一种激光修补石英坩埚的装置

    公开(公告)号:CN104609706A

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201510083253.4

    申请日:2015-02-15

    Inventor: 司继成

    CPC classification number: C03C23/0025 C03B20/00

    Abstract: 本申请公开了一种激光修补石英坩埚的装置,包括激光装置和送料装置,激光装置包括壳体和设于壳体内的CO2激光发生器,壳体设有激光出口;送料装置包括料斗和连通料斗出口的送料管,料斗设于壳体;由此,利用激光熔融石英坩埚的污点,使其气化,再填充石英砂,利用激光熔融修补,来达到修补石英坩埚的污点,使其达到合格的要求,成本低,使用方便。

    一种制备石英坩埚的石膏模具旋转喷水装置

    公开(公告)号:CN104511966A

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201310469700.0

    申请日:2013-09-28

    Applicant: 胡潇勇

    Inventor: 胡潇勇

    CPC classification number: B28B17/00 C03B20/00

    Abstract: 一种制备石英坩埚的石膏模具旋转喷水装置,由机架(1)、电机(2)、水管(3)、喷头(4)、铁臂(5)所组成,电机(2)位于机架(1)内,与机架(1)相连接,铁臂(5)与机架(1)相连接,水管(3)依附铁臂、一头与水源相连接,穿过电机(2),另一头与喷头(4)相连接。它是设计科学合理、结构简单、安装方便快捷、省工省时的一种制备石英坩埚的石膏模具旋转喷水装置,广泛适用于生产石英坩埚作业,是生产石英坩埚企业石膏模具喷水装置的首选产品。

    用于制造合成的石英玻璃晶粒的方法

    公开(公告)号:CN104271519A

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201380018310.X

    申请日:2013-03-20

    Abstract: 石英玻璃晶粒的制造包括:使热解制造的硅酸粒化以及形成SiO2颗粒(9)、通过在含卤素的气氛中加热来干燥并且净化SiO2-颗粒(9)以及在处理气体中使SiO2-颗粒玻化,该处理气体包含至少30%体积百分比的氦气和/或氢气。该过程是耗时和高成本的。为了说明从多孔的SiO2颗粒(9)出发使得能够廉价地制造适于熔化由石英玻璃制成的无气泡的部件的、紧密的合成石英玻璃晶粒的方法,按本发明提出,分别在转筒烘箱(1)的围绕中轴线(7)旋转的转筒(6)中进行SiO2颗粒(9)的净化和玻化以及玻化的石英玻璃晶粒的后处理,其中转筒(6)在玻化时具有由陶瓷材料制成的内壁,并且其中玻化的石英玻璃晶粒在包含少于20%的氦气或氢气的气氛中在300℃或更高的操作温度中并且在至少10分钟的操作持续时间中经历后处理。

    一种重复多次拉制单晶硅用石英坩埚及其制造方法

    公开(公告)号:CN104150755A

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201410384473.6

    申请日:2014-08-07

    CPC classification number: C03B20/00

    Abstract: 本发明公开一种重复多次拉制单晶硅用石英坩埚及其制造方法,其中石英坩埚内表面1mm深度内的微气泡体积密度(气泡体积/总体积×100%)低于0.0005%;该方法包括在石英坩埚熔制过程中通入氢气、氮气、氦气、氩气或其他惰性气体中的一种气体或几种混合气体,取代石英砂颗粒间残留的空气,对石英玻璃坩埚内表面再熔融精细化处理,去除气泡空乏层中包裹的微气泡,并且能够抑制残留的微气泡在坩埚高温使用过程中的膨胀现象。用此方法制备的石英坩埚能够长时间承受连续高温的特点,足可满足单晶厂家多次投料、拉制单晶的需求。

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