图案计算装置、图案计算方法、掩模、曝光装置、元件制造方法、计算机程序和记录媒体

    公开(公告)号:CN110476121A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201880022622.0

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 图案计算装置(2)计算形成于掩模(131)上的掩模图案(1311d),所述掩模(131)用于利用曝光用光(EL)在基板(151)上形成将单位元件图案部(1511u)排列多个而成的元件图案。图案计算装置计算用以形成一个单位元件图案部的单位掩模图案部(1311u),且通过将所计算出的单位掩模图案部排列多个而计算掩模图案,在计算单位掩模图案部时,假定相当于单位掩模图案部的至少一部分的特定掩模图案部(1311n)邻接于单位掩模图案部,在此基础上计算单位掩模图案部。

    图案计算装置、图案计算方法以及记录媒体

    公开(公告)号:CN110476121B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN201880022622.0

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供一种曝光与图案计算装置、方法、掩模、元件制方、记录媒体。图案计算装置(2)计算形成于掩模(131)上的掩模图案(1311d),所述掩模(131)用于利用曝光用光(EL)在基板(151)上形成将单位元件图案部(1511u)排列多个而成的元件图案。图案计算装置计算用以形成一个单位元件图案部的单位掩模图案部(1311u),且通过将所计算出的单位掩模图案部排列多个而计算掩模图案,在计算单位掩模图案部时,假定相当于单位掩模图案部的至少一部分的特定掩模图案部(1311n)邻接于单位掩模图案部,在此基础上计算单位掩模图案部。

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