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公开(公告)号：CN101813883B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201010180900.0
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/44
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN101846877A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010203212.1
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN1755519B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200510107561.2
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN102317860A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080007529.6
申请日：2010-02-09
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种掩模板用基板、掩模板以及光掩模。该掩模板用基板是由正反两个主表面和四个端面构成的薄板，在端面与主表面之间设置倒角面。主表面的一条边的长度为500mm以上。并且，在端面设置：从相邻的端面相接的角部起在主表面的边方向上具有规定长度(边L4的长度)的范围的区域亦即两个角部侧区域、和被这两个角部侧区域夹着的中央侧区域。并且，将角部侧区域的端面做成表面粗糙度(Ra)为0.5nm以下的镜面，将中央侧区域做成粗糙面。
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公开(公告)号：CN101813883A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010180900.0
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100545748C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200480007046.0
申请日：2004-03-18
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 赤川裕之
IPC: G03F1/14 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60
Abstract: 一种中间掩模用基板，被用于形成安装在步进曝光装置上使用的中间掩模，具有相互相对的主表面、侧面以及设置在主表面和侧面之间的倒角面，其特征在于，从主表面与倒角面的边界除去内侧3mm区域的平坦度测定区域上的平坦度小于等于0.5μm，并且，主表面与倒角面的边界上的基准面起的最大高度大于等于-1μm小于等于0μm。
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公开(公告)号：CN1749851B
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200510103988.5
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN1749851A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510103988.5
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN101846877B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201010203212.1
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/60
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN102317860B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201080007529.6
申请日：2010-02-09
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种掩模板用基板、掩模板以及光掩模。该掩模板用基板是由正反两个主表面和四个端面构成的薄板，在端面与主表面之间设置倒角面。主表面的一条边的长度为500mm以上。并且，在端面设置：从相邻的端面相接的角部起在主表面的边方向上具有规定长度(边L4的长度)的范围的区域亦即两个角部侧区域、和被这两个角部侧区域夹着的中央侧区域。并且，将角部侧区域的端面做成表面粗糙度(Ra)为0.5nm以下的镜面，将中央侧区域做成粗糙面。
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