公开(公告)号：CN103205237A

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201310004064.4

申请日：2013-01-07

Applicant: 南昌大学

Inventor： 李永绣 ,  项神佑 ,  周新木 ,  李静 ,  周雪珍 ,  李东平 ,  刘艳珠

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 一种二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法，是将二氧化钛粉体加入到含分散剂的去离子水中，固体浓度为100～200g/l，用氢氧化钠稀溶液调节pH值在9.5~11.5范围，超声分散1～30min，得到悬浮性能良好的浆料。在50℃~90℃和搅拌条件下，往该浆料中加入硝酸铈溶液，其加量按所含氧化铈与二氧化钛的重量比1～10：100计算，搅拌均匀后老化10-30min，继续加入氢氧化钠稀溶液调节pH值在6.0~10.0范围，再次老化10～30min，使铈离子水解沉积在二氧化钛颗粒表面；抽虑、洗涤，在110℃干燥1～24h，磨细后置于马弗炉中于400～700℃下煅烧2h，取出后磨细，得到所需的二氧化钛负载氧化铈抛光粉。本发明的制备方法简单方便，价格低廉，对硅片表面抛光的速度高和精度高。

公开(公告)号：CN103205237B

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201310004064.4

申请日：2013-01-07

Applicant: 南昌大学

Inventor： 李永绣 ,  项神佑 ,  周新木 ,  李静 ,  周雪珍 ,  李东平 ,  刘艳珠

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 一种二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法，是将二氧化钛粉体加入到含分散剂的去离子水中，固体浓度为100～200g/l，用氢氧化钠稀溶液调节pH值在9.5～11.5范围，超声分散1～30min，得到悬浮性能良好的浆料。在50℃～90℃和搅拌条件下，往该浆料中加入硝酸铈溶液，其加量按所含氧化铈与二氧化钛的重量比1～10∶100计算，搅拌均匀后老化10-30min，继续加入氢氧化钠稀溶液调节pH值在6.0～10.0范围，再次老化10～30min，使铈离子水解沉积在二氧化钛颗粒表面；抽虑、洗涤，在110℃干燥1～24h，磨细后置于马弗炉中于400～700℃下煅烧2h，取出后磨细，得到所需的二氧化钛负载氧化铈抛光粉。本发明的制备方法简单方便，价格低廉，对硅片表面抛光的速度高和精度高。

公开(公告)号：CN102559065A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110430568.3

申请日：2012-03-15

Applicant: 南昌大学

Inventor： 李永绣 ,  项神佑 ,  李静 ,  李东平 ,  周雪珍 ,  刘艳珠 ,  周新木

IPC: C09G1/02

Abstract: 一种硅片化学机械抛光浆料配方，由二氧化钛磨料、添加剂、分散剂、pH调节剂及纯水组成；各种组分的质量百分比为：二氧化钛磨料为0.1%～5%，其粒径控制在3000nm以下；分散剂为0%～1.0%，添加剂为0.005%～0.3%,调节浆料pH值的调节剂为0%～1.5%；其余为纯水；浆料pH值为10.0～12.5，最佳值为11.5～12.0之间。本发明的抛光浆料配方及其配制方法简单方便，价格低廉，对硅片表面抛光的速度快、精度高。