公开(公告)号：CN110526802A

公开(公告)日：2019-12-03

申请号：CN201910437381.2

申请日：2019-05-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  提箸正义 ,  小竹正晃 ,  井上直也 ,  增永恵一 ,  渡边聪

IPC: C07C33/26 ,  C07C29/00 ,  C07C67/08 ,  C07C69/533 ,  C08F212/14 ,  C08F232/08 ,  C08F220/38 ,  C08F220/30 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、负型抗蚀剂组合物、光掩模坯和抗蚀剂图案形成方法。包含含有在分子中具有至少两个酸可消除的羟基或烷氧基重复单元的聚合物的负型抗蚀剂组合物对于形成具有高分辨率和最小的LER同时使缺陷最小化的抗蚀剂图案有效。

公开(公告)号：CN110526802B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201910437381.2

申请日：2019-05-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  提箸正义 ,  小竹正晃 ,  井上直也 ,  增永恵一 ,  渡边聪

IPC: C07C33/26 ,  C07C29/00 ,  C07C67/08 ,  C07C69/533 ,  C08F212/14 ,  C08F232/08 ,  C08F220/38 ,  C08F220/30 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、负型抗蚀剂组合物、光掩模坯和抗蚀剂图案形成方法。包含含有在分子中具有至少两个酸可消除的羟基或烷氧基重复单元的聚合物的负型抗蚀剂组合物对于形成具有高分辨率和最小的LER同时使缺陷最小化的抗蚀剂图案有效。

公开(公告)号：CN104199255A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201410471281.9

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/038

Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。

公开(公告)号：CN102221780A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN201110105553.X

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/038

Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。

公开(公告)号：CN106054521B

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201610212742.X

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  增永恵一 ,  渡边聪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 提供了负型抗蚀剂组合物，其包含(A)包含具有酸能消除的基团的重复单元和能够在曝光时产生酸的重复单元的聚合物，和(B)羧酸鎓盐。当该负型抗蚀剂组合物通过微加工技术、特别是EB光刻法处理时，它形成具有非常高的分辨率和最小LER的图案。

公开(公告)号：CN104199255B

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201410471281.9

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/038

Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。

公开(公告)号：CN106054529A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610212743.4

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  增永恵一

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/40

Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型负型抗蚀剂膜，该化学增幅型负型抗蚀剂膜包括(A)包含特定结构的重复单元和具有氟的重复单元的聚合物，(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，(C)产酸剂，和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜对于抗静电膜的接受性得到改善。

公开(公告)号：CN106054529B

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201610212743.4

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  增永恵一

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/40

Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型负型抗蚀剂膜，该化学增幅型负型抗蚀剂膜包括(A)包含特定结构的重复单元和具有氟的重复单元的聚合物，(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，(C)产酸剂，和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜对于抗静电膜的接受性得到改善。

公开(公告)号：CN106054521A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610212742.X

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  增永恵一 ,  渡边聪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 提供了负型抗蚀剂组合物，其包含(A)包含具有酸能消除的基团的重复单元和能够在曝光时产生酸的重复单元的聚合物，和(B)羧酸鎓盐。当该负型抗蚀剂组合物通过微加工技术、特别是EB光刻法处理时，它形成具有非常高的分辨率和最小LER的图案。

公开(公告)号：CN102221780B

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201110105553.X

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/038

Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。