半导体组件和制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104347616B

    公开(公告)日:2017-09-08

    申请号:CN201410357144.2

    申请日:2014-07-25

    CPC classification number: H01L27/0248 H01L2924/0002

    Abstract: 提供一种半导体组件和制造方法。单片集成半导体组件包括包含Si的衬底,氮化镓(GaN)GaN半导体装置在衬底上制作。半导体组件还包括在衬底之中或之上制作的至少一个瞬态电压抑制器(TVS)结构,其中TVS结构与GaN半导体装置电接触。TVS结构配置成在跨GaN半导体装置的所施加电压大于阈值电压时工作在穿通模式、雪崩模式或者它们的组合模式。

    半导体组件和制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104347616A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201410357144.2

    申请日:2014-07-25

    CPC classification number: H01L27/0248 H01L2924/0002

    Abstract: 提供一种半导体组件和制造方法。单片集成半导体组件包括包含Si的衬底,氮化镓(GaN)GaN半导体装置在衬底上制作。半导体组件还包括在衬底之中或之上制作的至少一个瞬态电压抑制器(TVS)结构,其中TVS结构与GaN半导体装置电接触。TVS结构配置成在跨GaN半导体装置的所施加电压大于阈值电压时工作在穿通模式、雪崩模式或者它们的组合模式。

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