滤色片及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1124501C

    公开(公告)日:2003-10-15

    申请号:CN97191531.8

    申请日:1997-10-28

    CPC classification number: G02B5/223 B41J2202/09 G02B5/201

    Abstract: 本发明目的是提供一种顺利制造滤色片的方法。包括:大气压下于含有氧的气体气氛中产生放电,利用活性粒子处理基板(10)的工序;以及向母盘(13)上形成的规定排列的油墨充填用凹部(29)中充填预先设定颜色的油墨,形成着色图案层(14),进而利用树脂层(15)将基板(10)粘接在形成有着色图案层(14)的母盘(13)上之后,使着色图案层(14)、树脂层(15)和基板(10)整体从母盘(10)剥离的工序。

    信息记录载体的制造方法

    公开(公告)号:CN1220760A

    公开(公告)日:1999-06-23

    申请号:CN98800300.7

    申请日:1998-03-13

    CPC classification number: B29D17/005 G11B7/263

    Abstract: 一种生产性良好地制造具有小偏芯量和高记录密度的信息记录载体的制造方法,该方法包括把固化性树脂涂敷在带有对应于必要信息的图形的母盘(1)上,并在母盘(1)的表面上形成突起物(2)、孔、凹陷等,使其与信息记录载体基片嵌合,以便通过粘接母盘与信息记录载体基片,把母盘上的图形复制到信息记录载体的基片上。

    微细结构体的制造方法、曝光装置、电子仪器

    公开(公告)号:CN100480863C

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200510075901.8

    申请日:2005-06-02

    Abstract: 提供一种可以以低成本实现比可见光波长还短的数量级的微细加工的技术。一种微细结构体的制造方法,包括:感光膜形成工序,在被加工体(100)的上侧形成感光膜;曝光工序,使比可见光波长小的波长的2束激光束(B1、B2)交叉来产生干涉光、通过照射该干涉光来曝光上述感光膜;显影工序,显影曝光后的上述感光膜、在上述感光膜上呈现与上述干涉光的图案对应的形状;蚀刻工序,以显影后的上述感光膜为蚀刻掩膜进行蚀刻来加工上述被加工体。

    微细结构体的制造方法、曝光装置、电子仪器

    公开(公告)号:CN1740915A

    公开(公告)日:2006-03-01

    申请号:CN200510075901.8

    申请日:2005-06-02

    Abstract: 提供一种可以以低成本实现比可见光波长还短的数量级的微细加工的技术。一种微细结构体的制造方法,包括:感光膜形成工序,在被加工体(100)的上侧形成感光膜;曝光工序,使比可见光波长小的波长的2束激光束(B1、B2)交叉来产生干涉光、通过照射该干涉光来曝光上述感光膜;显影工序,显影曝光后的上述感光膜、在上述感光膜上呈现与上述干涉光的图案对应的形状;蚀刻工序,以显影后的上述感光膜为蚀刻掩膜进行蚀刻来加工上述被加工体。

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