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公开(公告)号:CN1977218B
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200580021603.9
申请日:2005-06-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/1603 , B41J2/1639 , G03F7/0392 , G03F7/2024
Abstract: 提供正型光敏树脂组合物,至少含有:在分子中具有羧酸酐结构的丙烯酸树脂;和当用光辐射时产生酸的化合物。
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公开(公告)号:CN101746143A
公开(公告)日:2010-06-23
申请号:CN200910259421.5
申请日:2009-12-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2002/14467 , Y10T29/494
Abstract: 本发明涉及液体排出头和液体排出头用基板的制造方法。液体排出头包括Si基板和液体供给口,所述Si基板设置有产生用于排出液体的能量的元件,设置所述液体供给口以从第一表面至背面穿过所述Si基板,从而向所述元件供给液体。所述基板的制造方法包括以下步骤:在面取向为{100}的Si基板背面上形成多个凹部,所述凹部面向所述第一表面并沿所述Si基板的 方向成行排列;和使用Si基板{100}面的蚀刻速率比Si基板{110}面的蚀刻速率慢的蚀刻液,经由凹部,通过在Si基板上进行晶轴各向异性蚀刻而形成多个液体供给口。
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公开(公告)号:CN1977218A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200580021603.9
申请日:2005-06-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/1603 , B41J2/1639 , G03F7/0392 , G03F7/2024
Abstract: 提供正型光敏树脂组合物,至少含有:在分子中具有羧酸酐结构的丙烯酸树脂;和当用光辐射时产生酸的化合物。
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公开(公告)号:CN1976811A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200580021431.5
申请日:2005-06-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2002/14475 , G03F7/038
Abstract: 根据本发明,排液头的制造方法包括以下步骤:在其上设置有能量产生元件的基材上沉积用于形成流路的固体层,该能量产生元件用来产生用于排出液体的能量,在其中安装有该固体层的基材上形成用于覆盖该固体层的涂层,通过光刻工艺,在该固体层上形成的涂层中形成用来排出液体的排出口,和将该固体层除去以形成与该能量元件和该排出口连通的流路,其中用于该涂层的材料包含阳离子可聚合化合物、阳离子光致聚合作用引发剂和阳离子光致聚合作用的抑制剂,和其中与其中形成该涂层的排出口的部分形成边界的固体层的材料包含甲基丙烯酸酐和甲基丙烯酸酯的共聚物。
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公开(公告)号:CN1257059C
公开(公告)日:2006-05-24
申请号:CN03146783.0
申请日:2003-07-10
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1628 , B41J2/1404 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1637 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2202/11 , Y10T29/49401
Abstract: 提供使液体流路的3维形状优化,抑制弯曲液面振动,可高速地进行记录液体的再填充的流路形状和制造其喷液头的方法。在已形成了加热器的基板2011上用正型感光材料形成上、下2层结构的液体流路的模图案,对下层来说,在热交联化之后用于液体流路的形成。
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公开(公告)号:CN1475352A
公开(公告)日:2004-02-18
申请号:CN03146787.3
申请日:2003-07-10
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1645 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639
Abstract: 本发明提供一种为了制备便宜、精密、可信度高的液体喷出头的有用的微细结构体和微细空洞结构体的制备方法,还提供一种使用这些微细结构体的制备方法和微细空洞结构体的制备方法的液体喷出头的制备方法和由此得到的液体喷出头。将正型感光性材料作为微细结构体形成用材料使用,所述正型感光性材料含有3元共聚物,所述3元共聚物以丙烯酸酯为主体,含有热交联化用的丙烯酸和用于扩大灵敏度区域的单体单元。
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公开(公告)号:CN102069296B
公开(公告)日:2016-09-07
申请号:CN201010531431.2
申请日:2010-11-04
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/02 , B23K26/18 , B23K26/362 , B23K26/40 , B23K26/60
CPC classification number: B23K26/18 , B23K26/361 , B23K26/40 , B23K26/53 , B23K26/60 , B23K2103/50 , H01L21/268
Abstract: 本发明提供一种能够提高加工形状的精度和加工形状的自由度的激光加工方法。当在作为待加工对象的基板(W)中形成凹部时,用作为第一激光的改性激光(L1)的会聚点(LS1)扫描基板(W)的内部,以在与凹部的底部对应的位置中形成改性层(Wr),所述改性层(Wr)成为激光加工区域(R1)的边界(改性层形成步骤)。然后,用作为第二激光的会聚加工激光照射基板(W)的表面(Wa)以去除和加工由改性层(Wr)限定的激光加工区域(R1),以由此形成凹部(去除/加工步骤)。
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公开(公告)号:CN103358702B
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201310123781.9
申请日:2013-04-10
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/14 , B41J2/14129 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , B41J2202/13
Abstract: 本发明涉及液体排出头及其制造方法。本发明的液体排出头的制造方法包括以下步骤:在基板的第一面上,在对应于形成独立供给口的区域的部分上形成蚀刻停止层;从第二面侧对所述基板进行干法蚀刻处理,直到被蚀刻的部分到达所述蚀刻停止层;并且在进行所述干法蚀刻处理之后,通过各向同性蚀刻去除所述蚀刻停止层以形成独立供给口,其中所述各向同性蚀刻是以在所述蚀刻停止层的侧面周围形成对所述各向同性蚀刻具有耐蚀刻性的侧部蚀刻阻止部的状态进行。
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公开(公告)号:CN103158359A
公开(公告)日:2013-06-19
申请号:CN201210532378.7
申请日:2012-12-11
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1637 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明涉及液体喷出头的制造方法。提供一种液体喷出头的制造方法,所述液体喷出头包括具有能量产生元件的基板以及与所述基板接合以形成喷出液体的喷出口和与所述喷出口相连通的流路的壁构件,所述方法以如下顺序包括:步骤(B)在所述基板上形成用于形成所述流路的流路图案形成体、步骤(C)在所述流路图案形成体的周围形成用于形成所述壁构件的覆盖树脂层和步骤(D)以与所述基板的表面形状的图案对应的方式将所述基板的表面形状转印至所述覆盖树脂层的表面。
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公开(公告)号:CN101746143B
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:CN200910259421.5
申请日:2009-12-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2002/14467 , Y10T29/494
Abstract: 本发明涉及液体排出头和液体排出头用基板的制造方法。液体排出头包括Si基板和液体供给口,所述Si基板设置有产生用于排出液体的能量的元件,设置所述液体供给口以从第一表面至背面穿过所述Si基板,从而向所述元件供给液体。所述基板的制造方法包括以下步骤:在面取向为{100}的Si基板背面上形成多个凹部,所述凹部面向所述第一表面并沿所述Si基板的 方向成行排列;和使用Si基板{100}面的蚀刻速率比Si基板{110}面的蚀刻速率慢的蚀刻液,经由凹部,通过在Si基板上进行晶轴各向异性蚀刻而形成多个液体供给口。
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