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公开(公告)号：CN112556611A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202010946721.7
申请日：2020-09-10
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B15/04
Abstract: 本发明提供一种X射线测量装置的校正方法，包括：载置工序，将校正治具载置于旋转台；移动位置获取工序，使第j个球的位置相对于第1个球的位置平行移动，向校正治具照射X射线，并从X射线图像检测器的输出中获取第j个球的投影像的重心位置相对于第1个球的投影像的重心位置的差位置的大小为规定值以下的移动位置；相对位置计算工序，对其余的球进行移动位置获取工序，根据各个移动位置来计算特定的相对位置间隔；特征位置计算工序；变换矩阵计算工序；旋转检测工序；位置计算工序；以及中心位置计算工序。由此，即使校正治具由于经年变化等而变形，例如也能够通过简单的工序容易地计算将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
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公开(公告)号：CN112556611B
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202010946721.7
申请日：2020-09-10
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B15/04
Abstract: 本发明提供一种X射线测量装置的校正方法，包括：载置工序，将校正治具载置于旋转台；移动位置获取工序，使第j个球的位置相对于第1个球的位置平行移动，向校正治具照射X射线，并从X射线图像检测器的输出中获取第j个球的投影像的重心位置相对于第1个球的投影像的重心位置的差位置的大小为规定值以下的移动位置；相对位置计算工序，对其余的球进行移动位置获取工序，根据各个移动位置来计算特定的相对位置间隔；特征位置计算工序；变换矩阵计算工序；旋转检测工序；位置计算工序；以及中心位置计算工序。由此，即使校正治具由于经年变化等而变形，例如也能够通过简单的工序容易地计算将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112461165B
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202010940511.7
申请日：2020-09-09
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B15/04 , G01N23/046
Abstract: 本发明提供一种X射线测量装置的校正方法，包括：前段特征位置计算工序，将配置于N个部位的球的平行移动进行多次，确定处于N个部位的球各自的投影像的重心位置；单独矩阵计算工序，针对球分别计算单独投影矩阵；单独位置计算工序，基于单独投影矩阵来计算球各自的移动位置；坐标统一工序，计算球的特定的相对位置间隔；后段特征位置计算工序；变换矩阵计算工序，计算投影变换矩阵；旋转检测工序；位置计算工序；以及中心位置计算工序。由此，即使校正治具由于经年变化等而发生变形，也能够通过简单的工序容易地计算例如将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
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公开(公告)号：CN113932741A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202110724806.5
申请日：2021-06-29
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B15/04
Abstract: 本发明提供一种X射线测量装置的校准方法，包括以下工序：载置工序，将校准治具载置于旋转台；特征位置计算工序，向校准治具照射X射线，根据X射线图像检测器的输出来确定重心位置；变换矩阵计算工序，根据重心位置和已知的相对位置间隔，来计算投影变换矩阵；旋转检测工序，使旋转台以规定角度旋转2次以上，重复进行特征位置计算工序和变换矩阵计算工序；以及中心位置计算工序，基于投影变换矩阵来计算旋转台的旋转中心位置。由此，能够通过简单的工序容易地计算将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
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公开(公告)号：CN112461165A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN202010940511.7
申请日：2020-09-09
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B15/04 , G01N23/046
Abstract: 本发明提供一种X射线测量装置的校正方法，包括：前段特征位置计算工序，将配置于N个部位的球的平行移动进行多次，确定处于N个部位的球各自的投影像的重心位置；单独矩阵计算工序，针对球分别计算单独投影矩阵；单独位置计算工序，基于单独投影矩阵来计算球各自的移动位置；坐标统一工序，计算球的特定的相对位置间隔；后段特征位置计算工序；变换矩阵计算工序，计算投影变换矩阵；旋转检测工序；位置计算工序；以及中心位置计算工序。由此，即使校正治具由于经年变化等而发生变形，也能够通过简单的工序容易地计算例如将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
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公开(公告)号：CN111610581A
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN202010106593.5
申请日：2020-02-21
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明提供一种透镜基板堆叠位置计算设备，即使形成在晶片基板上的每个透镜的位置在要堆叠的晶片透镜阵列之间有偏差，当多个晶片透镜阵列连结在一起时，设备也能计算光轴偏差落入允许范围内的透镜组的数量最大化时的堆叠位置。当二维排列有多个透镜的两个或更多透明基板被堆叠以形成每个包括两个或更多透镜的多个透镜组时，透镜基板堆叠位置计算设备计算要堆叠的两个或更多透明基板的位置关系。每个透镜的位置提前在共同坐标系中指定。透镜基板堆叠位置计算设备包括位置关系计算单元，用于通过预定计算方法计算两个或更多透明基板之间的相对位置关系，该相对位置关系使得构成透镜组的透镜之间的位置偏差的大小落入预定范围内的透镜组数量最大化。
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公开(公告)号：CN107121086A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201710102550.8
申请日：2017-02-24
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/30 , G01B5/003 , G01B5/012 , G01B5/061 , G01B5/12 , G01B9/02 , G01B9/02041 , G01B11/0608 , G01B11/12 , G01B11/2441 , G01B11/303 , G01B11/24
Abstract: 本发明提供一种表面构造测量装置，该表面构造测量装置包括：使具有内壁的可测物体沿XY平面位移的X轴位移机构和Y轴位移机构；以非接触方式测量内壁的表面构造的测量传感器；使测量传感器沿与XY平面正交的Z轴方向位移并使测量传感器面向内壁的Z轴位移机构；使面向内壁的测量传感器沿内壁的法向位移的W轴位移机构；以及使面向内壁的测量传感器沿内壁位移的θ轴位移机构。
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