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公开(公告)号：CN118165638A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202311672809.4
申请日：2023-12-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及导电性高分子组成物、被覆物、及图案形成方法。课题是形成电子束抗蚀剂描绘用电荷耗散膜的导电性高分子组成物。解决手段是一种导电性高分子组成物，含有(A)具有式(1)的重复单元1种以上的聚苯胺系导电性高分子、及(B)含式(2‑1)或(2‑2)的阳离子的碳酸氢盐。#imgabs0#R1～R4是氢原子、酸性基团、羟基、硝基、卤素原子、直链状或分支状的烷基、含杂原子的烃基、或借由卤素原子经部分取代的烃基。X+ (2‑1)#imgabs1#X是选自锂、钠、钾、铯的1价碱金属，R101～R104是氢原子、烷基、烯基、氧代基烷基、氧代基烯基、芳基、芳烷基、或芳基氧代基烷基。R101与R102、R103与R104、R101与R102与R104亦可形成环。
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公开(公告)号：CN116360217A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202211633529.8
申请日：2022-12-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，其能形成具有极高分辨率，LER小而矩形性优异且能形成显影负载的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含基础聚合物，该基础聚合物含有：包括含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、或包括含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物及包括含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔％以上。
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公开(公告)号：CN114924463A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210127488.9
申请日：2022-02-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获得改善图案形成时的分辨率且减少LER及LWR的图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷(sulfurane)或硒烷(selenurane)化合物，以下式(A1)表示，及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物。式中，M为硫原子或硒原子。
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公开(公告)号：CN109212903A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201810721204.2
申请日：2018-07-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及(B)包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物。[化学式1][化学式2]
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公开(公告)号：CN107688278A
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201710659370.X
申请日：2017-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及负型抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法。本发明提供了一种包含(A)甜菜碱型的锍化合物和(B)聚合物的负型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物对于在曝光步骤期间控制酸扩散是有效的，且在图案形成期间呈现出非常高的分辨率，并形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN102040700B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201010505496.X
申请日：2010-10-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , C08F8/12 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F8/12 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F220/18 , C08F2220/1825 , C08F2220/1833 , C08F2220/185 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , C08F220/30 , C08F230/08
Abstract: 提供一种使受保护的聚合物去保护的方法，在包含具有用酰基保护的酚羟基的单元结构的聚合物的去保护反应中，该方法能够在短时间段内使该聚合物脱去酰基同时保持其它结构，并且能够取出已脱去酰基的聚合物同时高度抑制已脱去酰基的聚合物被除了参与反应的聚合物之外的物质污染。更具体地，提供一种使受保护的聚合物去保护的方法，至少包括在有机溶剂中溶解所述受保护的聚合物和去保护试剂的步骤，所述受保护的聚合物至少包含具有用酰基保护的酚羟基的单元结构，所述去保护试剂选自由各自具有1.00以下的ClogP值的伯胺化合物或仲胺化合物，条件是在所述仲胺化合物中，耦合至氨基氮原子的两个碳原子的任一个都不是三代的。所述伯胺化合物或仲胺化合物各自优选由式HNR12-nR2n(1)表示。
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公开(公告)号：CN102221783A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110122793.0
申请日：2011-02-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，该组合物包括具有其中键合的胺结构的聚合物PB与包括具有用酸不稳定保护基保护的酸性侧链的重复单元和在侧链上具有酸产生部分的重复单元的聚合物PA。
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公开(公告)号：CN101982808A
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：CN201010552383.5
申请日：2010-05-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 一种包含聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物，所述聚合物包含具有足够极性以赋予聚合物粘附力的单元和在酸作用下变为碱溶性的酸不稳定单元。所述聚合物包含具有通式(1)的重复单元，其中R1为H、F、CH3或CF3，Rf为H、F、CF3或CF2CF3，A是二价的烃基，R2、R3、R4为烷基、烯基、氧代烷基、芳基、芳烷基或芳氧代烷基。包含芳环结构的重复单元的存在量为≥60mol％，而具有通式(1)的重复单元的存在量＜5mol％。
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