现的,并且掩模可相对于微阵列移动或者微阵列可相对于掩模移动,或者两者兼之。掩模作为在扫描头的行进处于待机、目标速度时限制对能够照明的微阵列上的微阵列位置的照明的部件是十分有用的,它能够在扫描头轨迹中的一些扫描头加速或者减速的点上阻止光在扫描头和微阵列之间的通过。通过防止光泄漏到与正在扫描的位置相邻的位置上,掩模可以十分有效地减小在微阵列成像中的背景噪声。

    Vorrichtung und Verfahren zum Analysieren von Proben

    公开(公告)号:EP1494007A1

    公开(公告)日:2005-01-05

    申请号:EP04014796.9

    申请日:2004-06-24

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) und ein Verfahren zum Bestimmen von Parametern von fluidhaltigen Proben (2) in einem System (3) zum individuellen Bestrahlen der Proben (2) mit Licht (4) einer Lichtquelle (5) in einer im wesentlichen vertikalen Einstrahlungsrichtung (6). Dabei umfasst dieses System (3) einen Detektor (7) zum Messen des von einer einzelnen Probe kommenden Lichts (8) und dieser Detektor (7) weist eine Detektionsrichtung (9') auf, welche auf einer optischen Achse (9) liegt, die im wesentlichen parallel zur optischen Achse (6) der Lichtquelle (5) ist. Diese Vorrichtung (1) umfasst zumindest eine Spiegelfläche (10), mit welcher das im wesentlichen vertikal aus der Lichtquelle (5) ankommende Licht (4) in eine im wesentlichen horizontale Durchstrahlungsrichtung (11) zumindest teilweise ablenkbar ist. Die erfindungsgemässe Vorrichtung bzw. das erfindungsgemässe Verfahren sind dadurch gekennzeichnet, dass die Detektionsrichtung (9') des Detektors (7) - zum Messen des individuellen, von einer einzelnen Probe (2) kommenden Lichts (8) - so in einem Winkel zu der optischen Achse des die Probe (2) durchstrahlenden Lichts (4) angeordnet ist, dass nur das von der einzelnen Probe (2) kommende Licht (8), nicht aber dieses Licht (4) in den Detektor (7) gelangt.

    Abstract translation: 系统(3)具有测量单个样品(8)的光并且在用于光源(5)的光轴(9)上具有检测装置的检测器(7)。 镜面(10)使照射的水平方向(11)从源极垂直出射的光(4)偏转。 还包括以下独立权利要求:(a)确定含有流体的样品参数的系统; (b)和用于确定含有流体的样品参数的方法。

    Appearance inspection device and defect inspection method

    公开(公告)号:US11936985B2

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:US17765396

    申请日:2020-03-10

    Abstract: Provided is a technique capable of more accurately determining a solder protruding defect in an appearance inspection device that acquires an image of an inspection region of an inspection target and measures a height of a predetermined place in the inspection region with a height measurement device. The appearance inspection device includes: an imaging unit (3); a height measurement unit (20); a moving mechanism (5) that moves the imaging unit (3) and the height measurement unit (20). When a restricted region (M) in the inspection target is irradiated with the measurement light emitted from the height measurement unit (20), the determination unit restricts defect determination based on the information on the height of the predetermined place measured by the height measurement unit (20).

    OPTICAL METROLOGY SYSTEM FOR SPECTRAL IMAGING OF A SAMPLE
    10.
    发明申请
    OPTICAL METROLOGY SYSTEM FOR SPECTRAL IMAGING OF A SAMPLE 有权
    用于光谱成像的光学计量系统

    公开(公告)号:US20150146193A1

    公开(公告)日:2015-05-28

    申请号:US14091199

    申请日:2013-11-26

    Abstract: An optical metrology device is capable of detection of any combination of photoluminescence light, specular reflection of broadband light, and scattered light from a line across the width of a sample. The metrology device includes a first light source that produces a first illumination line on the sample. A scanning system may be used to scan an illumination spot across the sample to form the illumination line. A detector spectrally images the photoluminescence light emitted along the illumination line. Additionally, a broadband illumination source may be used to produce a second illumination line on the sample, where the detector spectrally images specular reflection of the broadband illumination along the second illumination line. The detector may also image scattered light from the first illumination line. The illumination lines may be scanned across the sample so that all positions on the sample may be measured.

    Abstract translation: 光学测量装置能够检测光致发光的任何组合,宽带光的镜面反射以及穿过样品宽度的线的散射光。 测量装置包括在样品上产生第一照明线的第一光源。 可以使用扫描系统扫描样品上的照明点以形成照明线。 检测器对沿着照明线发射的光致发光进行光谱成像。 另外,宽带照明源可以用于在样本上产生第二照明线,其中检测器对第二照明线的宽带照明进行光谱反射。 检测器还可以对来自第一照明线的散射光进行成像。 可以在样品上扫描照明线,使得可以测量样品上的所有位置。

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