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公开(公告)号：CN110131354A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910103571.0
申请日：2019-01-31
Applicant: 本田技研工业株式会社
IPC: F16F15/02 , F16F15/04 , F16F15/027
Abstract: 本发明提供一种能够提高刚性且使衰减力稳定的减震器装置。在具有自由活塞(40)的单缸式正立构造的减震器装置(1)中，设有：隔壁(11)，其在活塞(30)与自由活塞(40)之间固定在缸体(10)内，沿筒轴线方向对缸体(10)内进行划分；隔壁节流孔(12)，其由贯穿隔壁(11)的节流孔构成；活塞节流孔(31)，其由贯穿活塞(30)的节流孔构成；隔壁侧可变流量构造(13)，其对经过隔壁节流孔(12)的粘性流体(LQ)的流量进行调节；活塞侧可变流量构造(32)，其对经过活塞节流孔(31)的粘性流体(LQ)的流量进行调节；以及控制机构(50)，其对隔壁侧可变流量构造(13)及活塞侧可变流量构造(32)进行控制。
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公开(公告)号：CN103228817A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180057394.9
申请日：2011-11-17
Applicant: 本田技研工业株式会社
Inventor： 小森健太郎
IPC: C23C28/00 , C10M135/18 , C10M137/10 , F02F3/10 , F02F5/00 , F16C33/24 , F16J9/26 , C10N10/04 , C10N10/12 , C10N30/06 , C10N40/04 , C10N40/25
CPC classification number: C10M169/042 , C10M141/10 , C10M163/00 , C10M2219/046 , C10M2219/068 , C10M2219/08 , C10M2223/045 , C10M2227/09 , C10N2210/02 , C10N2210/06 , C10N2230/06 , C10N2240/04 , C10N2240/10 , C10N2240/12 , C10N2240/14 , C10N2280/00 , C23C30/00 , F02F1/20 , F05C2253/08 , F16C33/24 , F16J1/16 , F16J7/00 , F16J9/26
Abstract: 本发明提供可得到良好的低摩擦特性的滑动结构部件。该滑动结构部件以下述方式组合而成：在相互滑动的部件中的一方部件(11)上设置含有氢的DLC膜(2)，隔着添加了有机钼化合物与含有锌和硫的化合物作为添加剂的润滑剂(3)，设置在一方部件(11)上的DLC膜(2)与对象部件(12)进行滑动；其中，设定DLC膜(2)的表面的均方根粗糙度为5nm以上25nm以下、且DLC膜(2)中的含氢量为4.5at%(原子%)以上30at%以下。
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公开(公告)号：CN110701233B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201910622810.3
申请日：2019-07-10
Applicant: 本田技研工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种振动衰减装置，其为低摩擦性的倒立构造，在工作缸与外筒之间设有低摩擦性润滑油及低摩擦性套筒。该倒立构造的振动衰减装置的特征在于，包括：工作缸(11)；能够进出所述工作缸内的杆(13)；外筒(12)，其与杆(13)连结并插入在工作缸(11)的外周；以及套筒(22)，其滑动自如地插入在外筒(12)与工作缸(11)之间，在外筒(12)与工作缸(11)之间填充有润滑油(23)，套筒(22)含有聚四氟乙烯和全氟烷氧基烷烃，润滑油(23)含有有机钼添加剂。
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公开(公告)号：CN108028116B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201680053375.1
申请日：2016-09-15
Applicant: 本田技研工业株式会社 , 出光兴产株式会社
Abstract: 本发明的振动衰减装置(10)的特征在于，在工作缸(12)内具有磁粘性流体组成物，磁粘性流体组成物包括磁性粒子、使该磁性粒子分散的分散介质以及摩擦调整剂，所述摩擦调整剂是具有碳原子数为14～22的烃链、优选为烷链或者烯链的胺系添加剂，该摩擦调整剂的含量为0.1质量％～5质量％。
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公开(公告)号：CN108026969A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680053622.8
申请日：2016-09-15
