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公开(公告)号：CN105308507B
公开(公告)日：2018-12-25
申请号：CN201480033588.9
申请日：2014-05-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 本发明提供一种能够以高生产率来生产高品质的基板的基板处理装置以及器件制造方法。本基板处理装置以及器件制造方法具有：第一支承构件，其在照明区域和投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其在照明区域和投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，使该第一支承构件所支承的光罩和基板中的某一方在扫描曝光方向上移动。投影光学系统在基板的曝光面上，将在扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至投影区域。
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公开(公告)号：CN109061874A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201811074000.0
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B26/10 , G02B26/12 , G02F1/03 , G02F1/11 , G02F1/37 , G03F7/20 , G03F7/24
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。
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公开(公告)号：CN108919607A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201810608818.X
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN108762010A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810480108.3
申请日：2015-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/30 , G03F7/24 , G03F7/16 , G03F9/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , B65H18/10 , B65H20/02 , B65H20/24 , B65H20/34 , B65H23/188
Abstract: 本发明提供提供一种处理系统，即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
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公开(公告)号：CN105359040B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201480037519.5
申请日：2014-03-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107390480A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710546115.4
申请日：2014-03-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24
Abstract: 提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。
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公开(公告)号：CN107272353A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710536857.9
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN107255858A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710321582.7
申请日：2012-10-11
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 本发明提供一种基底处理装置，该基底处理装置，将反射性光掩膜图案像投影曝光于感应基底，具备：光掩膜保持构件，保持光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于光掩膜图案上一部分照明区域产生的反射光束往感应基底投射；光学构件包含：为对照明区域落斜照明而配置于投影光学系统的光路内、使往照明区域的照明光与从照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为照明光的源的光源像，经由投影光学系统的一部分光路与光学构件使来自光源像的照明光往所述照明区域，且将与光源像在共轭面形成于光学构件的反射或通过部分的位置或近旁。本发明能忠实曝光较大光掩膜图案。
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公开(公告)号：CN106896651A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201710045631.9
申请日：2014-05-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 本发明提供一种曝光方法，经由投影光学系统将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域，所述光罩配置于照明光的照明区域，所述曝光方法包括：在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方；在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方；使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方沿着所述第一面旋转，使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方在扫描曝光方向上移动；和在所述基板的曝光面上，将在所述扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至所述投影区域。
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公开(公告)号：CN106200277A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610576185.X
申请日：2013-03-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
Abstract: 一种处理装置，沿长度方向传送长条且具有挠性的片状基板，同时将元件的图案转印至片状基板上，其具有：旋转圆筒体，具有距规定的轴线为固定半径的圆筒状的外周面，并通过外周面的一部分卷绕并保持片状基板的一部分，同时绕轴线旋转；转印处理部，在保持片状基板的旋转圆筒体的外周面的特定的周向位置上，将图案转印至片状基板上；刻度部，能够与旋转圆筒体一同绕轴线旋转，且具有从轴线沿着规定半径的外周面的周向排列为环状的能够读取的刻度；和多个编码器读头部，配置在与刻度部的外周面相对的周围的2个以上的部位，以读取根据旋转圆筒体的旋转而沿周向移动的刻度，多个编码器读头部中的、特定的2个编码器读头部分别以使从轴线观察到的刻度的读取位置为90±5.8度的角度范围的方式设定。
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