公开(公告)号：CN101231458A

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200810001273.2

申请日：2008-01-17

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 井村和久 ,  木村泰树

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明的课题是提供一种灰色调掩模，在半透光部中具有透过光的光强度分布平坦的部分，且具备能得到规定的光强度的半透光部。再有，提供一种在将半透光部转印到被转印体的抗蚀剂膜上时能形成具有大致恒定膜厚的平坦部且具有所希望膜厚范围的抗蚀剂图案的高精度灰色调掩模。本发明的灰色调掩模(30)在透明基板上形成有遮光部(31)、透光部(32)及半透光部(33)，该灰色调掩模(33)具有与遮光部(31)相邻并被夹持的半透光部(33)，该半透光部(33)具有：形成了半透光膜(36)的半透光膜形成部(33a)；和设置在半透光部(33)相邻的遮光部(31)的边界上且露出透明基板(34)的透光狭缝部(33b、33c)。

公开(公告)号：CN101231458B

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200810001273.2

申请日：2008-01-17

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 井村和久 ,  木村泰树

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明的课题是提供一种灰色调掩模，在半透光部中具有透过光的光强度分布平坦的部分，且具备能得到规定的光强度的半透光部。再有，提供一种在将半透光部转印到被转印体的抗蚀剂膜上时能形成具有大致恒定膜厚的平坦部且具有所希望膜厚范围的抗蚀剂图案的高精度灰色调掩模。本发明的灰色调掩模(30)在透明基板上形成有遮光部(31)、透光部(32)及半透光部(33)，该灰色调掩模(33)具有与遮光部(31)相邻并被夹持的半透光部(33)，该半透光部(33)具有：形成了半透光膜(36)的半透光膜形成部(33a)；和设置在半透光部(33)相邻的遮光部(31)的边界上且露出透明基板(34)的透光狭缝部(33b、33c)。

公开(公告)号：CN101398611A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810161087.5

申请日：2008-09-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 佐野道明 ,  井村和久 ,  木村泰树 ,  三井胜

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种灰色调掩模板，其用于根据部位选择性地减少对被复制体的曝光光线的照射量，并在被复制体上形成包含残膜值不同的部分的所希望的复制图案的灰色调掩模的制造中使用，该灰色调掩模板在透明基板上具有半透光膜和遮光膜，半透光膜在基板面内至少形成掩模图案的区域内的曝光光线透过率的分布在4.0％以内。通过在该掩模板上实施规定的构图，形成遮光部、透光部、由半透光膜构成的半透光部，由此得到灰色调掩模。