-
公开(公告)号：CN107223282A
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201580066523.9
申请日：2015-10-14
Applicant: 约翰·安德鲁·亨特 , 史蒂文·托马斯·科伊尔 , 迈克尔·帕特里克·哈塞尔希勒 , 塞及·C·霍斯曼
Inventor： 约翰·安德鲁·亨特 , 史蒂文·托马斯·科伊尔 , 迈克尔·帕特里克·哈塞尔希勒 , 塞及·C·霍斯曼
IPC: H01J37/08 , H01J37/24 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/317 , G01N1/44
CPC classification number: H01J37/243 , G01N1/44 , H01J37/08 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/3056 , H01J37/3178 , H01J2237/081 , H01J2237/24514 , H01J2237/24535 , H01J2237/30483 , H01J2237/31 , H01J2237/3151 , H01J2237/316
Abstract: 用于离子束样本制备和镀覆的装置中测定、使用和指示离子束工作性能的方法和装置。束探针可用于测量离子束一个部分的一种或多种工作特性，生成与一种或多种工作特性存在已知关系的探针信号。该束探针可生成与达到样本的喷镀涂层的一种或多种特性存在已知关系的信号。离子束装置可与从束探针处接收到的信号响应，调制一种或多种离子束特性。探针信号可用于离子束装置中，指示一种或多种离子束工作特性。相关装置和方法还可测量探针信号与离子束工作特性之间的已知关系。
-
公开(公告)号：CN105339527A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480035789.2
申请日：2014-07-08
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C25C1/12 , C23C14/34 , H01L21/28 , H01L21/285 , C22C9/00
CPC classification number: H01J37/3426 , C22C9/00 , C23C14/3414 , C25C1/12 , H01J2237/081 , H01J2237/3323
Abstract: 本发明的高纯度铜溅射靶用铜原材料，除O、H、N、C以外的Cu的纯度在99.999980质量％以上且99.999998质量％以下的范围内，Al的含量为0.005质量ppm以下，Si的含量为0.05质量ppm以下。
-
公开(公告)号：CN103088272B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201110454052.2
申请日：2011-12-30
Applicant: 中央大学
CPC classification number: C23C14/165 , B32B15/017 , C22C1/002 , C22C45/10 , C23C14/024 , C23C14/028 , C23C14/185 , C23C14/3414 , H01J37/3426 , H01J2237/081 , H01J2237/332 , Y10T428/12743 , Y10T428/1275 , Y10T428/12903
Abstract: 一种镀有锆基或锆铜基金属玻璃合金镀膜的基板、及其制备方法。本发明的镀有锆基金属玻璃镀膜的基板包括：铝合金基板；以及锆基金属玻璃镀膜，配置于该基板的表面，且该锆基金属玻璃镀膜的组成如式1所示，[式1]：(ZraCubNicAld)100-xSix，其中，45＝＜a＝＜75，25＝＜b＝＜35，5＝＜c＝＜15，5＝＜d＝＜15，0.1＝＜x＝＜10。本发明的镀有锆铜基金属玻璃镀膜的基板包括：铝合金基板；以及锆铜基金属玻璃镀膜，配置于基板的表面，且该锆铜基金属玻璃镀膜的组成如式2所示，[式2]：(ZreCufAlgAgh)100-ySiy，35＝＜e＝＜55，35＝＜f＝＜55，5＝＜g＝＜15，5＝＜h＝＜15，0.1＝＜y＝＜10。
-
公开(公告)号：CN103088272A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201110454052.2
申请日：2011-12-30
Applicant: 中央大学
CPC classification number: C23C14/165 , B32B15/017 , C22C1/002 , C22C45/10 , C23C14/024 , C23C14/028 , C23C14/185 , C23C14/3414 , H01J37/3426 , H01J2237/081 , H01J2237/332 , Y10T428/12743 , Y10T428/1275 , Y10T428/12903
Abstract: 一种镀有锆基或锆铜基金属玻璃合金镀膜的基板、及其制备方法。本发明的镀有锆基金属玻璃镀膜的基板包括：铝合金基板；以及锆基金属玻璃镀膜，配置于该基板的表面，且该锆基金属玻璃镀膜的组成如式1所示，[式1]：(ZraCubNicAld)100-xSix，其中，45＝＜a＝＜75，25＝＜b＝＜35，5＝＜c＝＜15，5＝＜d＝＜15，0.1＝＜x＝＜10。本发明的镀有锆铜基金属玻璃镀膜的基板包括：铝合金基板；以及锆铜基金属玻璃镀膜，配置于基板的表面，且该锆铜基金属玻璃镀膜的组成如式2所示，[式2]：(ZreCufAlgAgh)100-ySiy，35＝＜e＝＜55，35＝＜f＝＜55，5＝＜g＝＜15，5＝＜h＝＜15，0.1＝＜y＝＜10。
-
公开(公告)号：CN102308358A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200980156263.9
申请日：2009-12-08
Applicant: 通用等离子公司
Inventor： 约翰·马多克斯
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/143 , H01J37/3053 , H01J37/317 , H01J37/32862 , H01J37/3405 , H01J2237/081
