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公开(公告)号：CN117103738A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202310370573.2
申请日：2023-04-10
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供光处理装置及光处理方法，其具有较高的处理能力，能够进行均质的表面改质。光处理装置具备：至少一个光源，其照射属于205nm以下的波段的紫外光；灯室，其覆盖所述至少一个光源，在所述紫外光所出射的方向上具有开口；输送体，其与所述灯室之间隔开间隙，并且将被处理材料以横穿与所述开口对置的位置的方式向一方向输送；加热器，其配置于所述灯室的下游，使所述输送体升温；以及控制部，其控制为一边向所述被处理材料照射所述紫外光一边输送所述被处理材料；所述控制部控制所述加热器而使所述输送体升温，以抑制通过所述至少一个光源进行了升温后的所述输送体的温度降低。
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公开(公告)号：CN103128080A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210482539.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种光照射装置，抑制空气流入至处理对象基板与灯之间，所以可对处理对象基板以高效率来照射光。一种光照射装置，具备：灯罩，内置有朝向沿着基板传送路径传送的处理对象基板的一面照射光的准分子灯；和气体供给单元，对上述处理对象基板与上述准分子灯之间供给惰性气体，在上述基板传送路径上的上述灯罩的上游侧，与该灯罩相邻地形成有压力缓冲空间，上述光照射装置的特征在于，在基板传送路径上的压力缓冲空间的上游侧设置有空气排出单元，该空气排出单元排出沿着处理对象基板的被光照射的一面流动的空气。
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公开(公告)号：CN101431000B
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200810171076.5
申请日：2008-11-06
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种紫外线照射处理装置，防止准分子灯与处理体之间的不希望的放电，不会损伤处理体。上述紫外线照射处理装置包括准分子灯，该准分子灯包括在角部具有弯曲部的扁平筒状放电容器，上述紫外线照射处理装置的特征在于，高压电极与接地电极间的沿面放电距离小于高压电极与处理体间的最短放电距离。
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公开(公告)号：CN108687057B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201810289463.2
申请日：2018-04-03
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种无论被处理体的搬运速度如何都能够以高稳定性进行光清洗的光照射装置。光照射装置向沿着搬运路径搬运的带状的被处理体的一面照射紫外线，其特征在于，具备：灯罩，沿着搬运路径上的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；紫外线灯，设置在所述灯罩内，沿所述被处理体的宽度方向延伸；气体供给单元，向所述灯罩内供给惰性气体；及排气空间形成构件，沿着所述搬运路径上的被处理体的其他面侧的通过平面具有开口，在所述灯罩的开口设有遮蔽体，该遮蔽体在其与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路。
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公开(公告)号：CN110831708B
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN201880044356.1
申请日：2018-07-10
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够与被处理体的输送速度无关地以较高的稳定性进行光清洗的光照射装置。本发明的光照射装置是对沿着输送路径输送的带状的被处理体(W)的一个面照射紫外线的光照射装置，其特征在于，沿着输送路径中的被处理体(W)的一面侧的通过平面具有开口(12H)的灯罩(12)、设置于所述灯罩(12)内的、沿所述被处理体(W)的宽度方向延伸的紫外线灯(11)、和沿着所述输送路径中的被处理体(W)的另一面侧的通过平面具有开口(13H)的排气空间形成部件(13)，上述处理空间用气体为主要成分的惰性气体中混入有含有氧的气体和/或水分的气体，在所述灯罩(12)的开口(12H)上设置有与所述被处理体(W)的两侧缘部之间形成气体流通阻碍用狭路(G)的遮蔽体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110831708A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201880044356.1
