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公开(公告)号：CN115335348B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202180022035.3
申请日：2021-03-30
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/583 , C04B38/00 , C04B41/83 , H05K7/20 , H01L23/373
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其为包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，且压缩弹性模量为1GPa以上。还提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将碳化硼粉末在氮气氛下进行烧成而得到包含碳氮化硼的烧成物；和烧结工序，进行包含烧成物和烧结助剂的配合物的成型及加热，从而得到包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，烧结助剂含有硼化合物及钙化合物，相对于烧成物100质量份而言，配合物包含合计1～20质量份的、硼化合物及钙化合物。
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公开(公告)号：CN115103824A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202180013349.7
申请日：2021-03-26
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/583 , H01L23/373 , C04B38/00 , C04B41/83 , H05K7/20
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其含有具有20μm以上的长度的多个粗大粒子、和比多个粗大粒子小的微细粒子，在对截面进行观察时，多个粗大粒子彼此交叉。提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：原料制备工序，将包含碳氮化硼和硼化合物的混合物在氮气氛下进行烧成，得到平均粒径为10～200μm的块状的氮化硼；和烧结工序，进行包含块状的氮化硼和烧结助剂的配合物的成型及加热，得到含有截面上的长度为20μm以上的粗大粒子和比粗大粒子小的微细粒子的氮化硼烧结体。
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公开(公告)号：CN113614910A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080022624.7
申请日：2020-03-26
Applicant: 电化株式会社
IPC: H01L23/36 , H01L25/07 , H01L25/18 , C04B35/584
Abstract: 本发明提供氮化硅烧结体的制造方法，其具有对包含氮化硅的原料粉末进行成型并烧成的工序，原料粉末中包含的氮化硅的α化率为30质量％以下。氮化硅烧结体的热导率(20℃)超过100W/m·K，断裂韧性(KIC)为7.4MPa·m1/2以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115298150A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202180022041.9
申请日：2021-03-26
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/583 , C01B21/064 , H01L23/373 , C04B38/00 , C04B41/83 , H05K7/20
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其为具有多孔质结构的氮化硼烧结体，且包含氮化硼的一次粒子聚集而形成的粒径为15μm以上的块状粒子。还提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将包含碳化硼的原料粉末在含氮的气氛下进行烧成，得到包含块状粒子的烧成物，所述块状粒子具有碳氮化硼的一次粒子聚集的芯部、和包围芯部的壳部；和烧成工序，进行含有烧结助剂和包含块状粒子的烧成物的配合物的成型及加热，得到具有多孔质结构且包含氮化硼的块状粒子的氮化硼烧结体。
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公开(公告)号：CN115298150B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202180022041.9
申请日：2021-03-26
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/583 , C01B21/064 , H01L23/373 , C04B38/00 , C04B41/83 , H05K7/20
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其为具有多孔质结构的氮化硼烧结体，且包含氮化硼的一次粒子聚集而形成的粒径为15μm以上的块状粒子。还提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将包含碳化硼的原料粉末在含氮的气氛下进行烧成，得到包含块状粒子的烧成物，所述块状粒子具有碳氮化硼的一次粒子聚集的芯部、和包围芯部的壳部；和烧成工序，进行含有烧结助剂和包含块状粒子的烧成物的配合物的成型及加热，得到具有多孔质结构且包含氮化硼的块状粒
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公开(公告)号：CN115335348A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202180022035.3
申请日：2021-03-30
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/583 , C04B38/00 , C04B41/83 , H05K7/20 , H01L23/373
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其为包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，且压缩弹性模量为1GPa以上。还提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将碳化硼粉末在氮气氛下进行烧成而得到包含碳氮化硼的烧成物；和烧结工序，进行包含烧成物和烧结助剂的配合物的成型及加热，从而得到包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，烧结助剂含有硼化合物及钙化合物，相对于烧成物100质量份而言，配合物包含合计1～20质量份的、硼化合物及钙化合物。
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公开(公告)号：CN115175885A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202180017371.9
申请日：2021-03-30
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/5835 , C04B38/00 , C04B41/83 , H01L23/373
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其包含氮化硼粒子和气孔，其中，气孔的平均细孔径小于2μm。本发明提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将碳化硼粉末在氮加压气氛下进行烧成而得到包含碳氮化硼的烧成物；烧结工序，进行包含烧成物和烧结助剂的配合物的成型及加热而得到包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，烧结助剂含有硼的氧化物及碳酸钙，相对于烧成物100质量份，配合物包含硼化合物及钙化合物合计1～20质量份。
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公开(公告)号：CN115066406A
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202180013551.X
申请日：2021-03-26
Applicant: 电化株式会社
IPC: C04B35/583 , C04B38/00 , C04B41/83 , H01L23/373 , H05K7/20
Abstract: 本发明提供氮化硼烧结体，其是包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，所述氮化硼烧结体是片状的且厚度小于2mm。本发明提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有进行包含碳氮化硼粉末和烧结助剂的配合物的成型及加热来得到包含氮化硼粒子和气孔的、片状的氮化硼烧结体的烧结工序，其中，烧结工序中得到的氮化硼烧结体的厚度小于2mm。
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