Applicant: 本田技研工业株式会社 , 大同金属工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供具备能够实现振动衰减装置中的结构的简化且能够降低动作时的摩擦力的耐磨损性优异的轴承构件的振动衰减装置。本发明的振动衰减装置具备如下轴承构造：在基体构件(25)的规定摩擦滑动面的一侧具有树脂层(28)，金属轴瓦(32)的所述树脂层(28)包括聚四氟乙烯(PTFE)和四氟乙烯‑全氟烷基乙烯基醚共聚树脂(PFA)，利用磁粘性流体组成物对金属轴瓦(32)(轴承构件)进行润滑。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108026969B
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201680053622.8
申请日：2016-09-15
Applicant: 本田技研工业株式会社 , 大同金属工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供具备能够实现振动衰减装置中的结构的简化且能够降低动作时的摩擦力的耐磨损性优异的轴承构件的振动衰减装置。本发明的振动衰减装置具备如下轴承构造：在基体构件(25)的规定摩擦滑动面的一侧具有树脂层(28)，金属轴瓦(32)的所述树脂层(28)包括聚四氟乙烯(PTFE)和四氟乙烯‑全氟烷基乙烯基醚共聚树脂(PFA)，利用磁粘性流体组成物对金属轴瓦(32)(轴承构件)进行润滑。
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公开(公告)号：CN111542712A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880073503.8
申请日：2018-10-25
Applicant: 本田技研工业株式会社
Abstract: 本发明的密封材料(26)为包含酯系添加剂(31)的合成油(30)的密封材料(26)，所述密封材料(26)包含对苯二异氰酸酯系聚氨酯(32)95.0质量％以上且99.5质量％以下、和与所述酯系添加剂(31)相同的化合物0.5质量％以上且5质量％以下。本发明的密封材料(26)的摩擦系数小于以往的密封材料，富有变形追随性，可以抑制合成油(30)所致的溶胀。
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公开(公告)号：CN108028115B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201680053300.3
申请日：2016-09-15
Applicant: 本田技研工业株式会社 , 出光兴产株式会社
Abstract: 本发明的振动衰减装置(10)的特征在于，在工作缸(12)内具有磁粘性流体组成物，磁粘性流体组成物包括磁性粒子、使该磁性粒子分散的分散介质以及摩擦调整剂，所述摩擦调整剂是具有碳原子数为14～22的烃链、优选为烷链或者烯链的酯系添加剂，该摩擦调整剂的含量为0.1质量％～5质量％。
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公开(公告)号：CN110469621A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201910380228.0
申请日：2019-05-08
Applicant: 本田技研工业株式会社
IPC: F16F9/53
Abstract: 本发明提供一种即使在输入有微小振幅振动的情况下也能够精确控制衰减力的磁流变流体型减震装置。包括：在封入有磁流变流体(18)的缸筒(12)内位移的活塞(14)；与活塞(14)一体位移的活塞杆(16)；密封缸筒(12)的外部与活塞杆(16)之间的第1油封部件(26)；以及密封磁流变流体(18)的第2油封部件(30)，第2油封部件(30)具有外径侧的环状凸缘部(40)和围绕活塞杆(16)的外周面的内径侧的密封部(42)，密封部(42)和活塞杆(16)具有相对于塞杆(16)的位移密封部(42)一体地追随位移的“非滑动区间”和相对于活塞杆(16)的位移密封部(42)滑动位移的“滑动区间”。
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公开(公告)号：CN105229317B
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201480021180.X
申请日：2014-03-03
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16C11/0604 , C23C14/0605 , C23C14/34 , C23C16/26 , C23C16/50 , F16C11/0685 , F16C2206/04 , F16C2223/42 , F16C2240/64
Abstract: 本发明提供能够以短时间、不导致成本上升且容易地形成具有期望的表面粗糙度和膜硬度的DLC膜，廉价且大量提供具备稳定的滑动特性的球节的技术。一种球节的制造方法，是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持球面部的保持部的球节的制造方法，其具备：基底中间层形成工序，使用溅射法在球面部的表面形成具有微小的表面凹凸结构的基底中间层；和非晶质硬质碳膜形成工序，使用PIG等离子体成膜法在基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5～35nm的非晶质硬质碳膜。
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