申请日：2018-07-10
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够与被处理体的输送速度无关地以较高的稳定性进行光清洗的光照射装置。本发明的光照射装置是对沿着输送路径输送的带状的被处理体(W)的一个面照射紫外线的光照射装置，其特征在于，沿着输送路径中的被处理体(W)的一面侧的通过平面具有开口(12H)的灯罩(12)、设置于所述灯罩(12)内的、沿所述被处理体(W)的宽度方向延伸的紫外线灯(11)、和沿着所述输送路径中的被处理体(W)的另一面侧的通过平面具有开口(13H)的排气空间形成部件(13)，上述处理空间用气体为主要成分的惰性气体中混入有含有氧的气体和/或水分的气体，在所述灯罩(12)的开口(12H)上设置有与所述被处理体(W)的两侧缘部之间形成气体流通阻碍用狭路(G)的遮蔽体。
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公开(公告)号：CN103128080B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201210482539.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种光照射装置，抑制空气流入至处理对象基板与灯之间，所以可对处理对象基板以高效率来照射光。一种光照射装置，具备：灯罩，内置有朝向沿着基板传送路径传送的处理对象基板的一面照射光的准分子灯；和气体供给单元，对上述处理对象基板与上述准分子灯之间供给惰性气体，在上述基板传送路径上的上述灯罩的上游侧，与该灯罩相邻地形成有压力缓冲空间，上述光照射装置的特征在于，在基板传送路径上的压力缓冲空间的上游侧设置有空气排出单元，该空气排出单元排出沿着处理对象基板的被光照射的一面流动的空气。
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公开(公告)号：CN101603640B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200910141353.2
申请日：2009-06-02
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 山森贤治
Abstract: 本发明提供一种紫外线照射装置，它密闭电气设备部，并冷却该密闭的电气设备部的内部。第1发明的紫外线照射装置包括：准分子灯，包括放电容器和隔着该放电容器的放电空间而相对配置的电极；变压器，分别被电连接在多个该准分子灯上；机壳，保持该多个准分子灯和该多个变压器，并具备设在该多个准分子灯和该多个变压器之间的隔壁；以及电气设备部，在该机壳内通过该隔壁而包围该多个变压器；该紫外线照射装置的特征在于，在该电气设备部中，设有冷却机构；在该各变压器的外边，设有风洞体，该风洞体分别包围该各变压器，并且具备隔着该变压器而对置的一对开口部；在该电气设备部的内部，设有从该风洞体的一个开口部向另一个开口部送风的送风机构。
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公开(公告)号：CN102671891A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210067052.1
申请日：2012-03-14
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B08B7/00
Abstract: 提供一种光照射装置，可防止或抑制附着于被照射物的有机物等的污染物与大气中所包含的污染物质的反应生成物附着于被照射物，所以能够可靠完成所需要的光清洗处理。其特征为，具备：准分子灯；灯罩，以包围该准分子灯的方式设置，具有将来自该准分子灯的光向外部射出的开口和将内部的气体排出的气体排出口；以及气体排出机构，将大气从该灯罩的开口向该灯罩的内部导入，并从该灯罩的气体排出口排出；在上述准分子灯上设置有光遮蔽单元，该光遮蔽单元以该准分子灯的放射光不照射到上述灯罩内的形成气体流通路径的壁面的方式遮蔽该放射光。
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公开(公告)号：CN101714497A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910179180.3
申请日：2009-09-29
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种具备以简便的构造抑制氧气浓度变化了的大气的对流所引起的紫外线的测定值变化的光传感器的准分子灯装置。该准分子灯装置，具有收纳测定从准分子灯(2)所放射的紫外准分子光的光传感器(3)及准分子灯的筐体(4)，其特征为：光传感器具有光监测器部(33)、筒状部(31)、及基台部(32)，筒状部具有：从基台部侧朝准分子灯(2)侧所形成的渐次小径化部(313)，比渐次小径化部靠近准分子灯(2)地形成的最小内径部(314)，及由最小内径部朝准分子灯侧所形成的渐次大径化部(315)，测定紫外准分子光时，使从气体导入口(321)所导入的惰性气体通过筒状部(31)内，从筒状部的开口(312)放出。
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