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公开(公告)号：CN106054530B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201610227786.X
申请日：2016-04-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 化学增幅型负型抗蚀剂组合物定义为包括(A)具有阴离子基团的鎓盐，该阴离子基团为稠环结构的含氮羧酸根，(B)基础树脂，和(C)交联剂。该抗蚀剂组合物在曝光步骤过程中对于控制酸扩散有效，在图案形成过程中显示非常高的分辨率，并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN106432574B
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201610633731.9
申请日：2016-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/20
CPC classification number: C08F216/10 , C08F220/38 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/093 , G03F7/2059 , G03F7/322 , C08F216/02 , C08F212/32 , C08F216/1416 , C08F2220/382
Abstract: 本发明的课题在于提供一种高分子化合物，其适合作为能够形成抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物的基础树脂，所述抗蚀剂膜能够形成具有极高的析像性、边缘粗糙度小、矩形度优异的图案。为了解决上述课题，提供一种高分子化合物，其特征在于，含有由下述通式(1c)所示的重复单元、以及选自由下述通式(2)所示的重复单元及由下述通式(3)所示的重复单元中的1种以上的重复单元；式(1c)中，Mb+表示由下述通式(a)所示的锍阳离子或由下述通式(b)所示的碘鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN108255015A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201711458964.0
申请日：2017-12-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C323/20 , C07C2601/16 , C08F212/14 , C08F2800/10 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/2053 , G03F7/2059 , G03F7/322 , G03F7/327
Abstract: 本发明涉及化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的锍化合物和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成过程中显示出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106432574A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610633731.9
申请日：2016-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/20
CPC classification number: C08F216/10 , C08F220/38 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/093 , G03F7/2059 , G03F7/322 , C08F216/02 , C08F212/32 , C08F216/1416 , C08F2220/382 , C08F212/14 , G03F7/2004 , C08F232/08
Abstract: 本发明的课题在于提供一种高分子化合物，其适合作为能够形成抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物的基础树脂，所述抗蚀剂膜能够形成具有极高的析像性、边缘粗糙度小、矩形度优异的图案。为了解决上述课题，提供一种高分子化合物，其特征在于，含有由下述通式(1c)所示的重复单元、以及选自由下述通式(2)所示的重复单元及由下述通式(3)所示的重复单元中的1种以上的重复单元； 式(1c)中，Mb+表示由下述通式(a)所示的锍阳离子或由下述通式(b)所示的碘鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN102221783B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201110122793.0
申请日：2011-02-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，该组合物包括具有其中键合的胺结构的聚合物PB与包括具有用酸不稳定保护基保护的酸性侧链的重复单元和在侧链上具有酸产生部分的重复单元的聚合物PA。
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公开(公告)号：CN101982808B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201010552383.5
申请日：2010-05-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 一种包含聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物，所述聚合物包含具有足够极性以赋予聚合物粘附力的单元和在酸作用下变为碱溶性的酸不稳定单元。所述聚合物包含具有通式(1)的重复单元，其中R1为H、F、CH3或CF3，Rf为H、F、CF3或CF2CF3，A是二价的烃基，R2、R3、R4为烷基、烯基、氧代烷基、芳基、芳烷基或芳氧代烷基。包含芳环结构的重复单元的存在量为≥60mol％，而具有通式(1)的重复单元的存在量＜5mol％。
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公开(公告)号：CN101943864A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010221430.8
申请日：2010-06-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种正型光阻组合物，其至少含有：(A)基础树脂，其是具有由酸不稳定基保护的酸性官能基的碱不溶性或难溶性的树脂，且在此酸不稳定基脱离时变为碱可溶性；(B)产酸剂；及(C)作为碱性成分的含氮化合物；其特征在于：所述基础树脂含有以下述通式(1)所表示的重复单元，并含有一种或两种以上的以下述通式(2)及/或通式(3)所表示的重复单元，而且，构成所述基础树脂的全部重复单元中，含有70摩尔％以上的以下述通式(1)、通式(2)和通式(3)所表示的重复单元。根据本发明，可以提供一种在用以进行微细加工的光刻，特别是使用KrF激光、极端紫外线、电子束、X射线等作为曝光源的光刻中，耐蚀刻性和解像性优异，即使在基板表面也可以形成良好的图案形状的正型光阻组合物，以及使用此正型光阻组合物的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN101923288A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010289418.0
申请日：2010-06-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045
Abstract: 一种聚合物，包含高比例的含芳环结构单元，且侧链上含芳香磺酸锍盐，该聚合物用于形成化学放大正性光致抗蚀剂组合物，该组合物对于形成具有高抗蚀性的抗蚀图案是有效的。所述聚合物克服了在用于聚合和纯化的溶剂中以及抗蚀剂溶剂中的溶解问题。
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