Abstract: 本发明提供了一种用于改性基材表面的方法，包括向闭合漂移磁场离子源的电隔离阳极提供电子。阳极具有正的阳极电荷偏移，而闭合漂移离子源的其它组件接地或具有电气浮动电压。电子接触诱导离子形成的闭合漂移磁场。在气体存在下通过将电极电荷偏移调整为负，邻近阳极产生等离子以清除阳极上的沉积污染物，从而防止阳极污染。然后在重复电子源存在的情况下，电极电荷漂移回复至正，以诱导重复的离子形成用以再次改性基材表面。还提供了一种用于通过该方法在基材表面改性的装置。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103069537B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201180040721.X
申请日：2011-08-11
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 奎格·R·钱尼
IPC: H01J37/317 , H01J37/20 , H01J37/08 , H01J27/08
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J2237/024 , H01J2237/081 , H01J2237/0827
Abstract: 一种装置，包括电弧室外壳(203)及馈入系统(210)。电弧室外壳定义电弧室(204)。馈入系统经组态以馈入溅镀标靶(212)至电弧室。一种方法，包括馈入溅镀标靶至电弧室以及离子化溅镀标靶的一部分，其中电弧室藉由电弧室外壳定义。
-
公开(公告)号：CN102308358B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN200980156263.9
申请日：2009-12-08
Applicant: 通用等离子公司
Inventor： 约翰·马多克斯
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/143 , H01J37/3053 , H01J37/317 , H01J37/32862 , H01J37/3405 , H01J2237/081
Abstract: 本发明提供了一种用于改性基材表面的方法，包括向闭合漂移离子源的电隔离阳极提供电子。阳极具有正的阳极电荷偏移，而闭合漂移离子源的其它组件接地或具有电气浮动电压。电子接触诱导离子形成的闭合漂移磁场。在气体存在下通过将电极电荷偏移调整为负，邻近阳极产生等离子以清除阳极上的沉积污染物，从而防止阳极污染。然后在重复电子源存在的情况下，电极电荷漂移回复至正，以诱导重复的离子形成用以再次改性基材表面。还提供了一种用于通过该方法在基材表面改性的装置。
-
公开(公告)号：CN105593406B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201480054142.4
申请日：2014-07-31
Applicant: H.C.施塔克公司
Inventor： S·A·米勒
CPC classification number: C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J37/3417 , H01J37/3426 , H01J2237/081 , H01J2237/332
Abstract: 在各种实施方案中，通过喷涂沉积靶材的颗粒以至少部分填充某些区域(例如，最深侵蚀的区域)而在其他侵蚀区域(例如，更少侵蚀的区域)内没有喷涂沉积来部分地翻新侵蚀溅射靶。在溅射性能(例如，溅射速率)和/或溅射膜的性能没有实质性改变的情况下，部分地翻新的溅射靶可以在部分翻新后溅射。
-
公开(公告)号：CN105283577A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201480033082.8
申请日：2014-06-30
Applicant: 欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫
Inventor： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
CPC classification number: H01J37/3417 , C23C14/3407 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3497 , H01J2237/002 , H01J2237/081 , H01J2237/3322
Abstract: 本发明涉及一种靶冷却装置，其具有包括冷却通道的组成部分和另一个导热板，所述另一个导热板可分离地与所述组成部分的冷侧相连，其中，所述冷侧是所述冷却通道施展其作用的一侧，其特征是，在所述另一个导热板和所述组成部分的冷侧之间设有第一自粘碳膜，所述第一自粘碳膜大面积地自粘附到所述另一个导热板的朝向所述冷侧的一侧面上。
-
公开(公告)号：CN107223282B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201580066523.9
申请日：2015-10-14
Applicant: 约翰·安德鲁·亨特 , 史蒂文·托马斯·科伊尔 , 迈克尔·帕特里克·哈塞尔希勒 , 塞及·C·霍斯曼
Inventor： 约翰·安德鲁·亨特 , 史蒂文·托马斯·科伊尔 , 迈克尔·帕特里克·哈塞尔希勒 , 塞及·C·霍斯曼
IPC: H01J37/08 , H01J37/24 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/317 , G01N1/44
CPC classification number: H01J37/243 , G01N1/44 , H01J37/08 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/3056 , H01J37/3178 , H01J2237/081 , H01J2237/24514 , H01J2237/24535 , H01J2237/30483 , H01J2237/31 , H01J2237/3151 , H01J2237/316
Abstract: 用于离子束样本制备和镀覆的装置中测定、使用和指示离子束工作性能的方法和装置。束探针可用于测量离子束一个部分的一种或多种工作特性，生成与一种或多种工作特性存在已知关系的探针信号。该束探针可生成与达到样本的喷镀涂层的一种或多种特性存在已知关系的信号。离子束装置可与从束探针处接收到的信号响应，调制一种或多种离子束特性。探针信号可用于离子束装置中，指示一种或多种离子束工作特性。相关装置和方法还可测量探针信号与离子束工作特性之间的已知关系。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
148
records
(took 0.028 seconds)
