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公开(公告)号：CN110878038A
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201910836697.9
申请日：2019-09-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/039 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍化合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明中新的锍化合物具有式(A)，包含聚合物和含有锍化合物的猝灭剂的正型抗蚀剂组合物在图案形成期间的分辨率和LER方面得以改进并且具有储存稳定性。在式(A)中，R1、R2、R3和R4独立地为C1-C20一价烃基，p为0-5的整数，q为0-5的整数，和r为0-4的整数。
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公开(公告)号：CN110526841B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN201910438807.6
申请日：2019-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C309/73 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C51/41 , C07C63/04 , C07C309/31 , C07D279/20 , C07D327/08 , C07D519/00 , C07D215/48 , G03F7/004 , G03F7/039
Abstract: 具有含桥接环的基团的芳烃磺酸的鎓盐产生了具有适当强度和受控的扩散的大体积酸。当包含该鎓盐和基础聚合物的正型抗蚀剂组合物通过光刻法加工时，形成了具有高分辨率和降低的LER的矩形轮廓的图案。
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公开(公告)号：CN111100043A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911021773.7
申请日：2019-10-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C311/48 , C07C321/20 , C07D327/08 , C07C309/31 , G03F7/00
Abstract: 本发明为鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的鎓盐和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成期间表现出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN110526802A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910437381.2
申请日：2019-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C33/26 , C07C29/00 , C07C67/08 , C07C69/533 , C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , C08F220/30 , G03F7/038
Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、负型抗蚀剂组合物、光掩模坯和抗蚀剂图案形成方法。包含含有在分子中具有至少两个酸可消除的羟基或烷氧基重复单元的聚合物的负型抗蚀剂组合物对于形成具有高分辨率和最小的LER同时使缺陷最小化的抗蚀剂图案有效。
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公开(公告)号：CN114656341B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202111587281.1
申请日：2021-12-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C43/23 , C07D493/18 , C07D307/00 , C07D495/18 , C07C69/712 , C07C69/78 , G03F7/038
Abstract: 本发明涉及醇化合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供高感度且溶解对比度优良，且可提供LER及CDU小且形状良好的图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、适合作为使用于该化学增幅负型抗蚀剂组成物中的交联剂的醇化合物、以及使用该化学增幅负型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种醇化合物，以下式(A1)表示。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111100043B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201911021773.7
申请日：2019-10-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C311/48 , C07C321/20 , C07D327/08 , C07C309/31 , G03F7/00
Abstract: 本发明为鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的鎓盐和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成期间表现出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN110526841A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910438807.6
申请日：2019-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C309/73 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C51/41 , C07C63/04 , C07C309/31 , C07D279/20 , C07D327/08 , C07D519/00 , C07D215/48 , G03F7/004 , G03F7/039
Abstract: 具有含桥接环的基团的芳烃磺酸的鎓盐产生了具有适当强度和受控的扩散的大体积酸。当包含该鎓盐和基础聚合物的正型抗蚀剂组合物通过光刻法加工时，形成了具有高分辨率和降低的LER的矩形轮廓的图案。
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公开(公告)号：CN114656341A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202111587281.1
申请日：2021-12-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C43/23 , C07D493/18 , C07D307/00 , C07D495/18 , C07C69/712 , C07C69/78 , G03F7/038
Abstract: 本发明涉及醇化合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供高感度且溶解对比度优良，且可提供LER及CDU小且形状良好的图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、适合作为使用于该化学增幅负型抗蚀剂组成物中的交联剂的醇化合物、以及使用该化学增幅负型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种醇化合物，以下式(A1)表示。
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公开(公告)号：CN115343911A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210518733.9
申请日：2022-05-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F1/20 , G03F1/22 , C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , C08F220/20
Abstract: 本发明涉及化学增幅型抗蚀剂组成物、空白光掩膜、抗蚀剂图案的形成方法及高分子化合物的制造方法。本发明课题是为了提供可满足良好的分辨率、图案形状、线边缘粗糙度，同时可抑制会成为掩膜缺陷的原因的显影残渣缺陷的化学增幅型抗蚀剂组成物，以及提供使用该化学增幅型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案的形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅型抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)高分子化合物，含有1种或2种以上的重复单元，而且该重复单元中的至少1种以上的重复单元是由2～6聚物的残存寡聚物为1000ppm以下的聚合性单体聚合而成的重复单元。
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公开(公告)号：CN115113483A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210264307.7
申请日：2022-03-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供可形成有极高分辨率且LER小而矩形性优异，抑制了显影负载(loading)的影响的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包括基础聚合物，该基础聚合物含有：含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、或含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、以及含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物；该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为60摩尔％以上。
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