公开(公告)号：CN1754952A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200510107545.3

申请日：2005-09-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 原好太 ,  下川贡一 ,  铃木宏太

IPC: C10M145/24 ,  G11B5/725

CPC classification number: C10M177/00 ,  C10M107/38 ,  C10M131/10 ,  C10M2213/04 ,  C10M2213/043 ,  C10N2230/42 ,  C10N2240/204 ,  C10N2250/121 ,  C10N2270/00 ,  G11B5/725 ,  G11B5/8408

Abstract: 本发明涉及制造一种润滑剂，该润滑剂用于从润滑剂制造包含于磁盘中的润滑层，从包含含磷化合物的原料润滑剂中除去含磷化合物以制造所述润滑剂。所述磁盘包含衬底，在衬底上相继形成至少一层磁层、保护层和使用所述润滑剂形成的润滑层。

公开(公告)号：CN105940450A

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：CN201580005892.7

申请日：2015-02-02

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 德光秀造 ,  原好太

IPC: G11B5/84 ,  B24B37/08 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B37/08 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或‑NH‑R3，R3表示烷基。

公开(公告)号：CN105940450B

公开(公告)日：2019-07-02

申请号：CN201580005892.7

申请日：2015-02-02

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 德光秀造 ,  原好太

IPC: G11B5/84 ,  B24B37/08 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B37/08 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或‑NH‑R3，R3表示烷基。