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公开(公告)号：CN101408725A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200810178589.9
申请日：2008-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种灰色调掩模的制造方法、灰色调掩模及图案转印方法。其中，准备在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜的灰色调掩模板，对该灰色调掩模板施加第一次构图，在包含被构图的遮光膜和露出的半透光膜的透明基板整个表面上形成抗蚀剂膜之后，通过进行第二次构图，在该半透光膜和该遮光膜上分别进行预定构图，从而形成灰色调掩模。并且，相对于所述第一次构图时的描绘光的所述遮光膜的表面反射率和相对于所述第二次构图时的描绘光的所述半透光膜的表面反射率的差，被调整为35％以下。
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公开(公告)号：CN101373323A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200810130876.2
申请日：2008-08-21
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模，具有多个遮光部、多个透光部和多个半透光部(灰色调部)光掩模(灰色调掩模)，即使在形成多个半透光部的半透光膜中产生膜厚倾斜等膜厚的不均一之际，多个半透光部的曝光光的透过量也不随着光掩模上的位置而受所述不均一影响，能良好控制在使用该灰色调掩模形成的抗蚀图中的抗蚀剂膜厚。在透明衬底1上形成遮光膜(6)和半透光膜(5)，对遮光膜(6)和半透光膜(5)分别进行图案化，形成多个遮光部(2)、多个透光部(3)和曝光光一部分透过的多个半透光部(4)。半透光膜(5)随着膜面的位置而曝光光的透过率不同，按照在曝光条件下多个半透光部(4)的有效透过率变为大致均一的方式进行所述图案化。
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公开(公告)号：CN1755520A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510112885.5
申请日：2002-06-25
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 井村和久
IPC: G03F1/14 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种灰调掩模。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化，其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中，例如，沿着与灰调部(3)相接的遮光图形(1)的轮廓形状，在灰调部(3)一侧形成轮廓图形(30)。
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公开(公告)号：CN1722361A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510079688.8
申请日：2005-06-24
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 井村和久
IPC: H01L21/00 , H01L21/3213 , H01L21/306 , H01L21/311 , G03F7/30 , G03F1/00 , C23F1/00
Abstract: 本发明提供了一种节省空间、处理能力高、且可进行高均一性处理的基板处理装置及基板处理方法。所述基板处理装置包括：基板保持单元，以基板20主表面向斜上方倾斜的状态保持基板20呈规定范围内的倾斜角度；处理液供给单元，向倾斜状态的基板20的至少一边方向大致均匀地提供处理液，使基板20主表面的全部区域布满处理液；使上述基板20与上述处理液供给单元相对移动的移动单元。通过上述基板保持单元使得基板20相对于水平方向的倾斜角度(α)在25度～80度的范围内。上述处理液供给单元包括能够向基板20的一边方向均匀提供处理液的喷嘴30，上述移动单元使喷嘴30在基板20的主表面上与上述一边垂直移动。
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公开(公告)号：CN101373323B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200810130876.2
申请日：2008-08-21
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模，具有多个遮光部、多个透光部和多个半透光部(灰色调部)光掩模(灰色调掩模)，即使在形成多个半透光部的半透光膜中产生膜厚倾斜等膜厚的不均一之际，多个半透光部的曝光光的透过量也不随着光掩模上的位置而受所述不均一影响，能良好控制在使用该灰色调掩模形成的抗蚀图中的抗蚀剂膜厚。在透明衬底1上形成遮光膜(6)和半透光膜(5)，对遮光膜(6)和半透光膜(5)分别进行图案化，形成多个遮光部(2)、多个透光部(3)和曝光光一部分透过的多个半透光部(4)。半透光膜(5)随着膜面的位置而曝光光的透过率不同，按照在曝光条件下多个半透光部(4)的有效透过率变为大致均一的方式进行所述图案化。
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公开(公告)号：CN101382729A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810134032.5
申请日：2008-07-22
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模的制造方法，具有：利用再现仿真了曝光条件的曝光条件的曝光单元，在形成有规定图案的测试掩模上进行测试曝光，通过摄像单元取得该测试掩模的透过光图案，并根据所取得的透过光图案得到透过光图案数据的工序；和根据透过光图案数据在曝光条件下取得有效透过率的工序；根据该有效透过率对该区域的形状、该区域上所形成的膜的材料或膜厚进行确定。
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公开(公告)号：CN101231458A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810001273.2
申请日：2008-01-17
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种灰色调掩模，在半透光部中具有透过光的光强度分布平坦的部分，且具备能得到规定的光强度的半透光部。再有，提供一种在将半透光部转印到被转印体的抗蚀剂膜上时能形成具有大致恒定膜厚的平坦部且具有所希望膜厚范围的抗蚀剂图案的高精度灰色调掩模。本发明的灰色调掩模(30)在透明基板上形成有遮光部(31)、透光部(32)及半透光部(33)，该灰色调掩模(33)具有与遮光部(31)相邻并被夹持的半透光部(33)，该半透光部(33)具有：形成了半透光膜(36)的半透光膜形成部(33a)；和设置在半透光部(33)相邻的遮光部(31)的边界上且露出透明基板(34)的透光狭缝部(33b、33c)。
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公开(公告)号：CN1577084A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410062538.1
申请日：2004-06-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 井村和久
Abstract: 提供一种可以制造高品质的TFT的中间色彩膜类型的灰调掩模的制造方法，具有下述工序：准备在透明基板(21)上顺序形成半透光膜(22)和遮光膜(23)的掩模坯料的工序；在该掩模坯料上形成抗蚀膜的工序；对抗蚀膜进行曝光的工序，该工序包含：在所述抗蚀膜的形成半透光部的部分，将用于对该抗蚀膜实施图形曝光的曝光装置的分辨率限度以下的图形进行曝光；进行显影处理，形成使形成遮光部的部分和形成半透光部的部分的抗蚀剂残留膜的值不同的抗蚀图形(24a)的工序；把该抗蚀图形(24a)作为掩模，蚀刻遮光膜(23)和半透光膜(22)并形成透光部的工序；仅去除残留在半透光部上的抗蚀图形的工序；把所残留的抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜(23a)并形成半透光部的工序。
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